Abstract:
The present invention relates to a method for preparing a carbon filter having porous nickel deposited thereon by depositing nickel on the surface of carbon fibers via an electroless nickel plating method and forming pores on the surface via thermal treatment at a temperature ranging from 300°C to 800°C. The method for preparing a carbon filter having porous nickel deposited thereon according to the present invention enables a user to simply form nickel nanopores via electroless plating and thermal treatment at a temperature ranging from 300°C to 800°C. Accordingly the preparing method is simpler and economical. Also the carbon filter can be used as a catalyst for adsorbing the particles of foreign materials because the size and distribution of the pores can be controlled by simple temperature adjustment. Also the carbon filter can be used as a medium for depositing metal or a metal oxide because the metal and the metal oxide can be supported on the carbon filter having porous nickel deposited thereon.
Abstract:
본 발명은 무기 분말 입자의 표면을 실리콘-탄소 복합체로 코팅하는 방법 및 상기 방법으로 코팅된 무기 분말 입자에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 무기 분말 입자와 고형화된 실리콘 유기 고분자를 혼합한 다음 상기 혼합물을 가열함으로써 무기 분말 입자의 표면을 실리콘-탄소 복합체로 코팅하는 방법 및 상기 방법으로 코팅된 무기 분말 입자에 관한 것이다.
Abstract:
본 발명은 광원부족 조건에서 덮힘율이 조절된 이산화 티타늄 박막을 이용한 휘발성 유기화합물의 흡착 제거 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 지지체에 이산화 티타늄의 덮힘율을 조절하여 이산화 티타늄이 부분적으로 증착된 이산화 티타늄 박막을 제조하고, 빛이 없는 조건에서 상기 이산화 티타늄 박막을 이용하여 휘발성 유기화합물을 흡착 제거하는데 사용한 다음, 상기 흡착 제거에 사용된 상기 이산화 티타늄 박막을 광촉매적으로 분해하여 흡착된 VOC를 제거한 뒤, 상기 이산화 티타늄 박막을 VOC 흡착 제거에 재사용하는 방법에 관한 것이다.
Abstract:
본 발명은 실리콘이 포함된 폴리머를 전구체로 이용하여 실리콘 산화물과 다이아몬드상 카본을 동시에 증착시켜 초발수성 물질을 제조하는 방법 및 이로부터 제조된 초발수성 물질에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 전구체로서 실리콘이 포함된 폴리머를 이용하고 이를 가열증착시켜 대상 물질 표면 상에 실리콘 산화물과 다이아몬드상 카본을 동시에 증착시킴으로써 자외선과 강한 산성 및 염기성 용액에 대한 내구성 및 안정성이 뛰어난 초발수성 물질을 제조하는 방법과 이로부터 제조된 초발수성 물질에 관한 것이다.
Abstract:
본 발명은 파우더형 광촉매에 전자빔 가속기를 이용하여 전자빔을 조사하여 상기 광촉매의 표면을 개질하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는, 휘발성 유기화합물 제거용 촉매의 제조방법에 관한 것이다. 다른 하나의 양태로서 본 발명은 상술된 휘발성 유기화합물 제거용 촉매의 제조방법에 의해 제조되는 휘발성 유기화합물 제거용 촉매에 관한 것이다. 또다른 하나의 양태로서 본 발명은 (1) 상술된 휘발성 유기화합물 제거용 촉매의 제조방법에 의해 휘발성 유기화합물 제거용 촉매를 제조하는 단계; 및 (2) 상기 휘발성 유기화합물 제거용 촉매를 이용하여 휘발성 유기화합물을 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는, 휘발성 유기화합물 제거 방법에 관한 것이다.
Abstract:
본 발명은 분말입자 또는 섬유를 반응용기 하부에 위치시키고 이와 접촉되지 않도록 상부에 실리콘 유기 고분자를 위치시킨 후 가열하는 단계(단계 1) 및 가열에 의한 실리콘 유기 고분자가 기상으로 분말입자 또는 섬유에 증착되어 막을 형성하는 단계(단계 2)를 포함하는 방법에 의해서 제조되는 분말입자 또는 섬유 표면에 실리콘-탄소 복합체가 코팅되어 있는 수용액 상에서 기름 및 유기물만을 선택적으로 흡착하는, 기름 및 유기물 제거용 초소수성 분말 입자 또는 섬유에 관한 것이다. 본 발명에 따른 실리콘-탄소 복합체가 코팅되어 있는 기름 및 유기물 제거용 분말 입자 또는 섬유는 수용액 상에서 기름 및 유기물만을 선택적으로 흡착할 수 있으며 물과는 전혀 반응하지 않는바 해수 및 하천 등에서 유기오염물만을 선택적으로 제거할 수 있는 효과가 있다. 또한 유기물 제거용 분말입자를 자성을 갖는 분말입자로 제조할 경우, 외부 자기장을 이용하여 유기물을 흡착한 분말입자를 손쉽게 수거할 수 있는 효과가 있다.
Abstract:
The present invention relates to a method for coating surfaces of fine particles with a silicon-carbon complex and a silicon-carbon complex surface-coated super-hydrophobic fine particles prepared by the method, and more specifically, a method for coating surfaces of fine particles with a silicon-carbon complex by positioning a liquid- or gel-phase silicon organic polymer in a lower portion of a reaction case and positioning fine particles on a net type separator to form a layered structure, followed by heating; to a silicon-carbon complex surface-coated super-hydrophobic fine particles prepared by the method; and to a composition for removing oil containing the fine particles. The silicon-carbon complex coated super-hydrophobic fine particles according to the present invention selectively reacts with oil to gel the oil in an aqueous medium but hardly reacts with water, thereby selectively removing only oils in the seawater, stream, and the like. Further, in cases where the particles are colored, the oil which is difficult to differentiate from water when being mixed with the water can be effectively removed.
Abstract:
PURPOSE: A method for absorption-eliminating volatile organic compounds using a coverage adjusted titanium dioxide thin film is provided to reuse the titanium dioxide thin film under deficient light sources. CONSTITUTION: A titanium dioxide thin film with an adjusted coverage is obtained by partially depositing a titanium dioxide thin film on a carrier. In order to adjust the coverage of the titanium dioxide thin film, the deposition cycle of an atomic layer is adjusted. Volatile organic compounds are absorbed using the titanium dioxide thin film under deficient light sources. The titanium dioxide thin film with the absorbed volatile organic compounds is photo-catalytically decomposed to eliminate the volatile organic compounds. The titanium dioxide thin film without the volatile organic compounds is reused for absorbing volatile organic compounds under the deficient light sources.