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公开(公告)号：KR100304204B1
公开(公告)日：2001-09-29
申请号：KR1019980054458
申请日：1998-12-11
Applicant: 전자부품연구원
Abstract: 본 발명은 정밀도가 높고 제작이 용이한 광섬유 정렬소자의 V-그루브 제조방법을 개시한다.
본 발명은 기판 위에 PMMA 또는 감광막을 일정 두께로 형성시키고, X-선 마스크를 이용해 두 번의 경사노광공정과 한 번의 수직노광공정을 수행하는 단계와, 현상액으로 노광된 PMMA 또는 감광막을 제거하여 현상공정 단계와, 현상되어 드러난 기판 위에 금속층을 형성하는 전기도금공정 단계와, 도금공정으로 생성된 금속층을 기판과 분리하는 분리공정 단계를 포함한다.
본 발명에 따르면 1심 및 다심 V-그루브의 고정밀도를 실현할 수 있고 반도체 공정처럼 마스크를 이용하므로 반복 제작이 가능하다.
또한 금형을 제작하여 사출공정에 의해 플라스틱으로 이루어진 V- 그루브를 대량으로 생산할 수 있다.-
公开(公告)号：KR100294116B1
公开(公告)日：2001-07-12
申请号：KR1019970054034
申请日：1997-10-21
Applicant: 전자부품연구원
IPC: G02B6/38
Abstract: PURPOSE: A method for fabricating a ferrule for multi-core type optical connector is provided to form a ferrule for multi-core type optical connector used in an optical connector for connecting one optical fiber with the other optical fiber. CONSTITUTION: A material layer reacted with an X-ray is formed on a substrate. The material layer is formed with a PMMA(Poly-Methyl-Meth-Acrylate) or a resin layer. An exposure process is performed by using an X-ray mask patterned with a ferrule shape. The exposure process is performed by irradiating the X-ray to the material layer. The substrate is exposed by developing the exposed material layer. A material layer having an opposite shape of the ferrule is formed in the substrate. The exposed substrate is filled by a plating structure. The plating structure is flattened by performing a polishing process. The material layer is removed. A lower plate(81) of the ferrule is obtained by separating the plating structure. An upper plate of the ferrule is obtained by performing the above processes, repeatedly. The lower plate(81) is combined with the upper plate.
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公开(公告)号：KR1020010045088A
公开(公告)日：2001-06-05
申请号：KR1019990048219
申请日：1999-11-02
Applicant: 전자부품연구원
IPC: B29C33/00
CPC classification number: B29C33/38 , B29C45/26 , B29L2031/36 , G03F7/2022
Abstract: PURPOSE: A metal mold manufacturing method uses LIGA(Lithographie, Galvanofomung, Abfomung in German) process to manufacture more accurate multi-core optical connector metal mold in more inexpensive cost. CONSTITUTION: A first step is to place a first mask on a photosensitive layer on a base plate and radiate light to the first mask to primarily expose the photosensitive layer to the light. A second step is to develop the photosensitive layer to form a first exposed area including a first groove formed perpendicularly to the photosensitive layer and having form corresponding with multiple lineup grooves. A third step is to place a second mask on the first mask, rotate the first and the second masks by a certain angle to a horizontal plane and to radiate light to the second mask to secondarily expose the photosensitive layer to the light. The fourth step is to develop the photosensitive layer to form a second exposed area including a second groove including a connecting part connected slopingly with the first groove and having form corresponding with a guide groove. The fifth step is to pack metal in the first and the second exposed areas and grow by electroforming process to form multi-core optical connector metal mold.
Abstract translation: 目的：金属模具制造方法采用LIGA（德国Lithographie，Galvanofomung，Abfomung）工艺，以更廉价的成本制造更准确的多芯光连接器金属模具。 构成：第一步是将第一个掩模放在基板上的感光层上，并将光辐射到第一个掩模，以将光敏层主要暴露在光线之下。 第二步是显影感光层以形成第一曝光区域，该第一曝光区域包括垂直于感光层形成的第一凹槽，并具有对应于多个阵容槽的形状。 第三步骤是将第二掩模放置在第一掩模上，将第一和第二掩模旋转一定角度至水平面，并将光辐射到第二掩模，以将光敏层二次曝光于光。 第四步是显影感光层以形成第二曝光区域，该第二曝光区域包括第二凹槽，该第二凹槽包括与第一凹槽倾斜连接的连接部分，并具有对应于导向凹槽的形状。 第五步是在第一和第二暴露区域中包装金属，并通过电铸工艺生长，形成多芯光连接器金属模具。
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公开(公告)号：KR1020000039200A
公开(公告)日：2000-07-05
申请号：KR1019980054458
申请日：1998-12-11
Applicant: 전자부품연구원
Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing a V-groove of an optical fiber arranging device is provided to mass-produce V-grooves by injection molding. CONSTITUTION: A PMMA(21) or a sensitization layer is formed on a substrate(20). Twice inclined sensitization and one vertical sensitization are accomplished by using an X-ray mask(22). The exposed PMMA(21) or the sensitization layer is removed by a developing liquid. A metal layer(32) is formed on the exposed substrate(20). The metal layer and the substrate(20) is separated. According to the method for manufacturing a V-groove of an optical fiber arranging device, V-grooves can be mass-produced.
