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公开(公告)号：KR101459403B1
公开(公告)日：2014-11-07
申请号：KR1020127033827
申请日：2011-06-27
Applicant: 스미토모덴키고교가부시키가이샤
IPC: B01J23/755 , B01J23/86 , B01J19/08 , H01M4/90
CPC classification number: B01D53/326 , B01D53/58 , B01D2257/406 , B01D2258/0266 , C25D15/00 , H01M4/90 , H01M8/1004
Abstract: 가스 분해 등을 수반하는 전기 화학 반응 일반에 있어서, 그 전기 화학 반응을 고능률로 진행시키는 것이 가능한, 경제성이 우수한, MEA, 연료 전지, 가스 제해(除害) 장치 및, MEA의 제조 방법을 제공한다. 이 MEA(7)는, 다공질 기재(基材; 3)와, 다공질의 애노드(2), 이온 도전성의 고체 전해질(1) 및, 다공질의 캐소드(5)를 적층한 MEA로서, 다공질 기재(3)의 한쪽의 면에, 애노드(2) 또는 캐소드(5)를, 접촉시키고 있고, 다공질의 애노드(2)는, 가스 분해에 대하여 촉매 작용을 갖는 금속의 석출체(21)를 갖는 것을 특징으로 한다.
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公开(公告)号：KR1020170130618A
公开(公告)日：2017-11-28
申请号：KR1020177033247
申请日：2011-11-30
Applicant: 스미토모덴키고교가부시키가이샤 , 도야마 스미토모 덴코우 가부시키가이샤
IPC: C22F1/10 , C22F1/16 , C22C19/03 , C22C13/00 , C23C10/28 , C25D1/08 , C25D3/30 , C25D3/56 , C25D5/50
CPC classification number: H01M4/80 , B22F3/1137 , B22F2998/10 , B32B15/01 , C22C1/00 , C22C1/0433 , C22C19/03 , C22F1/10 , C23C10/28 , C23C30/00 , C23F17/00 , C25D1/003 , C25D1/08 , C25D3/30 , C25D3/562 , C25D5/48 , C25D5/50 , C25D5/505 , H01G11/68 , H01G11/70 , H01M4/0452 , H01M4/0469 , H01M4/661 , H01M4/662 , H01M4/667 , H01M4/8621 , H01M4/8657 , H01M8/0232 , H01M8/0245 , H01M10/0525 , Y02P70/56 , B22F2003/248
Abstract: 리튬이온전지등의전지나커패시터, 연료전지의집전체에적합한, 내식성이우수한금속다공체및, 그의제조방법을제공한다. 니켈다공체에, 적어도니켈과텅스텐을포함하는합금또는적어도주석을포함하는금속을피복하는공정과그 후에열처리의공정을포함하는제조방법, 혹은다공체기재(基材)에니켈도금층을형성한후에, 연속하여, 적어도니켈과, 텅스텐또는주석을포함하는합금도금층을형성하는공정과다공체기재를제거하는공정과금속을환원하는공정을포함하는제조방법으로서, 이들방법에의해, 니켈다공체또는니켈도금층중에, 텅스텐또는주석이확산된금속다공체가얻어진다.
Abstract translation: 适用于锂离子电池等电池或电容器或燃料电池用集电体的耐腐蚀性优异的金属多孔体及其制造方法。 一种制造方法，其特征在于，包括：在上述工序之后，用至少含有镍和钨的合金或至少含有锡的金属覆盖镍多孔体的工序或在多孔基材上制造镍镀层的方法; 一种形成至少包含镍，钨或锡的合金镀层的方法，除去多孔基材的方法和还原金属的方法，其中该方法包括以下步骤：形成镍多孔体或镍镀层 ，得到钨或锡扩散金属多孔体。
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公开(公告)号：KR1020170118701A
公开(公告)日：2017-10-25
申请号：KR1020177019564
申请日：2016-01-22
Applicant: 스미토모덴키고교가부시키가이샤 , 도야마 스미토모 덴코우 가부시키가이샤
CPC classification number: C25D1/08 , B22F1/00 , B22F2301/15 , B22F2304/10 , C22C1/08 , C25D5/50 , C25D5/56
Abstract: 3차원그물코형상구조를갖는수지성형체의골격의표면에, 체적평균입경이 10㎛이하인니켈과첨가금속의니켈합금분말을함유하는도료를도포하는공정과, 상기도료를도포한상기수지성형체의골격의표면에니켈을도금하는공정과, 상기수지성형체를제거하는공정과, 열처리에의해상기첨가금속을상기니켈중에확산시키는공정을갖는니켈합금다공체의제조방법이다.
