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公开(公告)号：KR101506704B1
公开(公告)日：2015-03-27
申请号：KR1020140116416
申请日：2014-09-02
Applicant: 조선대학교산학협력단 , 전남대학교산학협력단
CPC classification number: A61L27/34 , A61F2/28 , A61L27/3839 , A61L27/46 , A61L27/56
Abstract: 본 발명은 고밀도폴레에틸렌 기반의 안면 이식용 다공성 스캐폴드와 이의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 3D 프린팅에 의해 3차원 형상으로 성형함으로써 의도한 스캐폴드의 형상을 정확하게 구현할 수 있으며 기공의 크기와 형태까지 자유롭게 조절할 수 있는 안면 이식용 다공성 스캐폴드와 이의 제조방법에 관한 것이다.
본 발명의 3D 프린팅에 의한 고밀도폴레에틸렌 기반의 안면 이식용 다공성 스캐폴드는 고밀도 폴리에틸렌(High density Polyethylene)과 생체활성물질을 혼합한 복합소재를 3D 프린팅에 의해 다공 구조로 형성한 다공성 지지체와, 플라즈마에 의해 표면처리되어 상기 다공성 지지체의 일면에 형성된 표면처리층을 구비한다.Abstract translation: 本发明涉及一种基于高密度聚乙烯的面部移植的多孔支架及其制造方法，更具体地，涉及用于面部移植的多孔支架，其可以通过形成在 通过三维印刷的三维形状，并且可以自由地调节孔的尺寸和形状，以及其制造方法。 基于高密度聚乙烯通过3D印刷进行面部移植的多孔支架包括通过3D印刷形成多孔结构的复合高密度聚乙烯复合材料和活体活性物质的多孔载体; 以及通过使表面经等离子体处理而形成在多孔载体的一侧上的表面处理层。
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公开(公告)号：KR100850029B1
公开(公告)日：2008-08-04
申请号：KR1020070045231
申请日：2007-05-09
Applicant: 조선대학교산학협력단 , 전남대학교산학협력단
IPC: A61C7/00
CPC classification number: A61C7/14 , A61C8/0013 , A61C8/0096 , A61L2/238 , A61L27/06 , A61L27/306 , A61L2430/12
Abstract: A method of forming a silver ion coating layer is provided to apply silver ions to an orthodontic device or to the surface of an implant, and to prevent the pathogenic oral microflora attachment that causes tooth-decay. A silver ion coating layer is formed by polymerization. To this end, a target part(35) fixed to a stabilizer is injected between both electrodes(31) inside a vacuum chamber(30), and a vacuum pump(20) is operated to make the chamber vacuum. The pressure in the chamber is measured by a pressure gauge(40). Under the vacuum condition, Ar or inert gas(60) is injected to clean the surface of a substrate. Acrylic acid gas(65) is introduced into the chamber as a monomer gas, and discharged with a generator(50). The discharge takes place in two steps, 80W for 4-6min and 30-40W for 15-25min. A resulting acrylic acid polymerization coating layer with a carboxylic group is immersed in a silver ion-containing solution for about 30minutes to substitute hydrogen ions with silver ions.
Abstract translation: 提供形成银离子涂层的方法，以将银离子施加到正畸装置或植入物的表面，并防止导致牙齿衰变的病原性口腔微生物群落附着。 通过聚合形成银离子涂层。 为此，将固定在稳定器上的目标部件35注入到真空室（30）内部的两个电极（31）之间，并且操作真空泵（20）以使腔室真空。 室内的压力由压力计（40）测量。 在真空条件下，注入Ar或惰性气体（60）以清洁基材表面。 将丙烯酸气体（65）作为单体气体引入室中，并用发生器（50）排出。 放电分两步进行，80W为4-6min，30-40W为15-25min。 将得到的具有羧基的丙烯酸聚合涂层浸入含银离子的溶液中约30分钟以用银离子代替氢离子。
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公开(公告)号：KR101119669B1
公开(公告)日：2012-03-19
申请号：KR1020090037810
申请日：2009-04-29
Applicant: 조선대학교산학협력단
Abstract: 본 발명은 임플란트 코팅막 형성방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 치아용 임플란트 표면에 아민기를 가지는 코팅막을 형성하여 골 재생이 우수한 임플란트 코팅막 형성방법에 관한 것이다.
본 발명은 치아용 임플란트의 코팅막 형성 방법에 있어서, 임플란트의 표면에 묻어 있는 이물질을 제거하는 이물질제거단계와, 임플란트의 표면에 반응가스를 플라즈마 중합반응시켜 아민기를 갖는 코팅막을 형성하는 코팅단계를 포함한다.
본 발명에 의하면 임플란트의 식립시 골세포 부착, 증식, 분화와 같은 세포 활동을 더욱 촉진시킬 수 있어 임플란트와 골과의 결합력을 향상시킬 수 있다.
