公开(公告)号：KR101678028B1

公开(公告)日：2016-11-21

申请号：KR1020127001037

申请日：2010-01-27

Applicant: 토요잉크SC홀딩스주식회사

Inventor： 와다,소타이 ,  칸노,마사키 ,  이와타,토루

IPC: C07D209/82 ,  C07D209/86 ,  C08F2/50 ,  G03F7/031

CPC classification number: C07D209/82 ,  C07D209/86 ,  C08F2/50 ,  G03F7/031

Abstract: 본발명의목적은, 고감도의라디칼중합개시제로서기능할수 있는신규옥심에스테르화합물및 이를이용한경화성조성물을제공하는것에있다. 본발명의또 다른목적은, 특히, 포토레지스트재료에적합하게이용되는네가티브형레지스트재료및 이네가티브형레지스트를이용한화상패턴형성방법을제공하기위한것이다. 하기일반식(1)로표시되는라디칼중합개시제(A)로서, 일반식(1)식중, R, R는, 알킬기, 아릴기, 복소환기등; R~R는, 수소원자, 알킬기등; R~R는, 수소원자, 알킬기, 아릴기, 복소환기등; R~R는, 수소원자, 시아노기, 니트로기, 할로알킬기, 설피닐기, 설포닐기, 또는아실기등에서선택되고, R~R모두가동시에수소원자가되는경우는없다.

公开(公告)号：KR101550427B1

公开(公告)日：2015-09-04

申请号：KR1020137027447

申请日：2012-03-16

Applicant: 토요잉크SC홀딩스주식회사 ,  도요컬러주식회사

Inventor： 이이다,유스케 ,  히라사,미유키 ,  사카모토,쇼헤이 ,  이토,리히토 ,  키타무라,켄이치 ,  미나시마,히데노리 ,  시미즈,히로아키 ,  키무라,슈이치 ,  이와타,토루 ,  요시자와,토시하루 ,  타나카,미유키 ,  미카미,죠지 ,  스즈키,유타 ,  나카무라,타카시 ,  미야자와,요시마사 ,  스다,야스마사 ,  니시다,카즈후미

IPC: G03F7/004 ,  C09B25/00 ,  C08L101/00 ,  G02B5/20 ,  C09B67/22

CPC classification number: C09B25/00 ,  C09B47/04 ,  G02B5/223

Abstract: 일반식(1)에의하여나타나는착색제, 바인더수지및 용제를함유하는칼라필터용착색조성물을제공한다:(R~R은각각독립적으로, 수소원자, 할로겐원자, 알킬기, 알콕실기, 아릴기, 염기산및 그금속염, 알킬암모늄염, 프탈이미도메틸기, 또는술파모일기이고, R~R, R~R의인접한기는일체가되어치환기를가져도좋은방향환을형성한다.)

公开(公告)号：KR1020120028384A

公开(公告)日：2012-03-22

申请号：KR1020127001037

申请日：2010-01-27

Applicant: 토요잉크SC홀딩스주식회사

Inventor： 와다,소타이 ,  칸노,마사키 ,  이와타,토루

IPC: C07D209/82 ,  C07D209/86 ,  C08F2/50 ,  G03F7/031

CPC classification number: C07D209/82 ,  C07D209/86 ,  C08F2/50 ,  G03F7/031

Abstract: 본 발명의 목적은, 고감도의 라디칼 중합개시제로서 기능할 수 있는 신규 옥심에스테르 화합물 및 이를 이용한 경화성 조성물을 제공하는 것에 있다. 본 발명의 또 다른 목적은, 특히, 포토레지스트 재료에 적합하게 이용되는 네가티브형 레지스트 재료 및 이 네가티브형 레지스트를 이용한 화상 패턴 형성방법을 제공하기 위한 것이다. 하기 일반식(1)로 표시되는 라디칼 중합개시제(A)로서,
일반식(1)

식 중, R
1 , R
2 는, 알킬기, 아릴기, 복소환기 등; R
3 ~R
5 는, 수소원자, 알킬기 등; R
6 ~R
9 는, 수소원자, 알킬기, 아릴기, 복소환기 등; R
10 ~R
14 는, 수소원자, 시아노기, 니트로기, 할로알킬기, 설피닐기, 설포닐기, 또는 아실기 등에서 선택되고, R
10 ~R
14 모두가 동시에 수소원자가 되는 경우는 없다.

Abstract translation: 公开了能够作为高灵敏度自由基聚合引发剂起作用的新型肟酯化合物和使用其的可固化组合物。 还公开了可以特别适合用作光致抗蚀剂材料的负型抗蚀剂材料，以及使用所述负性抗蚀剂的图像形成方法。 自由基聚合引发剂（A）由通式（1）表示。 在通式（1）中，R 1和R 2选自烷基，芳基，杂环基等; R3至R5选自氢原子，烷基等; R6至R9选自氢原子，烷基，芳基，杂环基等; R 10〜R 14选自氢原子，氰基，硝基，卤代烷基，亚磺酰基，磺酰基，酰基等，条件是R 10〜R 14全部不为氢原子 同一时间。

公开(公告)号：KR1020130137028A

公开(公告)日：2013-12-13

申请号：KR1020137027447

申请日：2012-03-16

Applicant: 토요잉크SC홀딩스주식회사 ,  도요컬러주식회사

Inventor： 이이다,유스케 ,  히라사,미유키 ,  사카모토,쇼헤이 ,  이토,리히토 ,  키타무라,켄이치 ,  미나시마,히데노리 ,  시미즈,히로아키 ,  키무라,슈이치 ,  이와타,토루 ,  요시자와,토시하루 ,  타나카,미유키 ,  미카미,죠지 ,  스즈키,유타 ,  나카무라,타카시 ,  미야자와,요시마사 ,  스다,야스마사 ,  니시다,카즈후미

IPC: G03F7/004 ,  C09B25/00 ,  C08L101/00 ,  G02B5/20 ,  C09B67/22

CPC classification number: C09B25/00 ,  C09B47/04 ,  G02B5/223 ,  G03F7/004 ,  G03F7/0042 ,  G03F7/028

Abstract: Provided is a colored composition for color filters which comprises a colorant represented by general formula (1), a binder resin, and a solvent. In the formula, R1 to R13 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, alkyl, alkoxy, aryl, an acid group or a salt thereof with either a metal or an alkylammonium, phthalimidomethyl, or sulfamoyl, and a pair of adjacent groups of R1 to R4, or R10 to R13 is united to form an aromatic ring which may be substituted.