저압 플라즈마 발생 장치
    1.
    发明授权
    저압 플라즈마 발생 장치 有权
    低压等离子体发生装置

    公开(公告)号:KR101659687B1

    公开(公告)日:2016-09-23

    申请号:KR1020150058230

    申请日:2015-04-24

    Abstract: 본발명은저압플라즈마발생장치를제공한다. 본발명의일 실시예에따른저압플라즈마발생장치는내부에방전공간을구비하고내부표면이절연체로코팅되고내측면에서방위각방향을따라구불구불한곡면을가지고도전체로형성되고전극챔버; 상기전극챔버보다높은전위를가지고상기전극챔버의중심부에배치된원기둥형상의중심전극; 상기전극챔버와정렬되어배치되는상부절연챔버; 상기전극챔버와정렬되어배치되는하부절연챔버; 및상기전극챔버에 RF 전력을공급하는 RF 전원을포함한다.

    Abstract translation: 本发明提供一种低压等离子体生成装置。 根据本发明的一个实施例,低压等离子体发生装置包括:电极室,包括具有绝缘体的内表面的放电空间和沿着内表面的方位角的波形表面; 与电极室相比具有较高电位并且布置在电极室的中心部分的圆柱形状的中心电极; 与电极室配置的上绝缘室; 布置有电极室的下绝缘室; 以及向电极室供给RF功率的RF电源。 因此,即使使用诸如氟的处理气体,低压等离子体产生装置也能够稳定地操作。

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