Abstract translation: 将具有体积平均粒径为10或更小的含镍和添加剂金属镍合金粉末的涂料涂覆在具有三维网状结构的树脂模制品的骨架表面上的步骤; 在表面镀镍的工序，除去树脂成形体的工序和通过热处理使添加金属扩散到镍中的工序。
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公开(公告)号：KR1020130079308A
公开(公告)日：2013-07-10
申请号：KR1020127012836
申请日：2011-04-07
Applicant: 스미토모덴키고교가부시키가이샤
CPC classification number: H01G9/016 , C22C1/08 , C25D5/56 , H01G9/045 , H01G9/155 , H01G11/02 , H01G11/04 , H01G11/26 , H01G11/44 , H01G11/70 , H01G11/74 , H01G11/86 , H01M4/131 , H01M4/661 , H01M4/80 , H01M10/052 , H01M10/399 , Y02E60/13
Abstract: 삼차원 그물코 구조를 갖는 다공질 수지 성형체라도, 수지 성형체의 표면에 알루미늄으로 이루어지는 도전층을 형성하는 도전화 공정과, 당해 도전화된 수지 성형체에 알루미늄을 용융염욕 중에서 도금하는 도금 공정을 구비함으로써, 그의 표면으로의 알루미늄의 도금을 가능하게 하고, 후막(thick film)이 균일한 순도가 높은 알루미늄 구조체를 형성하는 알루미늄 구조체의 제조 방법 및, 대면적의 알루미늄 다공체를 제공한다.
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公开(公告)号：KR1020130061123A
公开(公告)日：2013-06-10
申请号：KR1020127012835
申请日：2011-04-07
Applicant: 스미토모덴키고교가부시키가이샤
CPC classification number: C25D5/56 , C25D1/08 , C25D3/66 , C25D7/00 , H01G11/68 , H01G11/70 , H01M4/661 , H01M4/80 , Y02E60/13
Abstract: 삼차원 그물코 구조를 갖는 수지 다공체를 이용하고, 적어도 표면이 도전화된 수지 형성체에, 알루미늄을 용융염욕 중에서 도금을 행하고, 알루미늄 구조체를 형성하고, 1㎛∼100㎛의 두께를 갖는 알루미늄층으로 이루어지며 알루미늄의 순도 98.0％ 이상, 카본 함유량 1.0％ 이상 2％ 이하, 잔부 불가피 불순물로 이루어지는 알루미늄 다공체로 함으로써, 삼차원 그물코 구조를 갖는 다공질 수지 성형체라도, 그의 표면으로의 알루미늄의 도금을 가능하게 하고, 막두께를 균일하게 형성함으로써 순도가 높은 알루미늄 구조체를 형성한다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101832251B1
公开(公告)日：2018-02-26
申请号：KR1020137013897
申请日：2011-11-30
Applicant: 스미토모덴키고교가부시키가이샤 , 도야마 스미토모 덴코우 가부시키가이샤
CPC classification number: H01M4/80 , B22F3/1137 , B22F2998/10 , B32B15/01 , C22C1/00 , C22C1/0433 , C22C19/03 , C22F1/10 , C23C10/28 , C23C30/00 , C23F17/00 , C25D1/003 , C25D1/08 , C25D3/30 , C25D3/562 , C25D5/48 , C25D5/50 , C25D5/505 , H01G11/68 , H01G11/70 , H01M4/0452 , H01M4/0469 , H01M4/661 , H01M4/662 , H01M4/667 , H01M4/8621 , H01M4/8657 , H01M8/0232 , H01M8/0245 , H01M10/0525 , Y02P70/56 , B22F2003/248
Abstract: 리튬이온전지등의전지나커패시터, 연료전지의집전체에적합한, 내식성이우수한금속다공체및, 그의제조방법을제공한다. 니켈다공체에, 적어도니켈과텅스텐을포함하는합금또는적어도주석을포함하는금속을피복하는공정과그 후에열처리의공정을포함하는제조방법, 혹은다공체기재(基材)에니켈도금층을형성한후에, 연속하여, 적어도니켈과, 텅스텐또는주석을포함하는합금도금층을형성하는공정과다공체기재를제거하는공정과금속을환원하는공정을포함하는제조방법으로서, 이들방법에의해, 니켈다공체또는니켈도금층중에, 텅스텐또는주석이확산된금속다공체가얻어진다.
