Abstract:
본 발명은 미세동물의 생체신호 측정을 위한 트랩유닛을 구비한 생체신호측정기 및 이를 이용한 미세동물의 생체신호 측정방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 미세동물의 생명을 유지하면서 동시에 복수의 미세동물의 생체신호를 신속하게 측정할 수 있는 미세동물의 생체신호 측정을 위한 트랩유닛을 구비한 생체신호측정기 및 이를 이용한 미세동물의 생체신호 측정방법에 관한 것이다. 본 발명의 구성은 미세동물이 고정되는 트랩채널을 갖는 트랩유닛; 및 상기 트랩유닛에 고정된 상기 미세동물에 전극부를 삽입하여 생체신호를 측정하는 승강유닛을 포함하며, 상기 트랩채널의 형상은 상기 트랩유닛에 투입된 상기 미세동물의 머리부를 고정하도록 형성된 것을 특징으로 하는 것을 특징으로 하는 미세동물의 생체신호 측정을 위한 트랩유닛을 구비한 생체신호측정기를 제공한다.
Abstract:
본 발명은 미세동물의 생체신호 측정장치 및 이의 측정방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 미세동물의 생명을 유지하면서 미세동물을 간편하고 신속하게 고정시켜 생체신호를 신속하게 측정할 수 있도록 하기 위한 미세동물의 생체신호 측정장치 및 이의 측정방법에 관한 것이다. 본 발명의 구성은 상부에 미세동물이 놓여지는 기판; 상기 미세동물이 상기 기판상에 놓여진 상태로 고정되도록, 내부 공간에 상기 미세동물을 수용하는 고정액; 및 상기 고정액의 내부에 수용된 미세동물에 삽입되어 상기 미세동물의 생체신호를 측정하는 침전극을 포함하며, 상기 미세동물은 상기 고정액의 표면장력에 의해 상기 기판에 고정되는 것을 특징으로 하는 미세동물의 생체신호 측정장치를 제공한다.
Abstract:
본 발명은 마찰 발전 장치에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 마찰발전소자는, 제1 유전층, 제2 유전층 및 제1 유전층과 제2 유전층 사이에 배치된 적어도 하나의 금속층을 포함하는 유연 전극부 및 유연 전극부의 양 측면에 이격되고 서로 연결되는 제1 전극 및 제2 전극을 포함하는 고정 전극부를 포함하고, 유연 전극부는 유체 흐름에 의해 제1 전극 및 제2 전극 중 적어도 하나와 접촉 및 비접촉에 의해 마찰 대전을 발생시키며, 마찰 대전에 의해 생성된 전하는 금속층을 통해 이동할 수 있다. 이에 따라, 마찰 대전에 의해 생성된 전하를 효과적으로 이동시키고, 마찰 빈도를 높여 발전 효율을 높일 수 있다.
Abstract:
PURPOSE: An epitaxial structure for InP based MOSFET(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor) and a method for manufacturing an MOSFET using the same are provided to be capable of obtaining stable and uniform device characteristics by carrying out a liquid phase oxidation step and an oxygen plasma processing step. CONSTITUTION: An epitaxial structure is provided with a semi-insulating InP substrate(10), an InAlAs or InP buffer layer(11) formed on the substrate, an InGaAs channel layer(12) formed on the buffer layer, an InP anti-oxidizing layer(13) formed on the channel layer, and a high concentration N-type InGaAs ohmic/oxide layer(14) formed on the anti-oxidizing layer. At this time, the InGaAs oxide layer is formed by using the following two-step process. The Ga and As of an InGaAs layer are oxidized by using an acidity controlled liquid phase oxidation solution. The In of the InGaAs layer is then oxidized by using an oxygen plasma process.