公开(公告)号：KR101055751B1

公开(公告)日：2011-08-11

申请号：KR1020090010833

申请日：2009-02-11

Applicant: 코아텍주식회사

Inventor： 문영환 ,  이동규 ,  오세원 ,  차종현 ,  안재용 ,  박채모 ,  최영재 ,  김휘대

IPC: C01B33/107

Abstract: 본 발명은 삼염화실란(TCS)을 제조함에 있어서 삼염화실란의 생성에 방해가 되지 않는 발열 반응물질을 더 투입하여 내부 반응에 의한 발열량으로 반응기 히터의 용량을 최소화하거나 제거하여 반응기의 부피를 최소화함으로써 설치공간, 설치비용, 생산원가 및 유지비용을 절감하는데 그 목적 및 효과가 있다.
본 발명은 반도체용 특수가스 및 태양전지용 폴리 실리콘의 주원료인 삼염화실란(TCS)을 효율적으로 제조하기 위해 메탈등급의 규소입자의 크기가 50~ 400mesh이고 순도는 90%이상이며. 수소의 순도는 70%이상이고, 사염화규소(STC)의 순도는 75%이상이고, 염소의 순도는 90%이상의 공업용을 사용하며, 사염화규소가 담겨있는 탱크를 기화온도 이상으로 가열하고, 수소를 사염화규소 탱크로 주입하여 버블링시켜 기화된 사염화규소와 수소가 함께 반응기로 공급되며, 염소는 반응기 전단에서 상기 사염화규소 및 수소와 함께 혼합 공급하거나 반응기 내부로 독립적으로 금속촉매가 장입된 반응기로 공급되고, 반응기를 통과한 가스는 리보일러와 컨덴서를 구비한 증류탑으로 이송되며, 증류탑에서 비등점 차이를 이용하여 삼염화실란과 사염화규소를 분리하여 분리 회수된 사염화규소는 사염화규소 탱크로 재순환시키고, 순도 95% 이상인 삼염화실란은 저장탱크로 이송되도록 구성되어 있다.
삼염화실란, 사염화규소, 염소, 수소, 메탈등급 실리콘

公开(公告)号：KR1020100084869A

公开(公告)日：2010-07-28

申请号：KR1020090004237

申请日：2009-01-19

Applicant: 코아텍주식회사

Inventor： 문영환 ,  이동규 ,  오세원 ,  차종현 ,  안재용 ,  박채모 ,  최영재 ,  김휘대

IPC: C01B33/08 ,  B01J21/00 ,  B01J23/44

CPC classification number: C01B33/10742 ,  B01J21/04 ,  B01J21/08 ,  B01J21/18 ,  B01J23/44

Abstract: PURPOSE: A manufacturing method of trichlorosilane and the trichlorosilane manufactured thereby are provided to reduce costs for managing and maintaining and installation costs by gaining a high conversion rate of trichlorosilane. CONSTITUTION: A Manufacturing method of trichlorosilane and the trichlorosilane manufactured thereby includes a step for gaining trichlorosilane from a reactor(11) by injecting hydrogen chloride into a reaction and mounting metallic silicon and a palladium catalyst in the reactor. The palladium catalyst is manufactured by drying the palladium metal after dipping the palladium metal in PdCl3 or Pd(NO3) liquid by selecting a carrier among active alumina, zeolite, activated charcoal, diatomite, alumina and silica.

Abstract translation: 目的：提供三氯硅烷的制造方法和由此制造的三氯硅烷，以通过获得三氯硅烷的高转化率来降低管理和维护和安装成本的成本。 构成：由此制造的三氯硅烷和三氯硅烷的制造方法包括通过将氯化氢注入反应并在反应器中安装金属硅和钯催化剂从反应器（11）获得三氯硅烷的步骤。 通过在活性氧化铝，沸石，活性炭，硅藻土，氧化铝和二氧化硅中选择载体，将钯金属浸渍在PdCl 3或Pd（NO 3）液体中后，通过干燥钯金属来制备钯催化剂。

