公开(公告)号：KR1020020012638A

公开(公告)日：2002-02-16

申请号：KR1020027001128

申请日：2000-07-25

Applicant: 에띠빠흠

Inventor： 쿠아라즈,귀 ,  레끌레크,베르나르 ,  셔러로프,피에르 ,  사니알,파트릭

IPC: A61K9/20

Abstract: 본 발명은 직접 타정이 가능한 희석제를 포함하는 저 복용량의 활성성분을 함유하는 미소과립 정제에 관한 것이다. 본 발명은 오직 중성 미소과립으로 구성되는 직접 타정 가능한 희석제, 중성 미소과립에 부착되는 활성성분, 활성성분의 방출을 조절하거나 그 맛을 숨기기 위한 약제로 코팅되지 않는 것을 특징으로 한다.

公开(公告)号：KR100649949B1

公开(公告)日：2006-11-27

申请号：KR1020027001128

申请日：2000-07-25

Applicant: 에띠빠흠

Inventor： 쿠아라즈,귀 ,  레끌레크,베르나르 ,  셔러로프,피에르 ,  사니알,파트릭

IPC: A61K9/20

Abstract: 본 발명은 직접 타정이 가능한 희석제를 포함하는 저 복용량의 활성성분을 함유하는 미소과립 정제에 관한 것이다. 본 발명은 오직 중성 미소과립으로 구성되는 직접 타정 가능한 희석제, 중성 미소과립에 부착되는 활성성분, 활성성분의 방출을 조절하거나 그 맛을 숨기기 위한 약제로 코팅되지 않는 것을 특징으로 한다.
중성 미소과립, 직접타정법