Abstract:
PURPOSE: A method for absorption-eliminating volatile organic compounds using a coverage adjusted titanium dioxide thin film is provided to reuse the titanium dioxide thin film under deficient light sources. CONSTITUTION: A titanium dioxide thin film with an adjusted coverage is obtained by partially depositing a titanium dioxide thin film on a carrier. In order to adjust the coverage of the titanium dioxide thin film, the deposition cycle of an atomic layer is adjusted. Volatile organic compounds are absorbed using the titanium dioxide thin film under deficient light sources. The titanium dioxide thin film with the absorbed volatile organic compounds is photo-catalytically decomposed to eliminate the volatile organic compounds. The titanium dioxide thin film without the volatile organic compounds is reused for absorbing volatile organic compounds under the deficient light sources.
Abstract:
본 발명은 광원부족 조건에서 덮힘율이 조절된 이산화 티타늄 박막을 이용한 휘발성 유기화합물의 흡착 제거 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 지지체에 이산화 티타늄의 덮힘율을 조절하여 이산화 티타늄이 부분적으로 증착된 이산화 티타늄 박막을 제조하고, 빛이 없는 조건에서 상기 이산화 티타늄 박막을 이용하여 휘발성 유기화합물을 흡착 제거하는데 사용한 다음, 상기 흡착 제거에 사용된 상기 이산화 티타늄 박막을 광촉매적으로 분해하여 흡착된 VOC를 제거한 뒤, 상기 이산화 티타늄 박막을 VOC 흡착 제거에 재사용하는 방법에 관한 것이다.
Abstract:
본 발명은 실리콘이 포함된 폴리머를 전구체로 이용하여 실리콘 산화물과 다이아몬드상 카본을 동시에 증착시켜 초발수성 물질을 제조하는 방법 및 이로부터 제조된 초발수성 물질에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 전구체로서 실리콘이 포함된 폴리머를 이용하고 이를 가열증착시켜 대상 물질 표면 상에 실리콘 산화물과 다이아몬드상 카본을 동시에 증착시킴으로써 자외선과 강한 산성 및 염기성 용액에 대한 내구성 및 안정성이 뛰어난 초발수성 물질을 제조하는 방법과 이로부터 제조된 초발수성 물질에 관한 것이다.
Abstract:
본 발명은 니켈 표면의 일부분에 금속 산화물이 증착되어 있는 것을 특징으로 하는 이산화탄소 개질 촉매 및 원자층 증착법을 사용하는 이의 제조방법에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 밸브의 미세 조절을 통해 표면적이 작은 시료뿐만 아니라 적은 양의 시료에 대해서도 촉매 활성을 평가할 수 있는 본 발명에 따른 이산화탄소 개질 촉매의 촉매 반응성을 평가하는 장치를 더 제공한다. 본 발명에 따른 이산화탄소 개질 촉매는 코크스 침적을 효과적으로 방지하고, 이산화탄소 개질 반응 시에도 거친 표면 구조를 유지함으로써 넓은 표면적을 가진다는 점에서 촉매의 효율을 향상시킬 수 있다.
Abstract:
PURPOSE: A metal oxide deposited nickel-based carbon dioxide reforming catalyst, a manufacturing method of the same, and an apparatus for evaluating carbon dioxide reforming reactivity using the same are provided to improve the efficiency of the catalyst. CONSTITUTION: A carbon dioxide reforming catalyst includes metal oxides deposited on a part of the surface of nickel. The metal oxides are selected from a group including TiO_2, ZrO_2, Al_2O_3, Fe_2O_3, Fe_3O_4, Ga_2O_3, SnO_2, Sb_2O_3, SiO_2, MnO_2, Mn_2O_3, Mn_3O_4, NiO_2, CeO_2, Y_2O_3, La_2O_3, K_2O, MgO, Cr_2O_3, La_2O_3, Ce_(1-x)Zr_xO_2, LaAl_2O_4, and LaNi_2O_4. The deposition thicknesses of the metal oxides are in a range between 1 and 20nm. The metal oxides are deposited in the shapes of particles and deposited on the surface of the nickel by an atomic layer deposition method.
Abstract:
PURPOSE: A method of preparing superhydrophobic materials by depositing silicon oxide and diamond-like carbon using polymer containing silicon as a precursor and superhydrophobic materials prepared by using the same are provided to evaporate a thin and uniform film at powder of nano size. CONSTITUTION: A manufacturing method of preparing superhydrophobic materials is as follows. Polymer(2) including silicone atoms and carbon atoms is prepared as a precursor. The precursor is heated. Silicon oxide and DLC are evaporated in the surface of a target at the same time. The superhydrophobic material is manufactured.