신축 가능한 멀티 발광체 및 이의 제조방법

    公开(公告)号:WO2023027318A1

    公开(公告)日:2023-03-02

    申请号:PCT/KR2022/009495

    申请日:2022-07-01

    Abstract: 본 발명은 멀티 발광체 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 일실시예에 따른 멀티 발광체는 고분자 물질 및 발광 물질의 혼합물로 형성된 제1 발광층과, 제1 발광층에 구비된 나노선 영역 내부에 형성되고 서로 중첩없이 제1 방향으로 연장되는 복수의 제1 나노선 전극 및 복수의 제2 나노선 전극을 구비하는 전극층 및 전극층이 형성된 제1 발광층 상에 혼합물로 형성된 제2 발광층을 포함한다.

    금속 나노 홀 어레이가 형성된 투명전극 및 이의 제조 방법
    5.
    发明公开
    금속 나노 홀 어레이가 형성된 투명전극 및 이의 제조 방법 无效
    具有金属纳米孔阵列的透明电极及其制造方法

    公开(公告)号:KR1020150142098A

    公开(公告)日:2015-12-22

    申请号:KR1020140069947

    申请日:2014-06-10

    Inventor: 조창희 송보경

    CPC classification number: H01B5/14 H01B13/00

    Abstract: 기판및 상기기판상부에소정의간격으로복수의나노홀이형성된금속막을포함하며, 상기금속막의나노홀 형태는원 또는다각형으로이루어진것을특징으로하는금속나노홀 어레이가형성된투명전극을제공한다.

    Abstract translation: 本发明提供一种具有金属纳米孔阵列的透明电极。 具有金属纳米孔的透明电极包括基板和金属膜,在基板的上部上以一定的间隔形成有多个纳米孔。 纳米孔具有圆形或多边形。 透明电极在整个可见光区域可以具有高传输和导电性,以便使用柔性显示屏。

    발광다이오드용 반사전극 및 이의 제조방법
    7.
    发明公开
    발광다이오드용 반사전극 및 이의 제조방법 有权
    发光二极管反射电极及其制造方法

    公开(公告)号:KR1020170127088A

    公开(公告)日:2017-11-21

    申请号:KR1020160056907

    申请日:2016-05-10

    Abstract: 본발명의목적은반사도가우수하면서도반도체층과의오믹컨택을유지할수 있는발광다이오드용반사전극및 이의제조방법을제공하는데있다. 상기목적을달성하기위하여본 발명은반도체층 상에형성되는전도체홀 어레이층; 상기전도체홀 어레이층 상에형성되는도전성층; 및상기도전성층상부에형성되는알루미늄금속층;을포함하는것을특징으로하는발광다이오드용반사전극및 반도체층을형성하는단계; 상기반도체층 상부로전도체홀 어레이층을형성하는단계; 상기전도체홀 어레이층상부로도전성층을형성하는단계; 상기도전성층상부로알루미늄금속층을형성하는단계;를포함하는것을특징으로하는발광다이오드용반사전극의제조방법을제공한다. 본발명에따르면, 반사전극으로본 발명에서제시한구조를사용함으로써가시광영역뿐만아니라자외선영역에서도반사도가우수하여광추출효율이향상되며, 나아가반도체층과의오믹컨택을유지할수 있는효과가있다.

    Abstract translation: 发明内容本发明的目的是提供一种用于发光二极管的反射电极及其制造方法,该反射电极能够保持与半导体层的欧姆接触,同时具有优异的反射率。 根据本发明的一个方面,提供了一种半导体器件,包括:形成在半导体层上的导电孔阵列层; 形成在导电孔阵列层上的导电层; 以及形成在所述导电层上的铝金属层,所述方法包括:形成用于发光二极管的反射电极和半导体层; 在半导体层上形成导体孔阵列层; 用导体孔阵列分层部分形成导电层; 7.根据权利要求1所述的制造用于发光二极管的反射电极的方法,其中, 根据本发明,通过使用在本发明中用作反射电极提出的结构,且反射率优于以提高光提取效率,以及在可见光区域,紫外光区域,还有一个进一步的效果,可以维持与半导体层的欧姆接触。

