Abstract:
본원은, 그래핀 전극-분자 박막 복합 구조체에 관한 것으로서, 구체적으로, 제 1 그래핀 전극 및 제 2 그래핀 전극 사이에 형성된 자기조립 단분자층을 포함하며, 상기 제 1 그래핀 전극과 상기 자기조립 단분자층은 화학적으로 결합된 것이며, 상기 제 2 그래핀 전극과 상기 자기조립 단분자층은 물리적으로 결합된 것인, 그래핀 전극-분자 박막 복합 구조체에 관한 것이다.
Abstract:
PURPOSE: A method for fabricating a field effect transistor based on a reduced graphene oxide using a floor contact graphene oxide is provided to efficiently manufacture a graphene oxide channel having a single layer or a few layers by using solution pre-processing and spin coating which can improve solvent dispersion. CONSTITUTION: A silicon oxide substrate(120) is formed on a silicon substrate(110). An electrode(130) reacting with a source electrode and a drain electrode is formed on the silicon oxide substrate. A graphene oxide dispersion solution is coated on the substrates. A graphene oxide is adsorbed between the drain electrode and the source electrode. The adsorbed graphene oxide is reduced.
Abstract:
본 발명은 바닥접촉식 그래핀옥사이드 채널 또는 환원그래핀옥사이드 채널의 전계효과 트랜지스터 제조방법 및 이에 의해 제조된 바닥접촉식 전계효과 트랜지스터를 제공한다. 구체적으로, 본 발명은 기판상에 트랜지스터의 소스 전극과 드레인 전극으로 작용하는 전극을 형성하는 단계; 그래핀 옥사이드 분산 용액을 상기 기판에 도포하여 상기 드레인 전극과 소스 전극의 사이 채널이 형성될 영역에 그래핀옥사이드를 흡착시키는 단계; 및 상기 흡착된 그래핀옥사이드를 환원시키는 단계를 포함하는 바닥접촉식 전계효과 트랜지스터의 제조방법을 제공한다.