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公开(公告)号：WO2023287155A1
公开(公告)日：2023-01-19
申请号：PCT/KR2022/010106
申请日：2022-07-12
Applicant: 주성엔지니어링(주)
Abstract: 본 발명은 기판에 대한 처리공정이 이루어지는 챔버; 상기 챔버의 내부에서 적어도 하나의 기판을 지지하는 기판지지부; 상기 챔버의 상부(上部)를 덮는 상부돔; 및 상기 챔버의 하부(下部)에 결합된 하부돔을 포함하되, 상기 상부돔의 에지부가 상기 상부돔의 센터부보다 두꺼운 두께로 형성된 기판처리장치에 관한 것이다.
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公开(公告)号：WO2021006676A1
公开(公告)日：2021-01-14
申请号：PCT/KR2020/009047
申请日：2020-07-09
Applicant: 주성엔지니어링(주)
Abstract: 본 출원은, 기판을 처리하기 위한 반응공간을 제공하는 공정 챔버; 상기 기판을 지지하는 기판지지부; 상기 공정 챔버의 내부에 설치되어 상기 기판에 대향하며 상기 기판측으로 돌출된 복수의 돌출전극을 포함하는 제1 전극; 및 상기 제1 전극의 하부에 위치하고 상기 돌출전극이 삽입되는 복수의 삽입홀이 형성된 제2 전극;을 포함하고, 상기 제2 전극의 삽입홀은 상기 돌출전극이 삽입되는 상면의 제1홀과 상기 상면과 대향하는 하면의 제2 홀을 포함하고, 상기 제1 홀은 제1 개구를 갖고, 상기 제2 홀은 제2 개구를 가지며 상기 제2 전극의 중심부에서의 상기 제1 개구의 면적과 상기 제2 전극의 가장자리부에서의 상기 제1 개구의 면적은 서로 상이한 것을 특징으로 하는 기판처리장치에 관한 것이다.
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公开(公告)号：WO2014007572A1
公开(公告)日：2014-01-09
申请号：PCT/KR2013/005986
申请日：2013-07-05
Applicant: 주성엔지니어링(주)
IPC: H01L21/205
CPC classification number: H01J37/32449 , C23C16/509 , H01J37/32541 , H01J37/32568
Abstract: 본 발명은 공정 챔버; 적어도 하나의 기판을 지지하도록 상기 공정 챔버 내에 설치되며, 소정 방향으로 회전하도록 구성된 기판 지지부; 상기 기판 지지부에 대향하면서 상기 공정 챔버의 상부를 덮는 챔버 리드; 및 상기 챔버 리드에 연결되어 있고, 상기 기판 상에 가스를 분사하는 복수의 가스 분사 모듈을 구비한 가스 분사부를 포함하여 이루어지고, 이때, 상기 가스 분사 모듈은 플라즈마 반응 공간을 형성하는 접지 전극 프레임 및 상기 접지 전극 프레임 내에 형성되어 상기 접지 전극 프레임과 함께 플라즈마 방전을 일으키는 전원 전극을 포함하여 이루어지고, 상기 전원 전극은 상기 기판 지지부의 중심부 쪽의 제1 변의 높이보다 상기 기판 지지부의 가장자리부 쪽의 제2 변의 높이가 큰 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.
Abstract translation: 本发明涉及一种基板处理装置，包括：处理室; 基板支撑单元，其布置在所述处理室内部，以便支撑至少一个基板，并且构造成沿预定方向旋转; 腔室盖，其布置成与衬底支撑单元相对并且覆盖处理室的顶部; 以及气体注入单元，其连接到所述室盖并且具有用于将气体注入到所述基板上的多个气体注入模块。 每个气体注入模块包括：具有等离子体反应空间的接地电极框架; 以及形成在接地电极框架内部以与接地电极框架协作以便引起等离子体放电的电力电极。 功率电极被构造为使得基板支撑单元的边缘处的第二侧的高度高于在基板支撑单元的中心处的第一侧的高度。
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公开(公告)号：KR3009229650000S
公开(公告)日：2017-09-14
申请号：KR3020160042738
申请日：2016-08-31
Applicant: 주성엔지니어링(주)
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公开(公告)号：KR1020170055141A
公开(公告)日：2017-05-19
申请号：KR1020150157947
申请日：2015-11-11
Applicant: 주성엔지니어링(주)
IPC: H01L21/687 , H01L21/683 , H01L21/677
Abstract: 기판처리장치의일 실시예는, 공정챔버; 상기공정챔버내부에구비되는디스크; 상기디스크에적어도하나배치되고, 상면에기판이안착되는서셉터; 상기디스크를승하강가능하도록지지하는승강장치; 및상기기판또는상기서셉터를설정된각도로회전시키는회전장치를포함할수 있다.
Abstract translation: 衬底处理设备的一个实施例包括处理室; 在处理室内提供的盘; 设置在所述盘中的至少一个上的感受器，所述感受器具有其上放置有基板的顶表面; 提升和降低盘的升降装置; 以及用于以预定角度旋转衬底或基座的旋转装置。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR3008974680000S
公开(公告)日：2017-03-09
申请号：KR3020160042055
申请日：2016-08-29
Applicant: 주성엔지니어링(주)
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公开(公告)号：KR101136728B1
公开(公告)日：2012-04-20
申请号：KR1020100101357
申请日：2010-10-18
Applicant: 주성엔지니어링(주)
IPC: H01L21/02 , H01L21/683
CPC classification number: H01L21/67069 , H01J37/32091 , H01L21/6831 , Y10T16/52 , Y10T29/49815
Abstract: PURPOSE: A substrate processing apparatus and a disassembling and assembling method thereof are provided to improve convenience for maintaining and repairing and replacing a substrate settling device by installing an opening/closing device which opens a door in a body. CONSTITUTION: A chamber(112) includes a body(112c) having an opening part(112b) and a door(112d) opening and closes the opening part. An insertion part(152) including a carrying-out part(150a) and a connecting part(150b) is formed in the body. A guide device(156) guiding the horizontal straight motion of the connecting unit is installed in the insertion part. A substrate settling device(116) is installed inside the chamber. The opening/closing device offers a rotary shaft for rotating the door.
