公开(公告)号：KR1020080015517A

公开(公告)日：2008-02-19

申请号：KR1020087000969

申请日：2006-06-13

Applicant: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.

Inventor： 반데케르크호프,마르쿠스아드리아누스 ,  데보아이요,빌헬무스페트루스 ,  반그리벤브로에크,헨드리쿠스로베르투스마리에 ,  클라센,미첼프랑소와즈후베르트 ,  콕,하이코빅터 ,  베렌스,마르티옌게라르트도미니크 ,  우이터디예크,탐모 ,  루이야커스,빌헬무스야코부스마리아 ,  쿠이퍼,요한네스마리아 ,  반두렌,레온 ,  존네벨트,야콥 ,  기링,에르빈요한네스마르티누스

IPC: G01J4/00 ,  G03F7/20

CPC classification number: G01J4/04 ,  G03F7/70091 ,  G03F7/70566 ,  G03F7/70591 ,  G03F7/70716

Abstract: A lithographic apparatus includes an illumination system configured to condition a radiation beam; a polarization sensor configured at least in part to couple to a reticle stage, wherein components of the reticle polarization sensor can be loaded and unloaded in the lithographic apparatus in the manner used for conventional reticles. In one configuration an active reticle tool includes a rotatable retarder configured to vary the retardation applied to polarized light received from a field point in the illumination system. In another configuration, a passive reticle tool is configured as an array of polarization sensor modules, where the amount of retardation applied to received light by fixed retarders varies according to position of the polarization sensor module. Accordingly, a plurality of retardation conditions for light received at a given field point can be measured, wherein a complete determination of a polarization state of the light at the given field point can be determined. In another configuration, the polarization sensor is configured to measure the effect of a projection lens on a polarization state of light passing through the projection lens.

Abstract translation: 光刻设备包括被配置为调节辐射束的照明系统; 至少部分地配置为耦合到掩模版平台的偏振传感器，其中所述光罩极化传感器的部件可以以用于常规掩模版的方式在光刻设备中加载和卸载。 在一种配置中，有源掩模版工具包括可旋转延迟器，其被配置为改变施加到照明系统中的场点所接收的偏振光的延迟。 在另一种配置中，被动掩模版工具被配置为偏振传感器模块的阵列，其中由固定延迟器施加到接收光的延迟量根据偏振传感器模块的位置而变化。 因此，可以测量在给定场点处接收的光的多个延迟条件，其中可以确定在给定场点处的光的偏振状态的完全确定。 在另一种配置中，偏振传感器被配置为测量投影透镜对通过投影透镜的光的偏振状态的影响。

公开(公告)号：KR100949170B1

公开(公告)日：2010-03-23

申请号：KR1020087000967

申请日：2006-06-13

Applicant: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.

Inventor： 반데케르크호프,마르쿠스아드리아누스 ,  데보아이요,빌헬무스페트루스 ,  반그리벤브로에크,헨드리쿠스로베르투스마리에 ,  클라센,미첼프랑소와즈후베르트 ,  콕,하이코빅터 ,  베렌스,마르티옌게라르트도미니크 ,  우이터디예크,탐모 ,  루이야커스,빌헬무스야코부스마리아 ,  쿠이퍼,요한네스마리아 ,  반두렌,레온 ,  존네벨트,야콥 ,  기링,에르빈요한네스마르티누스

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G01J4/04 ,  G03F7/70091 ,  G03F7/70566 ,  G03F7/70591 ,  G03F7/70716

Abstract: 리소그래피 장치는 방사선 빔을 컨디셔닝하도록 구성된 조명 시스템; 전체 또는 부분적으로 레티클 스테이지에 커플링하도록 구성된 편광 센서를 포함하며, 이때 레티클 편광 센서의 구성요소들은 종래의 레티클들에 대해 사용된 방식으로 리소그래피 장치 내에 로딩되고 언로딩될 수 있다. 일 구성에서, 능동 레티클 툴은 조명 시스템 내의 필드 지점으로부터 수용된 편광된 광에 적용된 지연을 변화시키도록 구성된 회전가능한 지연기를 포함한다. 또 다른 구성에서, 수동 레티클 툴은 편광 센서 모듈들의 어레이로서 구성되며, 이 경우 고정된 지연기들에 의해 수용된 광에 적용된 지연량은 편광 센서 모듈의 위치에 따라 변한다. 따라서, 주어진 필드 지점에 수용된 광에 대한 복수의 지연 조건들이 측정될 수 있으며, 이때 주어진 필드 지점에서의 광의 편광 상태의 완전한 결정이 결정될 수 있다. 또 다른 구성에서, 편광 센서는 투영 렌즈를 통과한 광의 편광 상태에 대한 투영 렌즈의 효과를 측정하도록 구성된다.

公开(公告)号：KR1020080022193A

公开(公告)日：2008-03-10

申请号：KR1020087000962

申请日：2006-06-13

Applicant: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.