Abstract translation: 目的：提供一种用于制造光纤布置装置的V形槽的方法，以通过注模成型大量生产V形槽。 构成：在基板（20）上形成PMMA（21）或增感层。 通过使用X射线掩模（22）实现两次倾斜致敏和一次垂直致敏。 曝光的PMMA（21）或增感层被显影液除去。 在暴露的基板（20）上形成金属层（32）。 分离金属层和基板（20）。 根据用于制造光纤排列装置的V形槽的方法，可以批量生产V形槽。
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公开(公告)号：KR1020000039199A
公开(公告)日：2000-07-05
申请号：KR1019980054457
申请日：1998-12-11
Applicant: 전자부품연구원
IPC: H01L21/027
Abstract: PURPOSE: An X-line mask for a LIGA process is provided to improve the productivity of the X-line mask by enlarging the exposure area of a membrane. CONSTITUTION: An X-line mask comprises a substrate(10). A first membrane(12) made of nitride silicon having a superior X-line transmitting feature is formed on the substrate(10). A second membrane(14) made of a metal is formed on the first membrane(12) to improve the durability of the first membrane(12). An absorbing member(30) for absorbing the X-line having a predetermined shape is patterned on the second membrane(14). A window is installed at a rear side of the substrate(10). The window is formed by removing some part of the rear portion of the substrate(10) so as to define the area to be exposed.
Abstract translation: 目的：提供用于LIGA工艺的X线掩模，以通过扩大膜的曝光面积来提高X线掩模的生产率。 构成：X线掩模包括基底（10）。 在衬底（10）上形成由氮化硅制成的具有优异X线透射特征的第一膜（12）。 在第一膜（12）上形成由金属制成的第二膜（14），以提高第一膜（12）的耐久性。 用于吸收具有预定形状的X线的吸收构件（30）在第二膜（14）上被图案化。 窗口安装在基板（10）的后侧。 通过去除衬底（10）的后部的一些部分以形成要暴露的区域来形成窗口。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR100249317B1
公开(公告)日：2000-03-15
申请号：KR1019970068059
申请日：1997-12-12
Applicant: 전자부품연구원
IPC: H01L21/027
Abstract: 본 발명은 리가(LIGA) 공정에 관한 것으로서, 우선, 패턴이 형성되어 있는 박막으로 이루어진 X-선용 마스크를 기판에 부착되어 있지 않고 양면이 노출되어 있는 감광막에 정렬시킨 다음, X-선을 조사하고 현상하여 감광막 패턴을 형성한다. 이때, 현상액에 의한 식각은 감광막의 윗면과 아래면을 통하여 이루어지므로 경사 식각이 가지는 폭이 줄어들어 기판에 부착되어 있는 채로 노광할 때보다 오차가 줄어든다. 또한, 감광막이 기판에 부착되어 있지 않으므로 X-ray의 광자에 의한 산란 또는 2차 전자 효과는 발생하지 않으므로, 현상 후에 감광막 패턴의 오차가 줄어든다.
