公开(公告)号：KR100238776B1

公开(公告)日：2000-01-15

申请号：KR1019970036533

申请日：1997-07-31

Applicant: 전자부품연구원

Inventor： 이보나 ,  박효덕 ,  김건년

IPC: G01L19/04

Abstract: 본 발명의 압력센서용 온도보상장치는 밴드갭기준전압발생회로(610), 연산증폭기(620), 압력센서(630)를 포함하고, 압력센서(630)의 구동전원으로서 사용하기 위하여, 밴드갭기준전압발생회로(610)는 온도에 따라서 출력이 변하지 않는 밴드갭기준전압을 발생한다. 연산증폭기(620)는 제1 입력단에 상기 밴드갭기준전압을 수신하고 제2 입력단으로 제1 저항(R28)을 통하여 입력되는 접지기준전압을 수신하여, 그 차동치를 연산증폭한다. 통상 압력센서(630)의 출력전압은 약 -2000ppm/℃ 내지 -2500ppm/℃사이의 음의 온도계수를 가지며, 이를 보상해주기 위하여 센서의 구동전원이 +2000ppm/℃ 내지 +2500ppm/℃의 양의 온도계수를 갖도록 하면 압력센서의 출력전압의 온도계수는 서로 상쇄되어 온도에 무관한 특성을 가지게 된다. 이를 위해, 상기 연산증폭기(620)의 입력단과 출력단의 사이에 상기 제2 저항(R29)은 상기 제1 저항(R28)의 일단과 상기 연산증폭기(620)의 출력단의 사이에 접속되고, 상기 제3 저항(R30)은 상기 제1 저항(R28)의 타단과 상기 연산증폭기(620)의 출력단의 사이에 접속된다. 이 때, 상기 제1 저항은 면저항이 160Ω/□이고, 그 온도계수가 1500ppm/℃인 이온주입 저항이고, 상기 제2 및 제3 저항들은 면저항이 1kΩ/□이고, 그 온도계수가 3500ppm/℃인 이온주입 저항들이다. 이로써, 별도의 박막저항이나 써미스터소자 없이도 온도계수를 정확하고 광범위하게 조정할 수 있다.

公开(公告)号：KR100261315B1

公开(公告)日：2000-08-01

申请号：KR1019980003077

申请日：1998-02-04

Applicant: 전자부품연구원

Inventor： 이보나 ,  박효덕 ,  김건년

IPC: H01L21/66

Abstract: PURPOSE: A signal processing circuit for a pressure sensor is provided to control an offset voltage and a span, and to compensate for an offset voltage and a temperature of the span, by constituting the signal processing circuit using ion implantation resistors with different temperature coefficients. CONSTITUTION: A pressure sensor(100) comprises resistors(RS1,RS2,RS3,RS4), and a signal processing circuit(200) two operational amplifiers(OP1,OP2) and resistors(R1,Rd,Ra,Rb,Rc,Rg,R16). Output voltages(Vin1,Vin2) of the pressure sensor are connected to non-inverting input terminals of the operational amplifiers respectively. Then, The output voltage(Vin1) indicates a voltage of a contact point between the resistor Rs2 and the resistor Rs4, and the output voltage(Vin2) indicates a voltage of a contact point between the resistor Rs1 and the resistor Rs3. One end of the resistor(R1) is connected to a power supply voltage(Vcc), and another end is connected to one end of the resistor(Rd), and another end of the resistor(Rd) is connected to the ground. A voltage(Vref) between the resistor R1 and Rd corresponds to an offset voltage, and these resistors(R1,Rd) are for controlling the offset voltage. The resistors(Ra,Rb) are for controlling a gain of the operational amplifier(OP1), and the resistors(Rc,R16) are for controlling a gain of the operational amplifier(OP2). And, the resistor(Rg) controls a span and a temperature coefficient of the span.

