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公开(公告)号:KR1020100126424A
公开(公告)日:2010-12-01
申请号:KR1020107021105
申请日:2009-03-05
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
CPC classification number: C23C18/44 , C23C28/021 , C23C28/023 , C25D3/48 , C25D3/562 , C25D5/14 , C25F3/16
Abstract: 본 발명은 전기연마된 표면을 가지는 기판 상에, (ⅰ) 3.0 μm 이하의 두께를 가지는 Ni 레이어, (ⅱ) 1.0 μm 이하의 두께를 가지는 Ni-P 레이어, (ⅲ) 1.0 μm 이하의 두께를 가지는 Au 레이어를 포함하는 레이어 시스템에 관한 것이다.
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公开(公告)号:KR101561985B1
公开(公告)日:2015-10-20
申请号:KR1020107021105
申请日:2009-03-05
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
CPC classification number: C23C18/44 , C23C28/021 , C23C28/023 , C25D3/48 , C25D3/562 , C25D5/14 , C25F3/16
Abstract: 본발명은전기연마된표면을가지는기판상에, (ⅰ) 3.0 μm 이하의두께를가지는 Ni 레이어, (ⅱ) 1.0 μm 이하의두께를가지는 Ni-P 레이어, (ⅲ) 1.0 μm 이하의두께를가지는 Au 레이어를포함하는레이어시스템에관한것이다.
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