公开(公告)号：KR1020090023359A

公开(公告)日：2009-03-04

申请号：KR1020087028838

申请日：2007-05-23

Applicant: 토요잉크SC홀딩스주식회사

Inventor： 카네다준 ,  타카하시하야토 ,  시게모리카즈노리 ,  하마다나오히로

IPC: C08K3/22 ,  C08K5/09 ,  C08J5/22 ,  C09D7/00

CPC classification number: C09D4/00 ,  C08K3/22 ,  C08L33/04 ,  C09D7/61 ,  C09D7/65 ,  C09D7/67

Abstract: Disclosed is a metal oxide composition containing a dispersing agent (A) represented by the general formula (1) below and a metal oxide having an average primary particle diameter of 5-100 nm. [chemical formula 1] (1) (In the formula, R1-R4 independently represent a hydrogen atom or a methyl group; R5-R8 independently represent an unsubstituted or substituted straight or branched chain alkyl group or alkylene oxyalkylene group; and R9 represents a tetravalent aromatic group or aliphatic group.) Also disclosed are a cured film obtained by curing this metal oxide composition, and a laminate thereof.

Abstract translation: 公开了含有下述通式（1）表示的分散剂（A）和平均一次粒径为5〜100nm的金属氧化物的金属氧化物组合物。 [化学式1]（1）（式中，R 1 -R 4各自独立地表示氢原子或甲基，R 5〜R 8分别独立地表示未取代或取代的直链或支链烷基或亚烷基氧化烯基，R9表示 四价芳族基团或脂肪族基团。）还公开了通过使该金属氧化物组合物固化而获得的固化膜及其层压体。

公开(公告)号：KR1020130004110A

公开(公告)日：2013-01-09

申请号：KR1020120068578

申请日：2012-06-26

Applicant: 토요잉크SC홀딩스주식회사 ,  토요켐주식회사

Inventor： 오기와라나오토 ,  구와바라아키후미 ,  마츠도카즈노리 ,  하타노노조무 ,  사카구치고 ,  하마다나오히로 ,  하야카와준페이 ,  미야모토아야코

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  G03F7/032

CPC classification number: Y02T10/6217 ,  Y02T10/7005 ,  Y02T10/7077 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  G03F7/032 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2002

Abstract: PURPOSE: A photosensitive resin composition, a manufacturing method of cured products, photo solder resist ink, a dry film style photo solder resist, and a photosensitive resin are provided to enhance photosensitivity for an active energy ray. CONSTITUTION: A photosensitive resin composition comprises a photosensitive resin, an epoxy group-containing compound, a deblocking isocyanate group-containing compound, one or more a compound selected from a group consisting of beta-hydroxyalkyl amide group-containing compound and a blocking isocyanate group-containing compound, and a photopolymerization initiator. The photosensitive resin is a hydroxyl group containing photosensitive resin.

Abstract translation: 目的：提供感光性树脂组合物，固化物的制造方法，光阻焊油墨，干膜型光阻焊剂和感光性树脂，以提高活性能量射线的光敏性。 构成：感光性树脂组合物含有感光性树脂，含环氧基的化合物，含脱模异氰酸酯基的化合物，一种或多种选自含有β-羟基烷基酰胺基的化合物和封端异氰酸酯基的化合物 的光聚合引发剂。 感光性树脂是含有羟基的感光性树脂。

公开(公告)号：KR101051228B1

公开(公告)日：2011-07-21

申请号：KR1020087028838

申请日：2007-05-23

Applicant: 토요잉크SC홀딩스주식회사

Inventor： 카네다준 ,  타카하시하야토 ,  시게모리카즈노리 ,  하마다나오히로

IPC: C08K3/22 ,  C08K5/09 ,  C08J5/22 ,  C09D7/00

CPC classification number: C09D4/00 ,  C08K3/22 ,  C08L33/04 ,  C09D7/61 ,  C09D7/65 ,  C09D7/67

Abstract: 하기 일반식 (1)로 표시되는 분산제(A), 및 평균 일차 입자지름이 5~100nm인 금속산화물을 함유하는 것을 특징으로 하는 금속산화물 조성물;
일반식 (1):
[화학식 1]

(식 중, R
1 ~R
4 는 각각 독립적으로 수소원자 또는 메틸기를 나타내고, R
5 ~R
8 은 각각 독립적으로 비치환 혹은 치환의, 직쇄 혹은 분기쇄의 알킬렌기 또는 알킬렌옥시알킬렌기를 나타내고, R
9 는 4가의 방향족기 또는 지방족기를 나타낸다.) 및 이 금속산화물 조성물을 경화하여 이루어지는 경화막과 그 적층체를 개시한다.
분산제, 금속산화물, 조성물, 경화막, 적층체, 반도체 소자 밀봉재, 분산체

Abstract translation: 到由通式（1）（A），和5至包含金属氧化物的100nm的金属氧化物组合物中的平均一次粒径表示的分散剂;

公开(公告)号：KR101866332B1

公开(公告)日：2018-07-04

申请号：KR1020120068578

申请日：2012-06-26

Applicant: 토요잉크SC홀딩스주식회사 ,  토요켐주식회사

Inventor： 오기와라나오토 ,  구와바라아키후미 ,  마츠도카즈노리 ,  하타노노조무 ,  사카구치고 ,  하마다나오히로 ,  하야카와준페이 ,  미야모토아야코

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  G03F7/032

CPC classification number: Y02T10/6217 ,  Y02T10/7005 ,  Y02T10/7077

Abstract: (과제) 경화도막이플렉시블성, 절연성, 밀착성등이우수하고, 포토솔더레지스트에적합하게사용되는감광성수지조성물을제공한다. (해결수단) 감광성수지(A), 에폭시기함유화합물, 비블록화이소시아네이트화합물, 블록화이소시아네이트화합물및 β-하이드록시알킬아미드기함유화합물로부터선택되는적어도 1종인화합물및 광중합개시제를포함하는조성물이며, 감광성수지(A)가, 1분자중에적어도 2개의에폭시기를갖는에폭시화합물(a)과, 1분자중에적어도 2개의페놀성수산기를갖는페놀화합물(b)로부터측쇄하이드록실기함유수지(c)를얻고, 상기 (c)와다염기산무수물(d)로부터카복실기함유수지(e)를얻고, 상기 (e)와, 에폭시기또는옥세탄기와, 에틸렌성불포화기를갖는화합물(f) 중의에폭시기또는옥세탄기로부터얻은수지이다.