公开(公告)号：KR100865911B1

公开(公告)日：2008-10-29

申请号：KR1020070011531

申请日：2007-02-05

Applicant: 성균관대학교산학협력단

Inventor： 송준태 ,  황현석

IPC: B81C1/00

CPC classification number: B81C1/00944 ,  B81C2201/0108

Abstract: 본 발명은 미세 구조물 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 초소형 정밀기계(Micro Electro Mechanical System, MEMS)의 구조물 제조방법에 있어서, 실리콘 기판위에 희생층 물질을 도포하여 패터닝(patterning)하고, 상기 희생층 물질과 동일한 물질의 포스트를 형성하는 공정을 포함하는 제조방법을 제공함으로써, 미세 구조물 제조 시 점착을 미연에 방지하며, 1번의 공정만을 추가하여 간편하게 포스트를 제조할 수 있고, 희생층 물질로 포토레지스트를 사용하기 때문에 원하는 형태의 희생층을 쉽게 제작할 수 있는 등의 효과가 있다.
미세 구조물, 초소형 정밀기계(Micro Electro Mechanical System, MEMS), 포스트(post), 포토레지스트

公开(公告)号：KR1020080073034A

公开(公告)日：2008-08-08

申请号：KR1020070011531

申请日：2007-02-05

Applicant: 성균관대학교산학협력단

Inventor： 송준태 ,  황현석

IPC: B81C1/00

CPC classification number: B81C1/00944 ,  B81C2201/0108

Abstract: A fabricating method of microstructures is provided to prevent adhesion beforehand by pattering sacrificial layer material formed on a substrate and forming a post of the same material as the sacrificial layer material. A fabricating method of microstructures includes the steps of: spreading and pattering photoresist on a silicon substrate(100) as a sacrificial layer(200); forming a post(300) by using photoresist which is the same material as the sacrificial layer; evaporating an aluminum structure layer(400) by using an evaporator; removing the post with oxygen plasma asher, and leaving a large suspended part or a cantilever which is the aluminum structure layer.

Abstract translation: 提供一种微结构的制造方法，以通过图案化形成在基板上的牺牲层材料和形成与牺牲层材料相同的材料的柱来预先粘附。 微结构的制造方法包括以下步骤：在作为牺牲层（200）的硅衬底（100）上铺展和图案化光刻胶; 通过使用与牺牲层相同的材料的光致抗蚀剂形成柱（300）; 通过使用蒸发器蒸发铝结构层（400）; 用氧等离子体灰浆除去柱子，并留下作为铝结构层的大悬浮部分或悬臂。