    3차원 주기성을 갖는 반도체 나노 월 구조의 제조방법
    8.
    发明授权
    3차원 주기성을 갖는 반도체 나노 월 구조의 제조방법 有权
    具有三维周期性的半导体纳米醇结构的制造方法

    公开(公告)号:KR101702991B1

    公开(公告)日:2017-02-10

    申请号:KR1020150105724

    申请日:2015-07-27

    CPC classification number: Y02E10/50 Y02P70/521

    Abstract: 반도체나노월 구조의제조방법이개시된다. 본발명은기판을준비하는단계(단계 1); 상기기판상에감광제를스핀코팅하여감광제층을형성하는단계(단계 2); 상기감광제층의일부를노광하여복수의홀 어레이를형성하는단계(단계 3); 상기형성된복수의홀 하부를식각하는단계(단계 4); 상기식각된홀 하부의표면및 측면을고분자물질로코팅하는단계(단계 5); 상기코팅된홀 하부의기판일부를식각하는단계 (단계 6); 상기단계 5의고분자코팅과상기단계 6의식각을반복수행하여월의깊이및 깊이방향형태를조절하는단계(단계 7); 상기감광제층을제거하고, 건식산화공정및 BOE를사용한습식식각을수행하여 3차원주기성을갖는나노월 구조의반도체를제조하는단계(단계 8)를포함하는 3차원주기성을갖는반도체나노월 구조의제조방법을포함한다.

    Abstract translation: 公开了一种半导体纳米壁结构的制造方法。 本发明提供了一种制造半导体器件的方法,包括:准备衬底(步骤1); 通过在衬底上旋涂光刻胶来形成光刻胶层(步骤2); 暴露一部分光敏剂层以形成多个孔阵列(步骤3); 蚀刻多个孔的底部(步骤4); 用聚合物材料涂覆蚀刻孔的表面和侧面(步骤5); 在涂覆的孔下方蚀刻一部分基板(步骤6); 重复步骤5的聚合物涂层和步骤6的意识以调整深度和深度方向的壁的形状(步骤7); 除去光敏材料层,具有三维周期性,包括:制造通过使用干法氧化工艺和BOE执行湿蚀刻具有三维周期性的半导体纳米月结构的步骤的半导体纳米月结构(步骤8) <

    3차원 주기성을 갖는 반도체 나노 월 구조의 제조방법
    9.
    发明公开
    3차원 주기성을 갖는 반도체 나노 월 구조의 제조방법 有权
    3制造具有三维周期性的半导体纳米结构结构的方法

    公开(公告)号:KR1020170013439A

    公开(公告)日:2017-02-07

    申请号:KR1020150105724

    申请日:2015-07-27

    CPC classification number: Y02E10/50 Y02P70/521

    Abstract: 반도체나노월 구조의제조방법이개시된다. 본발명은기판을준비하는단계(단계 1); 상기기판상에감광제를스핀코팅하여감광제층을형성하는단계(단계 2); 상기감광제층의일부를노광하여복수의홀 어레이를형성하는단계(단계 3); 상기형성된복수의홀 하부를식각하는단계(단계 4); 상기식각된홀 하부의표면및 측면을고분자물질로코팅하는단계(단계 5); 상기코팅된홀 하부의기판일부를식각하는단계 (단계 6); 상기단계 5의고분자코팅과상기단계 6의식각을반복수행하여월의깊이및 깊이방향형태를조절하는단계(단계 7); 상기감광제층을제거하고, 건식산화공정및 BOE를사용한습식식각을수행하여 3차원주기성을갖는나노월 구조의반도체를제조하는단계(단계 8)를포함하는 3차원주기성을갖는반도체나노월 구조의제조방법을포함한다.

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