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公开(公告)号：KR1019980703176A
公开(公告)日：1998-10-15
申请号：KR1019970706579
申请日：1996-03-20
Applicant: 에스씨아이-테크 인스트루먼츠 인코포레이티드
Inventor： 이바노브에브제니블라디미로비키
IPC: G01N21/3518 , G01J3/453
Abstract: 광학적 가스 분석기가 광학적, 기계적 및 전자적 시스템을 포함한다. 상기 광학적 시스템은 시준기, 광필터, 변조된 간섭 분극 필터(IPF), 그리고 광 탐지기를 포함한다. 상기 변조된 IPF 는 서로 크로스되거나 평행한 두 개의 분극기를 포함하며, 이들 두 분극기 사이에 광학적 변조기와 복굴절 판이 장착된다. 상기 복굴절 판은 전기-기계 구동기에 의해 전자 시스템에 의해 기계적으로 구동되고 제어되는 가변의 두께를 가진다. 상기 광 탐지기를 그 출력이 전자 시스템에 연결되고 IPF 뒤에 배열된다. 이같은 가스 분석기는 측정된 가스 밀도의 최소 탐지가능 한계가 가생 변조의 영향을 크게 줄이므로써 작아지도록 하는 장점을 갖는다. 상기 기생 변조는 가스 분석기의 광학적 및 전자적 유닛내로 광학적 변조기에 의해 발생된다. 그러나, 변조된 IPF 의 동기식 변조는 이같은 두 측정값의 차이를 바탕으로 최종 출력에서의 기생 영향을 제거시킨다.
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