公开(公告)号：KR101133658B1

公开(公告)日：2012-04-10

申请号：KR1020090010035

申请日：2009-02-09

Applicant: 코아텍주식회사

Inventor： 문영환 ,  이동규 ,  오세원 ,  차종현 ,  안재용 ,  박채모 ,  최영재 ,  김휘대

IPC: C01B33/107 ,  B01J8/06 ,  B01J23/72 ,  C01B33/06

Abstract: 본 발명은 고체 촉매를 사용하여 금속규소 및 사염화규소(STC)를 주원료로 사용하고 수소를 첨가하여 삼염화실란을 제조하는 방법 및 장치에 관한 것으로, 사염화규소의 재순환시키고 촉매를 사용함으로써 공정조건을 완화시키고 자원의 재활용과 제조의 효율을 향상시키는데 그 목적 및 효과가 있다.
본 발명은 단결정실리콘, 다결정 실리콘 및 실란가스 생산에 필요한 삼염화실란(TCS, SiHCl
3 )의 제조 시에 발생되는 부산물인 사염화규소(STC, silicone tetra chlorine)를 원료로 재활용함으로써 폐기물발생을 최소화하여 효율적으로 삼염화실란을 제조하되, 보다 구체적으로, 원료로 사용되는 금속규소 입자의 크기는 50-400mesh이고, 순도는 92% 이상이며, 사염화규소의 순도는 75% 이상이며, 수소의 순도는 70% 이상의 것을 사용하며, 사염화규소탱크에 수소를 주입하여 사염화규소와 함께 기화시켜서 반응기로 주입하고, 반응기의 온도는 150℃~800℃로 유지하며, 반응기를 거쳐서 나온 반응가스를 증류탑을 통과시켜 비등점의 차이를 이용하여 삼염화실란과 사염화규소로 분리하며, 분리된 삼염화실란은 저장탱크로 이송하고, 회수된 사염화규소는 사염화규소 탱크� �� 보내어 재활용하도록 구성되어 있다.
사염화규소, 삼염화실란, Pd촉매, Pb촉매, 수소, 메탈규소

公开(公告)号：KR1020100090842A

公开(公告)日：2010-08-18

申请号：KR1020090010035

申请日：2009-02-09

Applicant: 코아텍주식회사

Inventor： 문영환 ,  이동규 ,  오세원 ,  차종현 ,  안재용 ,  박채모 ,  최영재 ,  김휘대

IPC: C01B33/107 ,  B01J8/06 ,  B01J23/72 ,  C01B33/06

CPC classification number: C01B33/10742 ,  B01J8/0055 ,  B01J8/0242 ,  B01J23/44

Abstract: PURPOSE: The high conversion yield can be obtained since consecutively manufacturing trichlorosilane. By the metallic catalyst being in reactor mount and using the conversion ratio of trichlorosilane is enhanced and the manufacture possible under the low reaction temperature and the low reaction pressure. CONSTITUTION: The trichlorosilane manufacturing device using the metallic catalyst. With the hydrogen supply source(7) for supplying the hydrogen to the silicon tetrachloride tank(8). With the silicon tetrachloride tank for the hydrogen being provided from the hydrogen supply source through the piping and making the bubbling [bubbling] and injecting to the barrel-type reactor(9). It reacts to the bubbled fluid which is inserted from the silicon tetrachloride tank through the piping and trichlorosilane is created.

Abstract translation: 目的：连续制造三氯硅烷可获得高转化率。 通过在反应器安装中使用的金属催化剂和三氯硅烷的转化率得到提高，并且在低反应温度和低反应压力下可制备。 构成：使用金属催化剂的三氯硅烷制造装置。 用于向四氯化硅罐（8）供应氢气的氢气源（7）。 通过管道从氢气供应源提供用于氢气的四氯化硅水箱，并使气泡[鼓泡]并注入桶型反应器（9）。 它与通过管道从四氯化硅槽插入的鼓泡流体反应，产生三氯硅烷。

公开(公告)号：KR1020100091573A

公开(公告)日：2010-08-19

申请号：KR1020090010833

申请日：2009-02-11

Applicant: 코아텍주식회사

Inventor： 문영환 ,  이동규 ,  오세원 ,  차종현 ,  안재용 ,  박채모 ,  최영재 ,  김휘대

IPC: C01B33/107

CPC classification number: C01B33/10715 ,  B01D3/14 ,  B01J8/02 ,  B01J8/08

Abstract: PURPOSE: The heat generating with the inside heat generation reaction is provided and it reacts. The line or heater can be eliminated. The installation fee, and the production cost and maintenance cost are reduced. CONSTITUTION: A trichlorosilane manufacturing device with the hydrogen supply source(11). With the silicon tetrachloride tank(14) for the hydrogen being provided from the hydrogen supply source and the hydrogen and silicon tetrachloride being bubbled and injecting to reactor. With the chlorine supply source(12) for the hydrochloric acid gas being mixed to the piping one side in which the fluid bubbled in the silicon tetrachloride tank passes through and supplying.

Abstract translation: 目的：提供内部发热反应产生的热量，并进行反应。 线路或加热器可以消除。 安装费，生产成本和维护费用减少。 构成：具有氢源的三氯硅烷制造装置（11）。 用氢气提供氢气的四氯化硅槽（14），氢气和四氯化硅被鼓泡并注入反应器。 用于将盐酸气体的氯供给源（12）与在四氯化硅槽中鼓泡的流体通过并供给的配管一侧混合。