公开(公告)号：KR101310188B1

公开(公告)日：2013-09-24

申请号：KR1020120024508

申请日：2012-03-09

Applicant: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.

Inventor： 엔겔렌,아드리아누스프란시스쿠스페트루스 ,  메겐스,헨리쿠스요한네스람베르투스 ,  물켄스,요한네스카타리누스후베르투스 ,  카진치,로베르트 ,  왕,젠-시앙

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/705 ,  G03F7/70091 ,  G03F7/70616

Abstract: 리소그래피 장치를 제어하는 방법이 제공되며, 상기 방법은, 선택된 조명 모드를 유도하도록 상기 조명 시스템을 설정하는 단계; 상기 장치의 제 1 파라미터의 값을 측정하는 단계; 상기 제 1 파라미터의 측정된 값, 그리고 상기 리소그래피 장치의 모델을 이용하여 복수의 피처들을 포함하는 테스트 패턴의 일 피처의 투영된 이미지의 제 2 파라미터의 값을 계산하는 단계; 및 상기 제 2 파라미터의 계산된 값을 참조하여 상기 리소그래피 장치를 제어하는 단계를 포함한다.

Abstract translation: 一种控制光刻设备的方法，所述方法包括设置光刻设备的照明系统以实现选择的照明模式，测量光刻设备的第一参数的值，计算投影图像的第二参数的值 使用光刻设备的模型和第一参数的测量值具有多个特征的测试图案的特征，以及参考所计算的第二参数的值来控制光刻设备。

公开(公告)号：KR1020120104117A

公开(公告)日：2012-09-20

申请号：KR1020120024508

申请日：2012-03-09

Applicant: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.

Inventor： 엔겔렌,아드리아누스프란시스쿠스페트루스 ,  메겐스,헨리쿠스요한네스람베르투스 ,  물켄스,요한네스카타리누스후베르투스 ,  카진치,로베르트 ,  왕,젠-시앙

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/705 ,  G03F7/70091 ,  G03F7/70616 ,  H01L21/0273

Abstract: PURPOSE: A method for controlling a lithography device, a method for manufacturing a device, the lithography device, a computer program product and a method for improving a mathematical model of a lithographic process are provided to predict an effect of imaging conditions for features or feature parameters by using a model. CONSTITUTION: A lighting system is set for inducing a selected lighting mode(S2). A first parameter value of a device is measured(S4). The measured first parameter value, and a second parameter value of a reflected image of a task feature of a test pattern including a plurality of features by using a model of the lithography device are calculated(S5). The lithography device is controlled with the calculated second parameter value(S6).

Abstract translation: 目的：提供一种用于控制光刻设备的方法，用于制造设备的方法，光刻设备，计算机程序产品和用于改进光刻处理的数学模型的方法，以预测特征或特征的成像条件的影响 参数通过使用模型。 构成：设置照明系统以诱导所选择的照明模式（S2）。 测量装置的第一参数值（S4）。 计算测量的第一参数值和通过使用光刻设备的模型包括多个特征的测试图案的任务特征的反射图像的第二参数值（S5）。 用所计算的第二参数值控制光刻设备（S6）。

公开(公告)号：KR100940583B1

公开(公告)日：2010-02-04

申请号：KR1020080027396

申请日：2008-03-25

Applicant: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.

Inventor： 물더,하이네멜레 ,  바젤만스,요한네스야코부스마테우스 ,  엔겔렌,아드리아누스프란시스쿠스페트루스 ,  오이링스,마르쿠스프란시스쿠스안토니우스 ,  반그리벤브로에크,헨드리쿠스로베르투스마리에 ,  틴네만스,파트리시우스알로이시우스야코부스 ,  반데르벤,파울 ,  엔덴디요크,빌프레드에드바르트

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70291 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70516

Abstract: 디바이스 제조 방법은 조명 시스템을 이용하여 방사선 빔을 컨디셔닝하는 단계를 포함한다. 컨디셔닝하는 단계는 방사선 빔을 원하는 조명 모드로 전환하도록 조명 시스템의 개별적으로 제어가능한 요소들의 어레이 및 연계된 광학 구성요소들을 제어하는 단계를 포함하고, 제어하는 단계는 할당 기법에 따라 조명 모드의 상이한 부분들에 대해 상이한 개별적으로 제어가능한 요소들을 할당하는 단계를 포함하며, 할당 기법은 조명 모드, 방사선 빔 또는 둘 모두의 1 이상의 특성에 있어서 원하는 수정을 제공하도록 선택된다. 또한, 상기 방법은 패터닝된 방사선 빔을 형성하기 위해 방사선 빔의 단면에 패턴을 패터닝하는 단계, 및 기판의 타겟부 상에 패터닝된 방사선 빔을 투영하는 단계를 포함한다.

公开(公告)号：KR1020080089198A

公开(公告)日：2008-10-06

申请号：KR1020080027396

申请日：2008-03-25

Applicant: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.

Inventor： 물더,하이네멜레 ,  바젤만스,요한네스야코부스마테우스 ,  엔겔렌,아드리아누스프란시스쿠스페트루스 ,  오이링스,마르쿠스프란시스쿠스안토니우스 ,  반그리벤브로에크,헨드리쿠스로베르투스마리에 ,  틴네만스,파트리시우스알로이시우스야코부스 ,  반데르벤,파울 ,  엔덴디요크,빌프레드에드바르트

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70291 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70516 ,  G02B26/0833 ,  G03F7/2057

Abstract: A lithographic apparatus and a lithographic method are provided to perform rapidly a switching operation between two or more masks or patterns formed on a controllable patterning device. A radiation beam(PB) is irradiated by an illumination system(IL). A pattern is imparted in a cross-section of the radiation beam by using a patterning device(MA). The patterned radiation beam is projected onto a target part of a substrate(W). The illumination system includes an array of individually controllable elements and related optical components arranged to convert the radiation beam into a desired illumination mode. An allocation scheme is used to allocate differently the individually controllable elements to different parts of the illumination mode. The allocation scheme is selected to provide a desired modification of one or more properties of the illumination mode or of the radiation beam.

Abstract translation: 提供光刻设备和光刻方法以快速执行在可控图案形成装置上形成的两个或多个掩模或图案之间的切换操作。 照射系统（IL）照射辐射束（PB）。 通过使用图案形成装置（MA）在辐射束的横截面中赋予图案。 图案化的辐射束被投影到基板（W）的目标部分上。 照明系统包括独立可控元件阵列和相关的光学部件，其被布置为将辐射束转换成期望的照明模式。 分配方案用于将单独的可控元件分配给照明模式的不同部分。 选择分配方案以提供照明模式或辐射束的一个或多个属性的期望修改。