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公开(公告)号:KR100949170B1
公开(公告)日:2010-03-23
申请号:KR1020087000967
申请日:2006-06-13
Applicant: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
Inventor: 반데케르크호프,마르쿠스아드리아누스 , 데보아이요,빌헬무스페트루스 , 반그리벤브로에크,헨드리쿠스로베르투스마리에 , 클라센,미첼프랑소와즈후베르트 , 콕,하이코빅터 , 베렌스,마르티옌게라르트도미니크 , 우이터디예크,탐모 , 루이야커스,빌헬무스야코부스마리아 , 쿠이퍼,요한네스마리아 , 반두렌,레온 , 존네벨트,야콥 , 기링,에르빈요한네스마르티누스
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G01J4/04 , G03F7/70091 , G03F7/70566 , G03F7/70591 , G03F7/70716
Abstract: 리소그래피 장치는 방사선 빔을 컨디셔닝하도록 구성된 조명 시스템; 전체 또는 부분적으로 레티클 스테이지에 커플링하도록 구성된 편광 센서를 포함하며, 이때 레티클 편광 센서의 구성요소들은 종래의 레티클들에 대해 사용된 방식으로 리소그래피 장치 내에 로딩되고 언로딩될 수 있다. 일 구성에서, 능동 레티클 툴은 조명 시스템 내의 필드 지점으로부터 수용된 편광된 광에 적용된 지연을 변화시키도록 구성된 회전가능한 지연기를 포함한다. 또 다른 구성에서, 수동 레티클 툴은 편광 센서 모듈들의 어레이로서 구성되며, 이 경우 고정된 지연기들에 의해 수용된 광에 적용된 지연량은 편광 센서 모듈의 위치에 따라 변한다. 따라서, 주어진 필드 지점에 수용된 광에 대한 복수의 지연 조건들이 측정될 수 있으며, 이때 주어진 필드 지점에서의 광의 편광 상태의 완전한 결정이 결정될 수 있다. 또 다른 구성에서, 편광 센서는 투영 렌즈를 통과한 광의 편광 상태에 대한 투영 렌즈의 효과를 측정하도록 구성된다.
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公开(公告)号:KR100968233B1
公开(公告)日:2010-07-06
申请号:KR1020087000969
申请日:2006-06-13
Applicant: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
Inventor: 반데케르크호프,마르쿠스아드리아누스 , 데보아이요,빌헬무스페트루스 , 반그리벤브로에크,헨드리쿠스로베르투스마리에 , 클라센,미첼프랑소와즈후베르트 , 콕,하이코빅터 , 베렌스,마르티옌게라르트도미니크 , 우이터디예크,탐모 , 루이야커스,빌헬무스야코부스마리아 , 쿠이퍼,요한네스마리아 , 반두렌,레온 , 존네벨트,야콥 , 기링,에르빈요한네스마르티누스
CPC classification number: G01J4/04 , G03F7/70091 , G03F7/70566 , G03F7/70591 , G03F7/70716
Abstract: 리소그래피 장치는 방사선 빔을 컨디셔닝하도록 구성된 조명 시스템; 전체 또는 부분적으로 레티클 스테이지에 커플링하도록 구성된 편광 센서를 포함하며, 이때 레티클 편광 센서의 구성요소들은 종래의 레티클들에 대해 사용된 방식으로 리소그래피 장치 내에 로딩되고 언로딩될 수 있다. 일 구성에서, 능동 레티클 툴은 조명 시스템 내의 필드 지점으로부터 수용된 편광된 광에 적용된 지연을 변화시키도록 구성된 회전가능한 지연기를 포함한다. 또 다른 구성에서, 수동 레티클 툴은 편광 센서 모듈들의 어레이로서 구성되며, 이 경우 고정된 지연기들에 의해 수용된 광에 적용된 지연량은 편광 센서 모듈의 위치에 따라 변한다. 따라서, 주어진 필드 지점에 수용된 광에 대한 복수의 지연 조건들이 측정될 수 있으며, 이때 주어진 필드 지점에서의 광의 편광 상태의 완전한 결정이 결정될 수 있다. 또 다른 구성에서, 편광 센서는 투영 렌즈를 통과한 광의 편광 상태에 대한 투영 렌즈의 효과를 측정하도록 구성된다.