Inventor： 반데케르크호프,마르쿠스아드리아누스 ,  데보아이요,빌헬무스페트루스 ,  반그리벤브로에크,헨드리쿠스로베르투스마리에 ,  클라센,미첼프랑소와즈후베르트 ,  콕,하이코빅터 ,  베렌스,마르티옌게라르트도미니크 ,  우이터디예크,탐모 ,  루이야커스,빌헬무스야코부스마리아 ,  쿠이퍼,요한네스마리아 ,  반두렌,레온 ,  존네벨트,야콥 ,  기링,에르빈요한네스마르티누스

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G01J4/04 ,  G03F7/70091 ,  G03F7/70566 ,  G03F7/70591 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/2006 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70308

Abstract: A lithographic apparatus includes an illumination system configured to condition a radiation beam; a polarization sensor configured at least in part to couple to a reticle stage, wherein components of the reticle polarization sensor can be loaded and unloaded in the lithographic apparatus in the manner used for conventional reticles. In one configuration an active reticle tool includes a rotatable retaxder configured to vary the retardation applied to polarized light received from a field point in the illumination system. In another configuration, a passive reticle tool is configured as an array of polarization sensor modules, where the amount of retardation applied to received light by fixed retarders varies according to position of the polarization sensor module. Accordingly, a plurality of retardation conditions for light received at a given field point can be measured, wherein a complete determination of a polarization state of the light at the given field point can be determined. In another configuration, the polarization sensor is configured to measure the effect of a projection lens on a polarization state of light passing through the projection lens. ® KIPO & WIPO 2008

Abstract translation: 光刻设备包括被配置为调节辐射束的照明系统; 至少部分地配置为耦合到掩模版平台的偏振传感器，其中所述光罩极化传感器的部件可以以用于常规掩模版的方式在光刻设备中加载和卸载。 在一种配置中，有源掩模版工具包括可旋转的重放机，其被配置为改变施加到照明系统中的场点所接收的偏振光的延迟。 在另一种配置中，被动掩模版工具被配置为偏振传感器模块的阵列，其中由固定延迟器施加到接收光的延迟量根据偏振传感器模块的位置而变化。 因此，可以测量在给定场点处接收的光的多个延迟条件，其中可以确定在给定场点处的光的偏振状态的完全确定。 在另一种配置中，偏振传感器被配置为测量投影透镜对通过投影透镜的光的偏振状态的影响。 ®KIPO＆WIPO 2008

公开(公告)号：KR1020080015146A

公开(公告)日：2008-02-18

申请号：KR1020087000965

申请日：2006-06-13

Applicant: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.

Inventor： 반데케르크호프,마르쿠스아드리아누스 ,  데보아이요,빌헬무스페트루스 ,  반그리벤브로에크,헨드리쿠스로베르투스마리에 ,  클라센,미첼프랑소와즈후베르트 ,  콕,하이코빅터 ,  베렌스,마르티옌게라르트도미니크 ,  우이터디예크,탐모 ,  루이야커스,빌헬무스야코부스마리아 ,  쿠이퍼,요한네스마리아 ,  반두렌,레온 ,  존네벨트,야콥 ,  기링,에르빈요한네스마르티누스

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G01J4/04 ,  G03F7/70091 ,  G03F7/70566 ,  G03F7/70591 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/2006 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70308

Abstract: A lithographic apparatus includes an illumination system configured to condition a radiation beam; a polarization sensor configured at least in part to couple to a reticle stage, wherein components of the reticle polarization sensor can be loaded and unloaded in the lithographic apparatus in the manner used for conventional reticles. In one configuration an active reticle tool (40) includes a rotatable retarder (R) configured to vary the retardation applied to polarized light received from a field point in the illumination system. In another configuration, a passive reticle tool is configured as an array of polarization sensor modules, where the amount of retardation applied to received light by fixed retarders varies according to position of the polarization sensor module. Accordingly, a plurality of retardation conditions for light received at a given field point can be measured, wherein a complete determination of a polarization state of the light at the given field point can be determined. In another configuration, the polarization sensor is configured to measure the effect of a projection lens on a polarization state of light passing through the projection lens.

Abstract translation: 光刻设备包括被配置为调节辐射束的照明系统; 至少部分地配置为耦合到掩模版平台的偏振传感器，其中所述光罩极化传感器的部件可以以用于常规掩模版的方式在光刻设备中加载和卸载。 在一种配置中，有源掩模版工具（40）包括可旋转延迟器（R），其被配置为改变施加到照明系统中的场点所接收的偏振光的延迟。 在另一种配置中，被动掩模版工具被配置为偏振传感器模块的阵列，其中由固定延迟器施加到接收光的延迟量根据偏振传感器模块的位置而变化。 因此，可以测量在给定场点处接收的光的多个延迟条件，其中可以确定在给定场点处的光的偏振状态的完全确定。 在另一种配置中，偏振传感器被配置为测量投影透镜对通过投影透镜的光的偏振状态的影响。

公开(公告)号：KR100968233B1

公开(公告)日：2010-07-06

申请号：KR1020087000969

申请日：2006-06-13

Applicant: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.

