구리 코팅을 전해 침착하기 위한 수성의 산성 용액과 방법 및 이 용액의 용도
    1.
    发明公开
    구리 코팅을 전해 침착하기 위한 수성의 산성 용액과 방법 및 이 용액의 용도 有权
    酸性溶液和电解沉积铜涂层的方法,如同使用溶液

    公开(公告)号:KR1020060058109A

    公开(公告)日:2006-05-29

    申请号:KR1020067002737

    申请日:2004-07-28

    CPC classification number: C25D3/38

    Abstract: The aqueous acidic solution for electrolytically depositing high polish, decorative bright, smooth and level copper coatings on large area metal or plastic parts contains a) at least one oxygen-containing, high molecular additive and b) at least one water soluble sulfur compound, wherein the solution additionally contains c) at least one aromatic halogen derivative having the general formula (I), wherein R1, R2, R3, R4, R5 and R6 are each independently radicals selected from the group comprising hydrogen, aldehyde, acetyl, hydroxy, hydroxyalkyl having 1 - 4 carbon atoms, alkyl having 1 - 4 carbon atoms and halogen, with the proviso that the number of residues R1, R2, R3, R4, R5 and R6 which are halogen ranges from 1 to 5.

    Abstract translation: 用于在大面积金属或塑料部件上电解沉积高抛光,光亮和平滑的铜涂层的酸性水溶液含有a)至少一种含氧高分子添加剂和b)至少一种水溶性硫化合物,其中 溶液另外含有c)至少一种具有通式(I)的芳族卤素衍生物,其中R 1,R 2,R 3,R 4,R 5和R 6各自独立地选自氢,醛,乙酰基,羟基,羟烷基 具有1-4个碳原子的烷基,具有1-4个碳原子的烷基和卤素,条件是卤素的残基R 1,R 2,R 3,R 4,R 5和R 6的数目为1至5。

    할로겐화된 또는 유사할로겐화된 단량체 페나지늄 화합물을 포함하는 구리 증착물 전해 증착용 산성 조
    2.
    发明公开
    할로겐화된 또는 유사할로겐화된 단량체 페나지늄 화합물을 포함하는 구리 증착물 전해 증착용 산성 조 有权
    用于电沉积含有羟基化或单酯化单体化合物的铜沉积物的酸性浴

    公开(公告)号:KR1020060121211A

    公开(公告)日:2006-11-28

    申请号:KR1020067012131

    申请日:2004-11-09

    CPC classification number: C25D3/38 C07D241/46

    Abstract: For manufacturing particularly uniform and mirror bright copper coatings that are leveled and ductile as well using a relatively high current density, halogenated or pseudohalogenated monomeric pheanzinium compounds or a purity at least 85 mole-% and having the general chemical formula (I) are utilized in which R1, R 2, R3, R4. R5, R6, R7, R7'', R8, R9, X and A-have the significations denoted in the claims. The compounds are prepared by diazotizing a suited starting compound prior to halogenating or pseudohalogenating it in the presence of mineral acid, diazotization means and halide or pseudohalide, with the reaction steps being run in one single vessel.

    Abstract translation: 对于使用相对高的电流密度制造特别均匀的和镜面光亮的铜涂层,使用卤化或假卤化单体pheanzinium化合物或纯度至少为85摩尔%并具有一般化学式(I)的化学式 其中R 1,R 2,R 3,R 4。 R5,R6,R7,R7“,R8,R9,X和A-具有权利要求中记载的含义。 在无机酸,重氮化装置和卤化物或拟卤化物存在下卤化或假卤化之前,通过重氮化合适的起始化合物来制备化合物,反应步骤在一个单一的容器中进行。

    할로겐화된 또는 유사할로겐화된 단량체 페나지늄 화합물을 포함하는 구리 증착물 전해 증착용 산성 조
    3.
    发明授权
    할로겐화된 또는 유사할로겐화된 단량체 페나지늄 화합물을 포함하는 구리 증착물 전해 증착용 산성 조 有权
    用于电沉积含有羟基化或单酯化单体化合物的铜沉积物的酸性浴

    公开(公告)号:KR101168778B1

    公开(公告)日:2012-07-25

    申请号:KR1020067012131

    申请日:2004-11-09

    CPC classification number: C25D3/38 C07D241/46

    Abstract: 특히 균일하고 거울 광택이 나며, 평탄하고 연성이며 또한 비교적 고 전류 밀도를 사용하여 구리 코팅을 제조하기 위하여, 할로겐화된 또는 유사할로겐화된 단량체 페나지늄 화합물 또는 적어도 85 몰%의 순도 및 일반 화학식 (Ⅰ)로 나타내지는 것이 사용되며 여기서 R
    1 , R
    2 , R
    4 , R
    6 , R
    7' , R
    7" ,R
    8 , R
    9 , X 및 A
    - 는 청구항에서 나타내는 의의를 갖는다. 화합물은 적당한 출발 화합물이, 미네랄 산, 디아조화 수단 및 할로겐화물 또는 유사할로겐화물의 존재하에서, 그것의 할로겐화 또는 유사할로겐화에 앞서 디아조화함으로써, 하나의 단일 용기에서 수행되는 반응 단계로, 제조된다.

    구리 코팅을 전해 침착하기 위한 수성의 산성 용액과 방법 및 이 용액의 용도
    4.
    发明授权
    구리 코팅을 전해 침착하기 위한 수성의 산성 용액과 방법 및 이 용액의 용도 有权
    水溶液,酸性溶液和电解沉积铜涂层的方法以及所述溶液的使用

    公开(公告)号:KR101105938B1

    公开(公告)日:2012-01-18

    申请号:KR1020067002737

    申请日:2004-07-28

    CPC classification number: C25D3/38

    Abstract: 넓은 면적의 금속 또는 플라스틱 부품 위에 전해 침착되는 고연마의 장식적으로 빛나며 매끄럽고 평탄한 구리 코팅을 위한 수성 산성 용액은 a) 적어도 하나의 산소 함유 고분자 첨가제 및 b) 적어도 하나의 수용성 황화합물을 포함하며, 여기서 c) 하기 일반식(Ⅰ)의 적어도 하나의 방향족 할로겐 유도체를 더욱 포함하며, 상기 식에서 R
    1 , R
    2 , R
    3 , R
    4 , R
    5 , 및 R
    6 는 각각 독립적으로, 수소, 알데히드, 아세틸, 하이드록시, 1 - 4 탄소 원자를 갖는 하이드록시알킬, 1 - 4 탄소 원자들을 갖는 알킬 및 할로겐을 포함하는 그룹 중에서 선택되는 라디칼들이고, 단, 할로겐인 R
    1 , R
    2 , R
    3 , R
    4 , R
    5 , 및 R
    6 의 잔기의 수는 1 ~ 5이다.

    구리 침착, 용액

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