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公开(公告)号:KR1020080015939A
公开(公告)日:2008-02-20
申请号:KR1020087000967
申请日:2006-06-13
Applicant: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
Inventor: 반데케르크호프,마르쿠스아드리아누스 , 데보아이요,빌헬무스페트루스 , 반그리벤브로에크,헨드리쿠스로베르투스마리에 , 클라센,미첼프랑소와즈후베르트 , 콕,하이코빅터 , 베렌스,마르티옌게라르트도미니크 , 우이터디예크,탐모 , 루이야커스,빌헬무스야코부스마리아 , 쿠이퍼,요한네스마리아 , 반두렌,레온 , 존네벨트,야콥 , 기링,에르빈요한네스마르티누스
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G01J4/04 , G03F7/70091 , G03F7/70566 , G03F7/70591 , G03F7/70716 , G03F7/2006 , G03F7/70191 , G03F7/70308
Abstract: A lithographic apparatus includes an illumination system configured to condition a radiation beam; a polarization sensor configured at least in part to couple to a reticle stage, wherein components of the reticle polarization sensor can be loaded and unloaded in the lithographic apparatus in the manner used for conventional reticles. In one configuration an active reticle tool includes a rotatable retarder configured to vary the retardation applied to polarized light received from a field point in the illumination system. In another configuration, a passive reticle tool is configured as an array of polarization sensor modules, where the amount of retardation applied to received light by fixed retarders varies according to position of the polarization sensor module. Accordingly, a plurality of retardation conditions for light received at a given field point can be measured, wherein a complete determination of a polarization state of the light at the given field point can be determined. In another configuration, the polarization sensor is configured to measure the effect of a projection lens on a polarization state of light passing through the projection lens.
Abstract translation: 光刻设备包括被配置为调节辐射束的照明系统; 至少部分地配置为耦合到掩模版平台的极化传感器,其中所述光罩偏振传感器的部件可以以用于常规光罩的方式在光刻设备中加载和卸载。 在一种配置中,有源掩模版工具包括可旋转延迟器,其被配置为改变施加到照明系统中的场点所接收的偏振光的延迟。 在另一种配置中,被动掩模版工具被配置为偏振传感器模块的阵列,其中由固定延迟器施加到接收光的延迟量根据偏振传感器模块的位置而变化。 因此,可以测量在给定场点处接收的光的多个延迟条件,其中可以确定在给定场点处的光的偏振状态的完全确定。 在另一种配置中,偏振传感器被配置为测量投影透镜对通过投影透镜的光的偏振状态的影响。
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公开(公告)号:KR101595394B1
公开(公告)日:2016-02-18
申请号:KR1020130018911
申请日:2013-02-21
Applicant: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. , 에이에스엠엘 홀딩 엔.브이.