임플란트, 플라즈마, 골재생, 골융합, 아민기, 암모니아-
公开(公告)号：KR1020100118878A
公开(公告)日：2010-11-08
申请号：KR1020090037810
申请日：2009-04-29
Applicant: 조선대학교산학협력단
Abstract: PURPOSE: A method for forming a coating film for implant is provided, which enables excellent fusion with bone in the surface of implant by low temperature plasma process. CONSTITUTION: A method for forming a coating film for implant comprises: a step of removing foreign material adhered to the surface of implant; and a coating step of forming a coating film having amine radical by polymerizing reaction gas by the plasma in the surface of implant. In the coating step, ammonia(65) is used as the reaction gas. In the plasma polymerization, electricity is discharged while pressure is maintained at 50-100m torr and the reaction temperature is maintained at 20-25 deg.C.
Abstract translation: 目的：提供一种用于形成用于植入物的涂膜的方法，其通过低温等离子体处理使得能够与植入物表面中的骨优异的融合。 构成：用于形成用于植入物的涂膜的方法包括：去除附着到植入物表面的异物的步骤; 以及通过在植入物的表面中通过等离子体聚合反应气体而形成具有胺自由基的涂膜的涂布步骤。 在涂布步骤中，使用氨（65）作为反应气体。 在等离子体聚合中，电压排出，同时压力保持在50-100m乇，反应温度保持在20-25℃。
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公开(公告)号：KR1020080058066A
公开(公告)日：2008-06-25
申请号：KR1020060132155
申请日：2006-12-21
Applicant: 조선대학교산학협력단
IPC: A61C8/00
CPC classification number: A61C8/0068 , A61C8/0012 , A61C8/0022 , A61C2201/007 , A61K6/04 , A61L27/04
Abstract: An implant is provided to decrease propagation of bacteria by reducing a gap between a fixture and an abutment member and to increase bearing force of the abutment member for the fixture. An implant(10) is composed of a fixture(11) implanted in an alveolar bone and an abutment member(12) made of shape memory alloy and combined with the fixture by a combining unit(20) using deformable force generated by temperature difference of the shape memory alloy. The combining unit has a projection(21) formed at the upper end of the fixture and tapered in order to reduce the diameter gradually toward the lower side. A combining groove(22) is formed at the lower side of the abutment member to join with the projection and provided with the inside tapered to correspond to the projection.
Abstract translation: 提供了一种植入物，用于通过减少固定器和邻接构件之间的间隙并增加固定装置的邻接构件的承载力来减少细菌的繁殖。 植入物（10）由植入牙槽骨的固定物（11）和由形状记忆合金构成的抵接构件（12）构成，并且通过组合单元（20）与夹具结合使用由温度差产生的可变形力 形状记忆合金。 组合单元具有形成在固定装置的上端的突起（21），并且为了朝向下侧逐渐减小直径而逐渐变细。 组合槽（22）形成在抵接构件的下侧，以与突起连接并且设置有与突起对应的内锥形。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR100876216B1
公开(公告)日：2008-12-31
申请号：KR1020060132155
申请日：2006-12-21
Applicant: 조선대학교산학협력단
IPC: A61C8/00
Abstract: An implant is provided to decrease propagation of bacteria by reducing a gap between a fixture and an abutment member and to increase bearing force of the abutment member for the fixture. An implant(10) is composed of a fixture(11) implanted in an alveolar bone and an abutment member(12) made of shape memory alloy and combined with the fixture by a combining unit(20) using deformable force generated by temperature difference of the shape memory alloy. The combining unit has a projection(21) formed at the upper end of the fixture and tapered in order to reduce the diameter gradually toward the lower side. A combining groove(22) is formed at the lower side of the abutment member to join with the projection and provided with the inside tapered to correspond to the projection.
Abstract translation: 提供植入物以通过减小固定件和基台构件之间的间隙来减少细菌的传播并且增加用于固定器的基台构件的支承力。 一种植入物（10）由植入牙槽骨中的固定装置（11）和由形状记忆合金制成的基台构件（12）组成，并通过结合单元（20）利用由温度差产生的变形力与固定装置结合 形状记忆合金。 结合单元具有形成在固定装置上端的锥形凸起（21），以逐渐减小直径朝向下侧。 结合凹槽（22）形成在抵接构件的下侧处以与突起结合并且设置有内侧渐缩以对应于突起。
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公开(公告)号：KR100665346B1
公开(公告)日：2007-01-04
申请号：KR1020040067270
申请日：2004-08-25
Applicant: 전남대학교산학협력단
IPC: C01G23/04
Abstract: 본 발명에 따르면, 산화티타늄 박막은 증착대상물의 일측 상면에 APCVD(Atmosphere Pressure CVD), LPCVD(Low Pressure CVD), PECVD(Plasma Enhanced CVD)법 중 선택된 하나 이상의 공정에 의해 광촉매 물질이 코팅되는 것으로, 상기 CVD법을 적용하면 불순물이 제거된 양질의 박막을 얻을 수 있으며, 넓은 면적에 박막을 균일하게 증착시킬 수 있고, 저온에서도 박막을 증착시킬 수 있는 효과가 있다.
