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公开(公告)号：KR102258540B1
公开(公告)日：2021-05-31
申请号：KR1020197025888
申请日：2018-02-12
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
Abstract: 본발명은하기단계를포함하는, 최외부크로뮴또는최외부크로뮴합금층의내부식성을증가시키기위한, 최외부크로뮴또는최외부크로뮴합금층의전해부동화방법에관한것이다: (i)상기최외부크로뮴또는최외부크로뮴합금층을포함하는기판을제공하는단계, (ii)하기를포함하는수성, 산성부동화용액을제공또는제조하는단계: - 3가크로뮴이온, - 포스페이트이온, - 하나이상의유기산 잔류음이온, (iii) 기판을부동화용액과접촉시키고, 부동화용액에서애노드및 캐소드로서의기판사이에전류를통과시켜부동화층이최외부층 상에침착되도록하는단계, 여기서부동화용액에서, 상기 3가크로뮴이온은과산화수소및 유기환원제로이루어지는군으로부터선택된적어도하나의환원제를통해인산의존재하에서 6가크로뮴을화학적으로환원시킴으로써수득되고, 단, 화학적환원도중또는이후, 하나이상의유기산 잔류음이온은부동화용액에처음으로존재함.
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