Patent search ap:("아주대학교산학협력단") AND inv:"윤여준" Page 1

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发明授权
나노 구조체의 제조 방법 有权

公开(公告)号：KR102256029B1

公开(公告)日：2021-05-25

申请号：KR1020190154936

申请日：2019-11-27

Applicant: 아주대학교산학협력단

Inventor： 이재진 , 윤여준

IPC: G03F7/00 , G03F7/20 , H01L21/285 , H01L21/027 , H01L21/02 , H01L29/06 , B82B3/00 , B82Y40/00

Abstract: 본개시의기술적사상에의한일 양태에따르면, 포토레지스트층이형성된게르마늄기판상에포커싱층을형성하는단계와, 포커싱층상을노광하여포토레지스트층에나노홀을형성하는단계와, 나노홀을통해노출된게르마늄기판상에금속물질을증착하여금속패턴을형성하는단계, 및게르마늄기판을탈이온수에노출시켜금속패턴과접하는게르마늄기판의상부에나노구조체를형성하는단계를포함하는나노구조체의제조방법이개시된다.

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