Abstract translation: 一种锂离子电池，例如电池或电容器，具有优异的适合于燃料电池的集电体的耐腐蚀性，多孔金属材料，并且提供其制造方法。 镍多孔体，至少涂覆该金属或包含至少含有镍和钨，并且在生产过程包括热处理步骤中，基材或多孔体（基材）hanhue形成谜凯尔电镀后，连续锡合金的步骤 的，至少一个制造方法包括减少步骤的步骤，并且所述金属去除步骤和所述多孔基材，以形成包含镍和钨和锡合金电镀层中，通过这些方法，将镍多孔体或镍镀层， 得到钨或锡扩散金属多孔体。
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公开(公告)号：KR101818085B1
公开(公告)日：2018-01-12
申请号：KR1020177033247
申请日：2011-11-30
Applicant: 스미토모덴키고교가부시키가이샤 , 도야마 스미토모 덴코우 가부시키가이샤
IPC: C22F1/10 , C22F1/16 , C22C19/03 , C22C13/00 , C23C10/28 , C25D1/08 , C25D3/30 , C25D3/56 , C25D5/50
CPC classification number: H01M4/80 , B22F3/1137 , B22F2998/10 , B32B15/01 , C22C1/00 , C22C1/0433 , C22C19/03 , C22F1/10 , C23C10/28 , C23C30/00 , C23F17/00 , C25D1/003 , C25D1/08 , C25D3/30 , C25D3/562 , C25D5/48 , C25D5/50 , C25D5/505 , H01G11/68 , H01G11/70 , H01M4/0452 , H01M4/0469 , H01M4/661 , H01M4/662 , H01M4/667 , H01M4/8621 , H01M4/8657 , H01M8/0232 , H01M8/0245 , H01M10/0525 , Y02P70/56 , B22F2003/248
Abstract: 리튬이온전지등의전지나커패시터, 연료전지의집전체에적합한, 내식성이우수한금속다공체및, 그의제조방법을제공한다. 니켈다공체에, 적어도니켈과텅스텐을포함하는합금또는적어도주석을포함하는금속을피복하는공정과그 후에열처리의공정을포함하는제조방법, 혹은다공체기재(基材)에니켈도금층을형성한후에, 연속하여, 적어도니켈과, 텅스텐또는주석을포함하는합금도금층을형성하는공정과다공체기재를제거하는공정과금속을환원하는공정을포함하는제조방법으로서, 이들방법에의해, 니켈다공체또는니켈도금층중에, 텅스텐또는주석이확산된금속다공체가얻어진다.
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公开(公告)号：KR101768562B1
公开(公告)日：2017-08-16
申请号：KR1020137005741
申请日：2011-09-08
Applicant: 스미토모덴키고교가부시키가이샤
CPC classification number: H01G11/30 , C23C14/0005 , C23C14/20 , C25D1/08 , C25D3/66 , C25D5/56 , C25D11/04 , H01M4/661 , H01M4/667 , Y02E60/13
Abstract: 3차원그물코구조를갖는다공질수지성형체를이용한알루미늄구조체의제조방법으로서, 알루미늄표면의산화물의양이적은(산화막의두께가얇음) 알루미늄구조체를형성하는것이가능한방법및, 특히대면적의알루미늄다공체를얻는것이가능한방법을제공한다. 그제조방법은, 우레탄으로이루어지는수지성형체의표면에직접또는다른층을개재하여알루미늄층이형성된알루미늄피복수지성형체를준비하는공정과, 당해알루미늄피복수지성형체를농도 62% 이상의농질산에접촉시켜상기수지성형체를분해하는공정을구비한다.