Abstract translation: 目的：提供一种基板处理装置及其拆卸和组装方法，以通过安装在主体中打开门的打开/关闭装置来提高维护和修理和更换基板沉降装置的便利性。 构成：室（112）包括具有开口部分（112b）的主体（112c）和打开和关闭开口部分的门（112d）。 在本体中形成有包括搬出部（150a）和连接部（150b）的插入部（152）。 引导连接单元的水平直线运动的引导装置（156）安装在插入部分中。 衬底沉淀装置（116）安装在腔室内。 打开/关闭装置提供用于旋转门的旋转轴。
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公开(公告)号：KR101136729B1
公开(公告)日：2012-04-19
申请号：KR1020110107370
申请日：2011-10-20
Applicant: 주성엔지니어링(주)
IPC: H01L21/02 , H01L21/683
CPC classification number: H01L21/67772 , H01L21/6719 , H01L21/68785
Abstract: PURPOSE: An opening/closing device of a substrate processing apparatus is provided to easily carry in and out a substrate settling device from a chamber by opening and shutting a door by rotation. CONSTITUTION: A body(112c) includes an insertion part(152) including a carrying-out part(150a) and a connecting part(150b). One side of the carrying-out part is fixed to an end part of a door(112d). A guide device(156) guiding the horizontal straight motion of the connecting unit is installed in the insertion part. The guide device consists of a fixed bar(156a) fixed to the insertion part and a plurality of blocks(156b) straightly moving along the bar. A rotary shaft(150c) connects the drawing-out part and the connecting part.
Abstract translation: 目的：提供基板处理装置的打开/关闭装置，通过旋转打开和关闭门来容易地从室中携带和移出基板沉降装置。 构成：主体（112c）包括包括移出部分（150a）和连接部分（150b）的插入部分（152）。 搬出部的一侧固定在门（112d）的端部。 引导连接单元的水平直线运动的引导装置（156）安装在插入部分中。 引导装置由固定到插入部分的固定杆（156a）和沿着杆直线移动的多个块（156b）组成。 旋转轴（150c）连接引出部和连接部。
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公开(公告)号：KR1020170126111A
公开(公告)日：2017-11-17
申请号：KR1020160056083
申请日：2016-05-09
Applicant: 주성엔지니어링(주)
IPC: H01L21/687 , H01L21/683
Abstract: 리프트핀용지지유닛및 이를사용한기판처리장치가개시된다. 본발명에따른리프트핀용지지유닛및 이를사용한기판처리장치는, 지지유닛의몸체의관통공에리프트핀이설치되고, 몸체에회전가능하게설치된지지부재의일측부위가관통공에위치되어리프트핀의외주면과접촉한다. 그러므로, 지지부재와리프트핀은선접촉하는형태가되므로, 지지부재와리프트핀의접촉면적은작다. 따라서, 상호접촉하는지지부재의외주면과리프트핀의내주면사이의간극을상대적으로덜 미세하게설정하여도되므로, 편리한효과가있을수 있다.
Abstract translation: 公开了一种用于升降销的支撑单元和使用该支撑单元的基板处理设备。 升降销支持单元和根据本发明使用相同的装置中处理所述衬底，所述升降销被安装在所述支承单元主体的通孔，它是被安装位于升降销的通孔外周面体支撑bujaeui一个部分可旋转地 等等。 因此，由于支撑构件和升降销彼此接触，所以支撑构件和升降销之间的接触表面很小。 因此，能够将支承部件的外周面与升降销的内周面接触的间隙设定得较小，能够获得便利的效果。
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公开(公告)号：KR1020170064352A
公开(公告)日：2017-06-09
申请号：KR1020150170029
申请日：2015-12-01
Applicant: 주성엔지니어링(주)
IPC: H01L21/677 , H01L21/324 , H01L21/67 , H01L21/205 , H01L21/02
Abstract: 본발명은적어도하나이상의기판이인입되어진공및 대기상태를반복하는반입용로드락챔버, 상기기판상에반도체층을형성하는공정챔버및 상기반입용로드락챔버의적어도하나이상의기판을상기공정챔버로이송시키는이송챔버를포함하고, 상기이송챔버는, 상기적어도하나이상의기판을수용하는공간을제공하는바디, 상기바디의상부면을개폐하도록구비되는리드부를포함하며, 상기리드부는일면에상기바디에수용된상기적어도하나이상의기판에열을공급하는가열부및 상기리드부의일면에배치되어상기리드부를냉각시키는냉각부를포함하고, 상기냉각부는상기가열부로부터반경방향외측을향하여소정간격이격되게배치되는기판처리장치시스템에관한것이다.
Abstract translation: 至少所述至少一个基片是根据在进口负载锁定腔室的处理腔室，用于重复所述待机在所述衬底上的半导体层绘制真空和携带负载锁定腔室，处理腔室和至少一个板，本发明 包括用于转移到转移腔室和传送腔室，其被设置成以打开和关闭所述主体的包括至少一个或多个盖部，所述身体和衣服表面，以用于容纳所述衬底，所述体到引线部侧提供的空间 以及冷却部分，其设置在所述盖部分的一侧上用于冷却所述盖部分，其中所述冷却部分沿径向向外的方向与所述加热部分相距预定距离设置， 设备系统。
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