-
公开(公告)号：WO2022240220A1
公开(公告)日：2022-11-17
申请号：PCT/KR2022/006844
申请日：2022-05-12
Applicant: 성균관대학교산학협력단
IPC: C09G1/02 , C09K3/14 , C09K3/1409 , C09K3/1463
Abstract: 본 발명에 따른 수분산액에 포함된 무기 입자는 결정질과 무정형의 소립자의 응집으로 구성되며, 구형이고 매끄러운 표면을 나타낸다. 무기 입자의 구형 외관, 낮은 결정도 및 좁은 입도분포는 CMP 공정에서 스크래치 결함을 줄이는데 더욱 유리하다. 또한 무기물 입자 표면의 소립자들이 더 많은 활성 부위를 제공하여 연마율(removal rate)이 우수하므로 차세대 CMP 연마재로 유리하다. 또한 본 발명에 따른 수분산액은 암모늄염을 더 포함하며, 나이트라이드 막에 대한 가수분해를 촉진하여 나이트라이드 막질에 대한 연마율을 향상시키는 효과가 있다.
-
公开(公告)号：WO2022240209A1
公开(公告)日：2022-11-17
申请号：PCT/KR2022/006798
申请日：2022-05-12
Applicant: 성균관대학교산학협력단
Abstract: 본 발명에 따른 수분산액에 포함된 무기 입자는 결정질과 무정형의 소립자의 응집으로 구성되며, 구형이고 매끄러운 표면을 나타낸다. 무기 입자의 구형 외관, 낮은 결정도 및 좁은 입도분포는 CMP 공정에서 스크래치 결함을 줄이는데 더욱 유리하다. 또한 무기물 입자 표면의 소립자들이 더 많은 활성 부위를 제공하여 연마율(removal rate)이 우수하므로 차세대 CMP 연마재로 유리하다. 또한 본 발명에 따른 수분산액은 아미노산을 더 포함하며, 아미노산이 산화규소 웨이퍼 표면에 흡착되어 산화규소 웨이퍼와 무기입자 사이의 전기적 이끌림을 강화시킴으로써 연마율을 더욱 향상시키는 효과가 있다.
-
公开(公告)号：KR101832808B1
公开(公告)日：2018-04-13
申请号：KR1020170055139
申请日：2017-04-28
Applicant: 주식회사 마리알로 , 성균관대학교산학협력단
Abstract: 본원은폴리싱장치에관한것으로서, 저가의장비로대면적에대한폴리싱작업이가능하게하고, 여러사이즈에대응하여폴리싱작업을할 수있는간단한구조의폴리싱장치를제공하는것을목적으로한다. 상기한과제를달성하기위하여, 본원의한 실시예에따르면대상체가안착되어고정되는정반을포함하는베이스부; 및상기대상체에접촉되어폴리싱을수행하는헤드부를포함하되, 상기베이스부는상기헤드부에대하여상대적으로수평방향이동가능한것인폴리싱장치가제공된다.
Abstract translation: 本文所涉及的研磨装置，并且使得在设备的低成本大面积的抛光作用，其目的是提供一种具有简单的结构，可以是响应于各种尺寸的抛光操作的抛光装置。 为了实现上述目的，根据本发明的一个实施例，提供了一种基座单元，该基座单元包括：基座，在该基座上安放和固定对象; 以及用于进行与物体接触的抛光的头部，其中基部可相对于头部在水平方向上移动。
-
公开(公告)号：KR101832809B1
公开(公告)日：2018-02-27
申请号：KR1020170055071
申请日：2017-04-28
Applicant: 성균관대학교산학협력단 , 주식회사 마리알로
CPC classification number: C09G1/02 , C09K3/1409 , C09K3/1463
Abstract: 연마입자; 전이금속; 및수용성분산매질을포함하는것인, 슬러리조성물에관한것이다.
-
-
-
Search Results
4
records
(took 0.025 seconds)
