Abstract:
본 발명의 실시예에 따른 신경 탐침 인터페이스는, 광원; 및 일단부는 상기 광원에 연결되고 타단부는 신경에 광 자극을 가하기 위해 탐침 대상인 신경 내부로 삽입되는 탐침부로 마련되며, 코어 및 상기 코어를 부분적으로 감싸는 클래드를 갖는 광도파관;을 포함하며, 상기 탐침부는 상기 신경으로의 삽입을 위한 원뿔 형상의 코어부재로 형성되며, 상기 클래드는 상기 코어부재를 제외한 상기 광도파관의 나머지 영역의 적어도 일부분을 감쌀 수 있다. 본 발명의 실시예에 따르면, 탐침부의 코어부재가 클래드가 제거된 원뿔 형상을 가짐으로써 신경 탐침의 용이성을 확보할 수 있으면서도 코어부재와 접촉되는 물질 간의 굴절률 차이에 기초하여 신경에 대한 탐침부의 접촉 유무를 정확하게 판별할 수 있음은 물론 탐침부의 삽입 깊이도 미세하게 조정할 수 있다.
Abstract:
일 실시예에 따른 광 프로브는 빛을 방출하는 광원; 상기 광원의 빛을 제1방향으로 집광시키는 제1 집광 렌즈; 및 제1방향으로 집광된 빛을 상기 제1방향에 교차하는 제2방향으로 집광시키는 복수 개의 제2 집광 렌즈들; 상기 복수 개의 제2 집광 렌즈들로부터 각각 연장하며 제2방향으로 집광된 빛을 대상체로 전달하는 복수 개의 도파관들; 및 대상체로 전달된 빛에 의해 대상체가 자극 또는 억제될 때 발생하는 전기적 신호를 수용하도록 구성된 복수 개의 전극들을 포함할 수 있다.
Abstract:
PURPOSE: A method for manufacturing a micromirror having inclined electrode using PDMS is provided to increase a driving angle which is available by forming a bottom electrode to be inclined. CONSTITUTION: A method for manufacturing a micromirror having inclined electrode using PDMS is comprised of the steps: forming a bottom electrode to be inclined as a triangle and patterning a mold so that the top of the tangle is split(S110); injecting PDMS(polydimethylsiloxane stamp) into the patterned mold and hardening it(S120); separating hardened PDMS from the patterned mold in order to form the inclined bottom electrode(S130); and depositing the metal layer on the surface of PDMS in order to supply a voltage to the inclined bottom electrode(S140).
Abstract:
A method for fabricating vertical structures using a wet etching method is provided. The method comprises a step of forming identical patterns corresponding to the vertical through type structures on both sides of a base plate using a first mask; a step of etching the base plate after the patterning step using a first solution; and a step of stopping the etching of the base plate on the vertical through type structure. [Reference numerals] (AA) Vertical
Abstract:
A method for manufacturing a micro-mirror using a self-aligned electrode is provided to etch a mirror and a bottom electrode after bonding a micromirror and the bottom electrode. A micromirror manufacturing method utilizing the self-aligned electrode is comprised of a forming a micromirror(S10), a forming the bottom electrode formation(S20), jointing(S30), etching at the same time(S40). A micromirror is formed on the first wafer, and while forming a support. The support is connection member in jointing, and the bottom electrode is formed on the second wafer. The first and the second wafer are jointed in the jointing step, and the mirror and the bottom electrode are etched at the same time.