公开(公告)号：KR1020170044127A

公开(公告)日：2017-04-24

申请号：KR1020177006257

申请日：2015-08-07

Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하

Inventor： 조헬컬딥 ,  로빈스키크리슈티안 ,  메르쉬키독토어미하엘 ,  클레덴킬리안 ,  슐체외르크 ,  라이버세바슈티안

IPC: C23C18/16 ,  C23C18/40 ,  C23C18/31 ,  H05K1/02 ,  G06F3/041 ,  H05K3/18

CPC classification number: H05K3/181 ,  C23C18/1651 ,  C23C18/31 ,  C23C18/48 ,  C23C18/54 ,  C25D3/38 ,  C25D3/58 ,  C25D5/022 ,  C25D5/56 ,  H05K1/0274 ,  H05K2201/2054 ,  H05K2203/0709 ,  H05K2203/073

Abstract: 본발명은구리및 구리합금회로의광학반사율을감소시키는방법에관한것으로, 본방법에서는침지식도금에의해상기구리또는구리합금상에얇은팔라듐또는팔라듐합금층이성막된다. 이로써, 무광회색또는진회색또는흑색층이획득되고, 상기구리또는구리합금회로의광학반사율이감소된다. 본발명에따른방법은이미지디스플레이디바이스, 터치스크린디바이스및 관련전자부품의제조에특히적합하다.

Abstract translation: 本发明涉及一种方法，用于降低铜及铜合金电路，该方法的光反射率，通过浸入镀在铜或铜合金的薄的钯或钯合金层沉积。 因此，获得无光泽的灰色或暗灰色或黑色的层，所述铜或铜合金电路的光学反射率减少。 根据本发明的方法特别适用于制造图像显示装置，触摸屏装置和相关联的电子部件。