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公开(公告)号：KR1020130114585A
公开(公告)日：2013-10-17
申请号：KR1020127032625
申请日：2011-05-27
Applicant: 스미토모덴키고교가부시키가이샤
CPC classification number: H01G9/012 , H01G9/04 , Y02E60/13 , Y02T10/7022 , Y10T29/417
Abstract: 정극(正極;10), 부극(負極;20) 및, 이들 전극층(10, 20)의 사이에 배치되는 고체 전해질층(30)을 구비한다. 이 커패시터(100)의 적어도 한쪽의 전극층(10(20))은, Al 다공체(11)와, 이 Al 다공체(11)에 보존유지(保持)되어, 전해질을 분극시키는 전극 재료(12(13))를 구비한다. 그 Al 다공체(11)의 표면의 산소량은, 3.1질량％ 이하이다. Al 다공체(11)의 표면의 산소량이 3.1질량％ 이하라는 것은, Al 다공체(11)의 표면에 고저항의 산화 피막이 거의 형성되어 있지 않은 것과 동일하다. 그 때문에, 이 Al 다공체(11)에 의해 전극층(10(20))의 집전 면적을 크게 할 수 있고, 이로써 커패시터(100)의 용량을 향상시킬 수 있다.
Abstract translation: 电容器具有正极10，负极20和布置在电极层10和20之间的固体电解质层。该电容器100的至少一个电极层的10（20）具有Al多孔体11，并且 保持在该Al多孔体11中以使电解质极化的电极体12（13）。 Al多孔体11的表面的氧含量为3.1质量％以下。 Al多孔体11的表面的氧含量为3.1质量％以下的问题与Al多孔体11的表面上难以形成高电阻氧化膜的情况相同。因此， Al多孔体11可以使电极层10（20）的集电极面积大，能够提高电容器100的容量。
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公开(公告)号：KR101801615B1
公开(公告)日：2017-11-27
申请号：KR1020127032625
申请日：2011-05-27
Applicant: 스미토모덴키고교가부시키가이샤
CPC classification number: H01G9/012 , H01G9/04 , Y02E60/13 , Y02T10/7022 , Y10T29/417
Abstract: 정극(正極;10), 부극(負極;20) 및, 이들전극층(10, 20)의사이에배치되는고체전해질층(30)을구비한다. 이커패시터(100)의적어도한쪽의전극층(10(20))은, Al 다공체(11)와, 이 Al 다공체(11)에보존유지(保持)되어, 전해질을분극시키는전극재료(12(13))를구비한다. 그 Al 다공체(11)의표면의산소량은, 3.1질량% 이하이다. Al 다공체(11)의표면의산소량이 3.1질량% 이하라는것은, Al 다공체(11)의표면에고저항의산화피막이거의형성되어있지않은것과동일하다. 그때문에, 이 Al 다공체(11)에의해전극층(10(20))의집전면적을크게할 수있고, 이로써커패시터(100)의용량을향상시킬수 있다.
Abstract translation: 并且，在正极10与负极20之间以及电极层10与20之间配置有固体电解质层30。 电极层（10，20）的电容器100中的至少一个的，Al多孔体11中，被保持（保持）存储在Al多孔体11中，对电解液的极化电极材料（12（13） ）和。 Al多孔体11的表面的氧含量为3.1质量％以下。 氧在Al多孔体（11）的表面的量低于3.1％（重量），相同的是，Al多孔体（11）的表面上的是基本上不形成涂层的抗氧化性。 因此，可以通过铝多孔体11增加电极层10（20）的集电面积，由此可以提高电容器100的容量。
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