금속산화물 조성물, 경화막 및 적층체
    1.
    发明授权
    금속산화물 조성물, 경화막 및 적층체 有权
    金属氧化物组合物,固化膜和层压板

    公开(公告)号:KR101051228B1

    公开(公告)日:2011-07-21

    申请号:KR1020087028838

    申请日:2007-05-23

    CPC classification number: C09D4/00 C08K3/22 C08L33/04 C09D7/61 C09D7/65 C09D7/67

    Abstract: 하기 일반식 (1)로 표시되는 분산제(A), 및 평균 일차 입자지름이 5~100nm인 금속산화물을 함유하는 것을 특징으로 하는 금속산화물 조성물;
    일반식 (1):
    [화학식 1]

    (식 중, R
    1 ~R
    4 는 각각 독립적으로 수소원자 또는 메틸기를 나타내고, R
    5 ~R
    8 은 각각 독립적으로 비치환 혹은 치환의, 직쇄 혹은 분기쇄의 알킬렌기 또는 알킬렌옥시알킬렌기를 나타내고, R
    9 는 4가의 방향족기 또는 지방족기를 나타낸다.) 및 이 금속산화물 조성물을 경화하여 이루어지는 경화막과 그 적층체를 개시한다.
    분산제, 금속산화물, 조성물, 경화막, 적층체, 반도체 소자 밀봉재, 분산체

    Abstract translation: 到由通式(1)(A),和5至包含金属氧化物的100nm的金属氧化物组合物中的平均一次粒径表示的分散剂;

    금속산화물 조성물, 경화막 및 적층체
    3.
    发明公开
    금속산화물 조성물, 경화막 및 적층체 有权
    金属氧化物组合物,固化膜和层压板

    公开(公告)号:KR1020090023359A

    公开(公告)日:2009-03-04

    申请号:KR1020087028838

    申请日:2007-05-23

    CPC classification number: C09D4/00 C08K3/22 C08L33/04 C09D7/61 C09D7/65 C09D7/67

    Abstract: Disclosed is a metal oxide composition containing a dispersing agent (A) represented by the general formula (1) below and a metal oxide having an average primary particle diameter of 5-100 nm. [chemical formula 1] (1) (In the formula, R1-R4 independently represent a hydrogen atom or a methyl group; R5-R8 independently represent an unsubstituted or substituted straight or branched chain alkyl group or alkylene oxyalkylene group; and R9 represents a tetravalent aromatic group or aliphatic group.) Also disclosed are a cured film obtained by curing this metal oxide composition, and a laminate thereof.

    Abstract translation: 公开了含有下述通式(1)表示的分散剂(A)和平均一次粒径为5〜100nm的金属氧化物的金属氧化物组合物。 [化学式1](1)(式中,R 1 -R 4各自独立地表示氢原子或甲基,R 5〜R 8分别独立地表示未取代或取代的直链或支链烷基或亚烷基氧化烯基,R9表示 四价芳族基团或脂肪族基团。)还公开了通过使该金属氧化物组合物固化而获得的固化膜及其层压体。

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