Inventor: 짐머만,리차드칼 , 반그리벤브로에크,헨드리쿠스로베르투스마리에 , 코처스퍼거,피터씨. , 다우니,토드알. , 스톤,엘리자베스 , 시스자르,질라드이스트반 , 쿠빅,프레데릭 , 블라디미르스키,올가
CPC classification number: G03F7/70191 , G03F7/70058 , G03F7/70133
Abstract: 균일성보정시스템을포함한리소그래피장치가개시된다. 상기시스템은방사선빔의각 부분들의세기를보정하기위해방사선빔과의교차점내로, 및그 밖으로이동가능하도록구성된핑거들을포함한다. 또한, 상기시스템은핑거들중 대응하는핑거에커플링되고, 대응하는핑거들을이동시키도록구성된작동디바이스들을포함한다. 핑거들각각의선단의폭은작동디바이스들의폭의절반이다. 예를들어, 조명빔 이동, 광학기둥균일성, 균일성보상기드리프트등에의해야기된균일성드리프트를보상하는시스템및 방법이제공된다. 시스템드리프트에의해야기된조명슬릿균일성이측정된다. 균일성에기초하여, 균일성보상기들의제 1 개별위치들이결정된다. 제 1 개별위치들로균일성보상기들이이동된다. 기판이노광된다. 대안적으로, 또다른조명슬릿균일성이측정된다. 또다른조명슬릿균일성은타겟조명슬릿균일성과비교된다. 공차밖인경우, 또다른조명슬릿균일성에기초하여균일성보상기들의제 2 개별위치들이결정된다. 제 2 개별위치들로균일성보상기들이이동된다. 균일성보상기들이제 1 또는제 2 개별위치들에있는채로기판이노광된다. 일예시에서, 실시간시스템드리프트를보상하도록로트의각 기판사이에서이 방법이수행되어, 시스템성능을더 증가시킨다.
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公开(公告)号:KR1020080084744A
公开(公告)日:2008-09-19
申请号:KR1020080023973
申请日:2008-03-14
Applicant: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. , 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하
Inventor: 클라센,미첼프랑소와즈후베르트 , 반그리벤브로에크,헨드리쿠스로베르투스마리에 , 게,베른트페터 , 슈미트-베버,에밀피터
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F7/701 , G03F7/70566
Abstract: An illuminator for a lithographic apparatus and method are provided to modify polarization of radiation beams by employing a plurality of polarization modifiers which are moveable into or out of partial intersection with the radiation beam having an angular and spatial distribution as governed by an illumination mode defining element. An illuminator for a lithographic apparatus comprises an illumination mode defining element(2) and a plurality of polarization modifiers(10a,10b). The polarization modifiers are moveable into or out of partial intersection with a radiation beam(PB) having an angular and spatial distribution as governed by the illumination mode defining element. The polarization modifiers are aligned between the illumination mode defining element and a pupil plane(16) of the illuminator.
Abstract translation: 提供了一种用于光刻设备和方法的照明器,用于通过采用多个偏振修正器来修改辐射束的偏振,多个偏振修正器可移动到具有角度和空间分布的辐射束的部分交叉中,该辐射束具有由照明模式限定元件 。 用于光刻设备的照明器包括照明模式限定元件(2)和多个偏振调节器(10a,10b)。 偏振修正器可以与具有由照明模式限定元件所支配的角度和空间分布的辐射束(PB)可移动进入或离开部分交叉。 偏振调节剂在照明模式限定元件和照明器的光瞳平面(16)之间对准。
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公开(公告)号:KR1020130032888A
公开(公告)日:2013-04-02
申请号:KR1020130018911
申请日:2013-02-21
Applicant: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. , 에이에스엠엘 홀딩 엔.브이.
Inventor: 짐머만,리차드칼 , 반그리벤브로에크,헨드리쿠스로베르투스마리에 , 코처스퍼거,피터씨. , 다우니,토드알. , 스톤,엘리자베스 , 시스자르,질라드이스트반 , 쿠빅,프레데릭 , 블라디미르스키,올가
CPC classification number: G03F7/70191 , G03F7/70058 , G03F7/70133
Abstract: PURPOSE: A lithography apparatus, a manufacturing method of the device, and a uniformity correction system are provided to be able to compensate the uniformity drift caused by the illumination beam movement, the optical column uniformity, the uniformity compensator drift etc. CONSTITUTION: A lithography apparatus comprises an illumination system conditioning the radiation beams; a support structure maintaining a patterning device configured to pattern the conditioned radiation beams; a projection system reflecting the patterned radiation beams onto the target portion of a substrate; and a substrate table. A lighting system comprises a uniformity correction system located in the plane configured to accommodate a certain pupil in the case the radiation beams illuminate. A uniformity correction system comprises fingers(708) and actuating devices moving each finger. The fingers are able to move into and out of the intersection with a radiation beam in order to correct the intensity of each part of the incident radiation beams on fingers. Each actuating device is coupled with a corresponding finger among the fingers containing a single tip with the same width to each actuating device width, or coupled with a corresponding finger among the fingers containing a single tip with a smaller width than each actuating device width based on the position of the uniformity correction system to the field plane of the illumination system.
