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发明申请
기판처리장치용 상부돔 및 기판처리장치 审中-公开

公开(公告)号：WO2023287155A1

公开(公告)日：2023-01-19

申请号：PCT/KR2022/010106

申请日：2022-07-12

Applicant: 주성엔지니어링(주)

Inventor： 우람 , 김기범 , 김도형 , 김재홍 , 안민

IPC: C23C16/00 , H01J37/32 , C30B25/08

Abstract: 본 발명은 기판에 대한 처리공정이 이루어지는 챔버; 상기 챔버의 내부에서 적어도 하나의 기판을 지지하는 기판지지부; 상기 챔버의 상부(上部)를 덮는 상부돔; 및 상기 챔버의 하부(下部)에 결합된 하부돔을 포함하되, 상기 상부돔의 에지부가 상기 상부돔의 센터부보다 두꺼운 두께로 형성된 기판처리장치에 관한 것이다.

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