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公开(公告)号：KR1020140119712A
公开(公告)日：2014-10-10
申请号：KR1020147021204
申请日：2013-01-31
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
CPC classification number: C23C18/165 , C23C18/1633 , C23C18/1651 , C23C18/1653 , C23C18/2086 , C23C18/24 , C23C18/285 , C23C18/30 , C23C18/36 , C23C18/54
Abstract: 본 발명은 플라스틱에의 도금 프로세스에서의 적용에 적합한 무전해 니켈 도금욕에 관한 것이다. 도금욕은 납 이온과 암모니아와 같은 유해 물질을 포함하지 않고, 55℃보다 높지 않은 도금 온도에서 플라스틱 기판에 니켈 인 합금의 침적을 가능하게 한다. 또한, 니켈 인 코팅에의 침지식 구리 도금 욕으로부터의 구리 침적이 활성화 단계를 필요로 하지 않고, 그 결과 프로세스 단계가 적어지고 폐수 생성이 적어진다.
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