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公开(公告)号：KR100225069B1
公开(公告)日：1999-10-15
申请号：KR1019970006806
申请日：1997-02-28
Applicant: 전자부품연구원
IPC: G01N27/28
Abstract: 본 발명의 접촉연소식 마이크로 가스 감지 소자는 메사형의 기판과, 상기 메사형의 실리콘 기판 상에 형성된 물질막과, 상기 물질막 상에 형성된 접착향상막과, 상기 접착향상막 상에 형성된 가열부용 제1 백금 패턴과 상기 제1 백금 패턴의 양측에 형성된 패드용 제2 백금 패턴과, 상기 접착향상막 상에 상기 제1 백금 패턴들 사이를 매몰하면서 형성된 보호층과, 상기 보호층 상에 형성된 촉매층을 포함하여 이루어진다. 상기 접착향상막은 (Al, Si)O
x 막으로 이루어져 있으며, 상기 촉매층은 백금/알루미늄 산화막(Pt/Al
2 O
3 )으로 이루어져 있다. 본 발명의 접촉연소식 마이크로 가스 감지 소자는 700℃까지 온도저항계수의 열화고 백금저항체의 TCR(temperature coefficient resistance)을 높이기 위해 (Al, Si)O
x 막으로 이루어진 접착향상막 상에 백금 저항 패턴이 형성되어 있고, 백금/알루미늄 산화막(Pt/Al
2 O
3 )으로 이루어진 촉매층을 구비하여 감도를 높일 수 있다.-
公开(公告)号：KR100307756B1
公开(公告)日：2001-11-02
申请号：KR1019990041939
申请日：1999-09-30
Applicant: 전자부품연구원
IPC: G01R29/08
CPC classification number: G01R29/0878
Abstract: 본발명은밀리미터파대역이상의전자기파를검출하기위한검출장치의감지센서를개시한다. 본발명은기판상에열전쌍으로이용할수 있는서로다른이종금속중 어느하나의금속물질로다이폴안테나를형성하고, 다이폴안테나의급전부에나머지금속으로전기적저항체를형성하되안테나의입력임피던스와같도록한다. 두금속이만나는접점중 한접점은안테나를형성한금속이연장되고다른접점에서는저항체를형성한금속이연장되어열전쌍온도센서가형성되는것을특징으로한다. 본발명에따르면, 밀리미터파대역이상의전자기파를검출할수 있으면서도제작이용이한새로운방식즉, 열전쌍(thermo-couple)과안테나소자를조합한전자기파검출장치의감지센서와 CMOS 구동소자의제조공정을동시에수행할수 있어공정이단축되는효과를얻을수 있다.
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公开(公告)号：KR1020010036173A
公开(公告)日：2001-05-07
申请号：KR1019990043075
申请日：1999-10-06
Applicant: 전자부품연구원
IPC: H01L41/22
Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing a shape structure of a supersonic wave transducer array is provided to a shape structure of a supersonic wave transducer array by using an LIGA(Lithographie, Galvanoformung, Abformung) method. CONSTITUTION: A photoresist layer is formed on a conductive substrate. The photoresist layer is exposed through a mask. A photoresist structure is formed by developing the photoresist layer to expose an upper face of the conductive substrate. A metal mold(240) is formed by performing a plating process for the photoresist structure. A supersonic wave transducer array pattern is formed on a PZT(Pb(Zr,Ti)O3) plate(250) by pressing the metal mold(240) on the PZT plate(250). A firing process for the PZT plate(250) is performed.
Abstract translation: 目的：通过使用LIGA（Lithographie，Galvanoformung，Abformung）方法将超声波换能器阵列的形状结构制造方法提供给超声波换能器阵列的形状结构。 构成：在导电性基板上形成光致抗蚀剂层。 光刻胶层通过掩模曝光。 通过显影光致抗蚀剂层以暴露导电基底的上表面形成光致抗蚀剂结构。 通过对光致抗蚀剂结构进行电镀工艺来形成金属模具（240）。 通过压制PZT板（250）上的金属模（240），在PZT（Pb（Zr，Ti）O3）板（250）上形成超声波换能器阵列图案。 执行PZT板（250）的烧制工艺。
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公开(公告)号：KR1020010029228A
公开(公告)日：2001-04-06
申请号：KR1019990041939
申请日：1999-09-30
Applicant: 전자부품연구원
IPC: G01R29/08
CPC classification number: G01R29/0878
Abstract: PURPOSE: A sensor of an electromagnet wave detecting device is provided to detect an electromagnetic wave over a millimeter wave band by joining a thermo-couple and an antenna device. CONSTITUTION: An electromagnetic wave detecting device includes a sensor which is arranged with a matrix structure as to detect an electromagnetic wave image over a millimeter wave band. A dipole antenna(10) is formed with any one metal material among the different heterogeneous metals(11a,11b) using as a thermo-couple on a substrate. A feeder resistor part(12) is formed with the different heterogeneous metal from that of the dipole antenna. The resistor part formed with the different metal material from the metal material forming the dipole antenna among the different heterogeneous metals is extended to form a thermo-couple with the dipole antenna.
Abstract translation: 目的：提供电磁波检测装置的传感器，通过连接热电偶和天线装置来检测毫米波段上的电磁波。 构成：电磁波检测装置包括传感器，该传感器具有矩阵结构，以便检测毫米波段上的电磁波图像。 偶极天线（10）在不同的非均质金属（11a，11b）中使用在基板上作为热电偶的任何一种金属材料形成。 馈电电阻器部分（12）形成有与偶极子天线不同的异质金属。 由形成偶极天线的不同金属材料形成的不同金属材料的电阻部分在不同的非均质金属之间扩展，以形成与偶极子天线的热电偶。
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