Abstract translation: 目的：通过使用具有不同温度系数的离子注入电阻器构成信号处理电路，提供用于压力传感器的信号处理电路，以控制偏移电压和跨度，并补偿偏移电压和温度。 构成：压力传感器（100）包括电阻器（RS1，RS2，RS3，RS4）和信号处理电路（200），两个运算放大器（OP1，OP2）和电阻器（R1，Rd，Ra，Rb，Rc，Rg ，R16）。 压力传感器的输出电压（Vin1，Vin2）分别连接到运算放大器的非反相输入端子。 然后，输出电压（Vin1）表示电阻Rs2和电阻Rs4之间的接触点的电压，输出电压（Vin2）表示电阻Rs1和电阻Rs3之间的接触点的电压。 电阻器（R1）的一端连接到电源电压（Vcc），另一端连接到电阻器（Rd）的一端，电阻器（Rd）的另一端连接到地。 电阻器R1和Rd之间的电压（Vref）对应于偏移电压，这些电阻（R1，Rd）用于控制偏移电压。 电阻（Ra，Rb）用于控制运算放大器（OP1）的增益，电阻（Rc，R16）用于控制运算放大器（OP2）的增益。 并且，电阻（Rg）控制跨度的跨度和温度系数。

公开(公告)号：KR1019990069058A

公开(公告)日：1999-09-06

申请号：KR1019980003077

申请日：1998-02-04

Applicant: 전자부품연구원

Inventor： 이보나 ,  박효덕 ,  김건년

IPC: H01L21/66

Abstract: 본 발명의 압력 센서용 신호 처리 회로는 제1 이온 주입 저항과 제2 이온 주입 저항을 가지며 압력 센서의 옵셋 전압 및 옵셋 전압의 온도 드리프트를 조정하기 위한 옵셋 조정부와, 압력 센서의 제1 출력이 제1 단자에 입력되고 옵셋 전압이 제2 단자에 입력되는 제1 연산 증폭기와, 압력 센서의 제2 출력이 제1 단자에 입력되고 제1 연산 증폭기의 출력 전압이 제2 단자에 입력되는 제2 연산 증폭기와, 제1 연산 증폭기의 제2 단자와 제2 증폭기의 제2 단자에 연결되어 상기 압력 센서의 스팬 및 스팬의 온도 조정을 하며 서로 다른 온도 계수를 갖는 제3 이온 주입 저항과 제4 이온 주입 저항을 가지는 스팬 조정부로 이루어진다.
본 발명에 의해 옵셋 전압 및 스팬의 조정과 옵센 전압 및 스팬의 온도 보상을 행할 수 있다.

公开(公告)号：KR100321134B1

公开(公告)日：2002-03-18

申请号：KR1019990027428

申请日：1999-07-08

Applicant: 전자부품연구원

Inventor： 정석원 ,  박광범 ,  김인회 ,  박효덕 ,  문현찬 ,  이보나 ,  김건년 ,  박순섭

IPC: B29D11/00

Abstract: 본발명은 X-선사진식각(X-ray lithography)기술을이용한마이크로렌즈제조방법을개시한다. 본발명은기판위에 PMMA 또는감광막을일정두께로형성시키는단계와, X-선마스크와기판을정렬하는단계와, X-선마스크를이용해기판을노광하고현상액을이용하여노광된 PMMA 또는감광막을제거하여단계와, X-선마스크와기판의회전축을정렬하는단계와, X-선마스크는고정하고기판은회전하면서노광하여 X-선마스크의흡수체형상및 회전축의위치에따라기하학적형상으로노광하는단계와, 현상액을이용하여노광된 PMMA 또는감광막을제거하여기하학적형상으로현상하는단계로이루어져기존의기계가공방법이나 UV 사진식각공정으로제작하기어려운고정밀의마이크로렌즈를손쉽게제작할수 있으며, 사출성형용금형을제작할수 있어마이크로렌즈의대량생산에유리하다.

公开(公告)号：KR1020010060633A

公开(公告)日：2001-07-07

申请号：KR1019990063038

申请日：1999-12-27

Applicant: 전자부품연구원

Inventor： 정석원 ,  박광범 ,  김인회 ,  박효덕 ,  문현찬 ,  이보나 ,  김건년 ,  박순섭 ,  신상모

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70091 ,  G03F7/162 ,  G03F7/3021 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70775 ,  G03F9/7084

Abstract: PURPOSE: Provided are an exposure apparatus and a process for producing a three-dimensional structure by rotating an exposure sample by using the exposure apparatus. CONSTITUTION: The exposure apparatus comprises: a sample holder(10) rotated around a rotary shaft(31); a mask holder(20) on which an exposure mask is laid, which is laid on the sample holder(10); a rotating part(30) for rotating the sample holder(10). And the process for producing the three-dimensional structure comprises the steps of: putting the exposure sample on the sample holder(10) and lining the exposure sample and the rotary shaft(31) of the sample holder(10); putting the exposure mask on the mask holder(20) and lining the exposure mask and the exposure sample; rotating the sample holder(10) and applying X-rays to the exposure mask to expose the exposure sample; developing the exposure sample.