Abstract translation: 目的:提供光刻设备,器件的制造方法和均匀性校正系统,以便能够补偿由照明光束移动,光学柱均匀性,均匀性补偿器漂移等引起的均匀性漂移。构成:光刻 装置包括对辐射束进行调节的照明系统; 保持图案形成装置的支撑结构,其被配置成对经调节的辐射束进行图案化; 将图案化的辐射束反射到基板的目标部分上的投影系统; 和基片台。 照明系统包括均匀性校正系统,该系统被配置为在辐射束照射的情况下容纳特定光瞳。 均匀性校正系统包括手指(708)和致动装置移动每个手指。 手指能够进入和离开与辐射束的交叉点,以便校正手指上的入射辐射束的每个部分的强度。 每个致动装置与指状物中的相应手指相结合,所述指状物包含与每个致动装置宽度相同宽度的单个末端,或者与包含相对于每个致动装置宽度的单个尖端宽度小的手指中的相应手指耦合 均匀性校正系统对照明系统的场平面的位置。
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公开(公告)号:KR1020100129239A
公开(公告)日:2010-12-08
申请号:KR1020100051383
申请日:2010-05-31
Applicant: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. , 에이에스엠엘 홀딩 엔.브이.
Inventor: 짐머만,리차드칼 , 반그리벤브로에크,헨드리쿠스로베르투스마리에 , 코처스퍼거,피터씨. , 다우니,토드알. , 스톤,엘리자베스 , 시스자르,질라드이스트반 , 쿠빅,프레데릭 , 블라디미르스키,올가
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70191 , G03F7/70058 , G03F7/70133 , G03F7/70091 , G03F7/2004 , H01L21/0274
Abstract: PURPOSE: A lithographic apparatus for illumination uniformity correction and uniformity drift compensation is provided to reduce costs per device, to efficiently perform a lithographic process, and to minimize defects. CONSTITUTION: A lithographic apparatus comprises an illumination system for condition radiation beams. The illumination system includes a uniformity correction system positioned on a plane so that a fixed pupil is accommodated when lighted by the radiation beams. The uniformity correction system comprises fingers(708) and actuating devices for moving the corresponding fingers.
Abstract translation: 目的:提供用于照明均匀性校正和均匀性漂移补偿的光刻设备,以降低每个器件的成本,有效地执行光刻工艺,并使缺陷最小化。 构成:光刻设备包括用于条件辐射束的照明系统。 照明系统包括位于平面上的均匀性校正系统,使得当由辐射束照射时容纳固定的光瞳。 均匀性校正系统包括手指(708)和用于移动相应手指的致动装置。
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公开(公告)号:KR100943970B1
公开(公告)日:2010-02-26
申请号:KR1020080023973
申请日:2008-03-14
Applicant: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. , 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하
Inventor: 클라센,미첼프랑소와즈후베르트 , 반그리벤브로에크,헨드리쿠스로베르투스마리에 , 게,베른트페터 , 슈미트-베버,에밀피터
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F7/701 , G03F7/70566
Abstract: 본 발명은 리소그래피 장치용 일루미네이터에 관한 것으로, 상기 일루미네이터는 조명 모드 한정 요소 및 복수의 편광 모디파이어들을 포함하고, 상기 편광 모디파이어들은 조명 모드 한정 요소에 의하여 지배되는 각도 및 공간 분포를 갖는 방사선 빔과의 부분적 교차부 내로 또는 밖으로 이동가능하다.