본 발명에 따른 산화티타늄 박막의 제조방법은 증착대상물을 진공챔버에 장착하는 장착단계와, 광촉매 막을 형성하는 물질을 포함하는 유기티탄화합물과 이송 가스 및 산화제 가스를 혼합한 기체상태의 화합물을 기상반응을 일으킬 수 있도록 상기 진공챔버에 공급하는 공급단계와, 상기 기체상태의 화합물의 플라즈마 반응에 의해 상기 증착대상물의 표면에 광촉매 코팅막을 형성하는 박막형성단계를 포함한다.
산화티타늄, 박막, 증착대상물-
公开(公告)号：KR1020060018753A
公开(公告)日：2006-03-02
申请号：KR1020040067270
申请日：2004-08-25
Applicant: 전남대학교산학협력단
IPC: C01G23/04
Abstract: 본 발명에 따르면, 산화티타늄 박막은 증착대상물의 일측 상면에 APCVD(Atmosphere Pressure CVD), LPCVD(Low Pressure CVD), PECVD(Plasma Enhanced CVD)법 중 선택된 하나 이상의 공정에 의해 광촉매 물질이 코팅되는 것으로, 상기 CVD법을 적용하면 불순물이 제거된 양질의 박막을 얻을 수 있으며, 넓은 면적에 박막을 균일하게 증착시킬 수 있고, 저온에서도 박막을 증착시킬 수 있는 효과가 있다.
본 발명에 따른 산화티타늄 박막의 제조방법은 증착대상물을 진공챔버에 장착하는 장착단계와, 광촉매 막을 형성하는 물질을 포함하는 유기티탄화합물과 이송 가스 및 산화제 가스를 혼합한 기체상태의 화합물을 기상반응을 일으킬 수 있도록 상기 진공챔버에 공급하는 공급단계와, 상기 기체상태의 화합물의 플라즈마 반응에 의해 상기 증착대상물의 표면에 광촉매 코팅막을 형성하는 박막형성단계를 포함한다.
산화티타늄, 박막, 증착대상물-
公开(公告)号：KR1020060018751A
公开(公告)日：2006-03-02
申请号：KR1020040067268
申请日：2004-08-25
Applicant: 전남대학교산학협력단
IPC: C03C17/245
CPC classification number: C03C17/2456 , C03C23/006 , C03C2217/71
Abstract: 본 발명에 다르면, 광촉매 코팅막은 광촉매물질로 이루어지며 가시광에 의해 활성화 되도록 저온 플라즈마 처리된 것으로, 이의 처리 방법은 플라즈마 생성기의 챔버에 광촉매 코팅막이 형성된 기체를 장착하는 제 1단계와, 상기 플라즈마 생성기의 챔버 내에 플라즈마화 기체를 주입하는 제2단계와,상기 플라즈마 생성기를 통하여 생성되는 저온 플라즈마를 이용하여 상기 광촉매 코팅막을 표면처리하여 가시광에서 반응되도록 하는 제3단계를 포함한다.
광촉매, 저온 플라즈마, 개질-
公开(公告)号：KR1020060120561A
公开(公告)日：2006-11-27
申请号：KR1020060111273
申请日：2006-11-10
Applicant: 전남대학교산학협력단
IPC: C01G23/04
Abstract: A method for preparing a titanium oxide thin film is provide to allow uniform deposition of a high-quality thin film free from impurities on a large area, and to perform the deposition at a low temperature. The titanium oxide thin film is obtained by depositing a photocatalyst substance onto a top surface of an object to be deposited via any one process selected from the group consisting of APCVD, LPCVD, and PECVD. The photocatalyst substance is formed from a starting material including an organic titanium compound such as titanium tetraisopropoxide. The titanium oxide thin film is prepared by the method comprising the steps of: mounting an object to be deposited in a vacuum chamber; supplying a gaseous mixture containing an organic titanium compound including a material capable of forming a photocatalyst film, a carrier gas and an oxidant gas to the vacuum chamber; and forming a thin film on the surface of the object via plasma reaction of the gaseous mixture.
Abstract translation: 提供了一种制备氧化钛薄膜的方法，以便在大面积上均匀沉积不含杂质的高质量薄膜，并在低温下进行沉积。 通过从APCVD，LPCVD和PECVD组成的组中选择的任一种工艺将光催化剂物质沉积到待沉积物体的顶表面上，获得氧化钛薄膜。 光催化剂物质由包括四异丙醇钛等有机钛化合物的原料形成。 氧化钛薄膜通过以下方法制备：包括以下步骤：将要沉积的物体安装在真空室中; 向真空室供给含有能够形成光催化剂膜，载气和氧化剂气体的有机钛化合物的气态混合物; 以及通过气体混合物的等离子体反应在物体的表面上形成薄膜。
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