Abstract translation: 目的：提供通过使用曝光装置旋转曝光样品的曝光装置和制造三维结构的方法。 构成：曝光装置包括：围绕旋转轴（31）旋转的样品保持器（10）; 放置在样品架（10）上的掩模支架（20），放置有曝光掩模; 用于旋转样品架（10）的旋转部件（30）。 并且制造三维结构的方法包括以下步骤：将曝光样品放置在样品架（10）上并对曝光样品和样品架（10）的旋转轴（31）进行衬里; 将曝光掩模放在掩模支架（20）上，并对曝光掩模和曝光样品进行衬里; 旋转样品架（10）并向曝光掩模施加X射线以暴露曝光样品; 开发曝光样品。

公开(公告)号：KR1019990012951A

公开(公告)日：1999-02-25

申请号：KR1019970036533

申请日：1997-07-31

Applicant: 전자부품연구원

Inventor： 이보나 ,  박효덕 ,  김건년

IPC: G01L19/04

Abstract: 본 발명의 압력센서용 온도보상장치는 밴드갭기준전압발생회로(610), 연산증폭기(620), 압력센서(630)를 포함하고, 압력센서(630)의 구동전원으로서 사용하기 위하여, 밴드갭기준전압발생회로(610)는 온도에 따라서 출력이 변하지 않는 밴드갭기준전압을 발생한다. 연산증폭기(620)는 제1 입력단에 상기 밴드갭기준전압을 수신하고 제2 입력단으로 제1 저항(R28)을 통하여 입력되는 접지기준전압을 수신하여, 그 차동치를 연산증폭한다. 통상 압력센서(630)의 출력전압은 약 -2000ppm/℃ 내지 -2500ppm/℃사이의 음의 온도계수를 가지며, 이를 보상해주기 위하여 센서의 구동전원이 +2000ppm/℃ 내지 +2500ppm/℃의 양의 온도계수를 갖도록 하면 압력센서의 출력전압의 온도계수는 서로 상쇄되어 온도에 무관한 특성을 가지게 된다. 이를 위해, 상기 연산증폭기(620)의 입력단과 출력단의 사이에 상기 제2 저항(R29)은 상기 제1 저항(R28)의 일단과 상기 연산증폭기(620)의 출력단의 사이에 접속되고, 상기 제3 저항(R30)은 상기 제1 저항(R28)의 타단과 상기 연산증폭기(620)의 출력단의 사이에 접속된다. 이 때, 상기 제1 저항은 면저항이 160Ω/□이고, 그 온도계수가 1500ppm/℃인 이온주입 저항이고, 상기 제2 및 제3 저항들은 면저항이 1kΩ/□이고, 그 온도계수가 3500ppm/℃인 이온주입 저항들이다. 이로써, 별도의 박막저항이나 써미스터소자 없이도 온도계수를 정확하고 광범위하게 조정할 수 있다.

公开(公告)号：KR100344248B1

公开(公告)日：2002-07-24

申请号：KR1019990063038

申请日：1999-12-27

Applicant: 전자부품연구원

Inventor： 정석원 ,  박광범 ,  김인회 ,  박효덕 ,  문현찬 ,  이보나 ,  김건년 ,  박순섭 ,  신상모

IPC: G03F7/20

Abstract: 이발명은노광장치및 이를이용한 3차원구조물제조방법을개시한다. 노광마스크를이용하여노광시편을 X-선노광시키는노광장치에서, 상기노광시편이회전축을중심으로회전하는시편홀더에장착되며, 노광마스크가상기시편홀더의상측에위치되는마스크홀더에장착된다. 이때, 상기시편홀더의회전축과상기마스크홀더의중심축은서로일치됨에따라상기노광마스크와노광시편은동일선상에정렬된다. 이상태에서회전부에의하여시편홀더가회전되면노광마스크에형성되어있는패턴에따라노광시편이감광되고, 감광된노광시편을현상하면원하는형상의 3차원구조물이제조된다. 이와같이 X-선사진식각공정시에노광시편을회전시키면서노광시킴에따라 3차원형상의구조물을저가의비용으로보다정밀하게제조할수 있으며, 노광시편과노광마스크의정렬이이루어짐에따라원하는형상의 3차원구조물을용이하게제조할수 있다.