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公开(公告)号:KR1020080015517A
公开(公告)日:2008-02-19
申请号:KR1020087000969
申请日:2006-06-13
Applicant: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
Inventor: 반데케르크호프,마르쿠스아드리아누스 , 데보아이요,빌헬무스페트루스 , 반그리벤브로에크,헨드리쿠스로베르투스마리에 , 클라센,미첼프랑소와즈후베르트 , 콕,하이코빅터 , 베렌스,마르티옌게라르트도미니크 , 우이터디예크,탐모 , 루이야커스,빌헬무스야코부스마리아 , 쿠이퍼,요한네스마리아 , 반두렌,레온 , 존네벨트,야콥 , 기링,에르빈요한네스마르티누스
CPC classification number: G01J4/04 , G03F7/70091 , G03F7/70566 , G03F7/70591 , G03F7/70716
Abstract: A lithographic apparatus includes an illumination system configured to condition a radiation beam; a polarization sensor configured at least in part to couple to a reticle stage, wherein components of the reticle polarization sensor can be loaded and unloaded in the lithographic apparatus in the manner used for conventional reticles. In one configuration an active reticle tool includes a rotatable retarder configured to vary the retardation applied to polarized light received from a field point in the illumination system. In another configuration, a passive reticle tool is configured as an array of polarization sensor modules, where the amount of retardation applied to received light by fixed retarders varies according to position of the polarization sensor module. Accordingly, a plurality of retardation conditions for light received at a given field point can be measured, wherein a complete determination of a polarization state of the light at the given field point can be determined. In another configuration, the polarization sensor is configured to measure the effect of a projection lens on a polarization state of light passing through the projection lens.
Abstract translation: 光刻设备包括被配置为调节辐射束的照明系统; 至少部分地配置为耦合到掩模版平台的偏振传感器,其中所述光罩极化传感器的部件可以以用于常规掩模版的方式在光刻设备中加载和卸载。 在一种配置中,有源掩模版工具包括可旋转延迟器,其被配置为改变施加到照明系统中的场点所接收的偏振光的延迟。 在另一种配置中,被动掩模版工具被配置为偏振传感器模块的阵列,其中由固定延迟器施加到接收光的延迟量根据偏振传感器模块的位置而变化。 因此,可以测量在给定场点处接收的光的多个延迟条件,其中可以确定在给定场点处的光的偏振状态的完全确定。 在另一种配置中,偏振传感器被配置为测量投影透镜对通过投影透镜的光的偏振状态的影响。
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公开(公告)号:KR100940583B1
公开(公告)日:2010-02-04
申请号:KR1020080027396
申请日:2008-03-25
Applicant: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
Inventor: 물더,하이네멜레 , 바젤만스,요한네스야코부스마테우스 , 엔겔렌,아드리아누스프란시스쿠스페트루스 , 오이링스,마르쿠스프란시스쿠스안토니우스 , 반그리벤브로에크,헨드리쿠스로베르투스마리에 , 틴네만스,파트리시우스알로이시우스야코부스 , 반데르벤,파울 , 엔덴디요크,빌프레드에드바르트
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70291 , G03F7/70116 , G03F7/702 , G03F7/70516
Abstract: 디바이스 제조 방법은 조명 시스템을 이용하여 방사선 빔을 컨디셔닝하는 단계를 포함한다. 컨디셔닝하는 단계는 방사선 빔을 원하는 조명 모드로 전환하도록 조명 시스템의 개별적으로 제어가능한 요소들의 어레이 및 연계된 광학 구성요소들을 제어하는 단계를 포함하고, 제어하는 단계는 할당 기법에 따라 조명 모드의 상이한 부분들에 대해 상이한 개별적으로 제어가능한 요소들을 할당하는 단계를 포함하며, 할당 기법은 조명 모드, 방사선 빔 또는 둘 모두의 1 이상의 특성에 있어서 원하는 수정을 제공하도록 선택된다. 또한, 상기 방법은 패터닝된 방사선 빔을 형성하기 위해 방사선 빔의 단면에 패턴을 패터닝하는 단계, 및 기판의 타겟부 상에 패터닝된 방사선 빔을 투영하는 단계를 포함한다.
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