Inventor： 반데케르크호프,마르쿠스아드리아누스 ,  데보아이요,빌헬무스페트루스 ,  반그리벤브로에크,헨드리쿠스로베르투스마리에 ,  클라센,미첼프랑소와즈후베르트 ,  콕,하이코빅터 ,  베렌스,마르티옌게라르트도미니크 ,  우이터디예크,탐모 ,  루이야커스,빌헬무스야코부스마리아 ,  쿠이퍼,요한네스마리아 ,  반두렌,레온 ,  존네벨트,야콥 ,  기링,에르빈요한네스마르티누스

IPC: G01J4/00 ,  G03F7/20

CPC classification number: G01J4/04 ,  G03F7/70091 ,  G03F7/70566 ,  G03F7/70591 ,  G03F7/70716

Abstract: 리소그래피 장치는 방사선 빔을 컨디셔닝하도록 구성된 조명 시스템; 전체 또는 부분적으로 레티클 스테이지에 커플링하도록 구성된 편광 센서를 포함하며, 이때 레티클 편광 센서의 구성요소들은 종래의 레티클들에 대해 사용된 방식으로 리소그래피 장치 내에 로딩되고 언로딩될 수 있다. 일 구성에서, 능동 레티클 툴은 조명 시스템 내의 필드 지점으로부터 수용된 편광된 광에 적용된 지연을 변화시키도록 구성된 회전가능한 지연기를 포함한다. 또 다른 구성에서, 수동 레티클 툴은 편광 센서 모듈들의 어레이로서 구성되며, 이 경우 고정된 지연기들에 의해 수용된 광에 적용된 지연량은 편광 센서 모듈의 위치에 따라 변한다. 따라서, 주어진 필드 지점에 수용된 광에 대한 복수의 지연 조건들이 측정될 수 있으며, 이때 주어진 필드 지점에서의 광의 편광 상태의 완전한 결정이 결정될 수 있다. 또 다른 구성에서, 편광 센서는 투영 렌즈를 통과한 광의 편광 상태에 대한 투영 렌즈의 효과를 측정하도록 구성된다.

公开(公告)号：KR1020080015939A

公开(公告)日：2008-02-20

申请号：KR1020087000967

申请日：2006-06-13

Applicant: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.

Inventor： 반데케르크호프,마르쿠스아드리아누스 ,  데보아이요,빌헬무스페트루스 ,  반그리벤브로에크,헨드리쿠스로베르투스마리에 ,  클라센,미첼프랑소와즈후베르트 ,  콕,하이코빅터 ,  베렌스,마르티옌게라르트도미니크 ,  우이터디예크,탐모 ,  루이야커스,빌헬무스야코부스마리아 ,  쿠이퍼,요한네스마리아 ,  반두렌,레온 ,  존네벨트,야콥 ,  기링,에르빈요한네스마르티누스

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G01J4/04 ,  G03F7/70091 ,  G03F7/70566 ,  G03F7/70591 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/2006 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70308

Abstract: A lithographic apparatus includes an illumination system configured to condition a radiation beam; a polarization sensor configured at least in part to couple to a reticle stage, wherein components of the reticle polarization sensor can be loaded and unloaded in the lithographic apparatus in the manner used for conventional reticles. In one configuration an active reticle tool includes a rotatable retarder configured to vary the retardation applied to polarized light received from a field point in the illumination system. In another configuration, a passive reticle tool is configured as an array of polarization sensor modules, where the amount of retardation applied to received light by fixed retarders varies according to position of the polarization sensor module. Accordingly, a plurality of retardation conditions for light received at a given field point can be measured, wherein a complete determination of a polarization state of the light at the given field point can be determined. In another configuration, the polarization sensor is configured to measure the effect of a projection lens on a polarization state of light passing through the projection lens.

Abstract translation: 光刻设备包括被配置为调节辐射束的照明系统; 至少部分地配置为耦合到掩模版平台的极化传感器，其中所述光罩偏振传感器的部件可以以用于常规光罩的方式在光刻设备中加载和卸载。 在一种配置中，有源掩模版工具包括可旋转延迟器，其被配置为改变施加到照明系统中的场点所接收的偏振光的延迟。 在另一种配置中，被动掩模版工具被配置为偏振传感器模块的阵列，其中由固定延迟器施加到接收光的延迟量根据偏振传感器模块的位置而变化。 因此，可以测量在给定场点处接收的光的多个延迟条件，其中可以确定在给定场点处的光的偏振状态的完全确定。 在另一种配置中，偏振传感器被配置为测量投影透镜对通过投影透镜的光的偏振状态的影响。