公开(公告)号：KR1020010057689A

公开(公告)日：2001-07-05

申请号：KR1019990061062

申请日：1999-12-23

Applicant: 전자부품연구원

Inventor： 정석원 ,  박광범 ,  김인회 ,  박효덕 ,  문현찬 ,  이보나 ,  김건년 ,  박순섭 ,  신상모

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70583 ,  G02B27/283 ,  G03F7/0025 ,  G03F7/092 ,  G03F7/70941

Abstract: PURPOSE: A method for producing micro beam splitter is provided to obtain a slitter having micro size and delicate shape by employing X-ray exposing process, and has low production cost. CONSTITUTION: The method comprises the steps of positioning the mask with pattern for production of the first and second prism on photosensitive layer of substrate and exposing photosensitive layer by radiating X-ray to the mask; developing the photosensitive layer to form the first and second prism having shape corresponding to the pattern; forming each coating film beneath the first and second prism; and forming interference film between the coating films of the first and second prism.

Abstract translation: 目的：提供一种生产微分束器的方法，通过采用X射线曝光工艺获得具有微小尺寸和精细形状的分切机，成本低。 方法：该方法包括以下步骤：将具有用于制造第一和第二棱镜的图案放置在基板的感光层上并通过向掩模辐射X射线来曝光感光层的步骤; 显影感光层以形成具有与图案对应的形状的第一和第二棱镜; 在第一和第二棱镜下方形成每个涂膜; 并在第一和第二棱镜的涂膜之间形成干涉膜。

公开(公告)号：KR100204090B1

公开(公告)日：1999-06-15

申请号：KR1019960039837

申请日：1996-09-13

Applicant: 전자부품연구원

Inventor： 김건년 ,  박효덕 ,  신상모 ,  이보나

IPC: G02B6/255

Abstract: 폴리머 기판으로 숫결합부(male splice unit)와 암결합부(female splice unit)를 구성한 광 스플라이스에 관하여 개시한다. 본 발명은 제1 폴리머 기판에 복수의 광섬유를 수용하여 고정 및 정렬할 수 있는 다수의 제1 홈을 갖고, 상기 제1 홈의 양측에 제2 홈을 구비하는 암결합부와, 상기 제1 폴리머 기판에 대향하여 밀착 접속할 수 있는 제2 폴리머 기판에 상기 제2 홈에 접속할 수 있는 돌출부를 갖는 숫결합부를 구비하는 것을 특징으로 하는 광 스플라이스를 제공한다. 본 발명은 금속몰드를 사용하여 암결합부 및 숫결합부를 제작함으로써 동일한 크기로 동일한 성능의 제품을 저렴한 가격으로 대량 생산할 수 있다.

公开(公告)号：KR1019990012958A

公开(公告)日：1999-02-25

申请号：KR1019970036540

申请日：1997-07-31

Applicant: 전자부품연구원

Inventor： 박효덕 ,  김건년 ,  이보나

IPC: H01L41/08 ,  H01L29/84

Abstract: 본 발명은 실리콘 기판의 표면 중앙 상에 형성된 사각형의 다이아프램 영역과, 상기 다이아프램 영역내에서 상기 다이아프램 영역의 각 측면의 중간부분과 인접하여 배열된 4개의 압저항들과, 브릿지 회로를 형성하도록 상기 압저항들과 전기적으로 연결된 저항층들과, 상기 다이아프램 영역의 밖에서 상기 저항층들을 전기적으로 연결하는 금속층으로 구성된 압저항형 압력 센서에 있어서, 상기 압저항들은 복수개의 저항들이 직렬연결된 형태로 되어 있고, 상기 세 개의 저항들을 연결하는 부분과 상기 저항층은 상기 다이아프램 영역의 각 측면에서 직각이 아닌 예각을 갖게 배열되어 있다. 따라서, 본 발명의 압저항형 압력센서는 압저항들의 불일치로 인한 옵셋전압 및 드리프트 감소로 고정밀의 압력센서를 필요로 하는 곳에 응용할 수 있다.