Abstract:
본 발명의 목적은, 고감도의 라디칼 중합개시제로서 기능할 수 있는 신규 옥심에스테르 화합물 및 이를 이용한 경화성 조성물을 제공하는 것에 있다. 본 발명의 또 다른 목적은, 특히, 포토레지스트 재료에 적합하게 이용되는 네가티브형 레지스트 재료 및 이 네가티브형 레지스트를 이용한 화상 패턴 형성방법을 제공하기 위한 것이다. 하기 일반식(1)로 표시되는 라디칼 중합개시제(A)로서, 일반식(1)
식 중, R 1 , R 2 는, 알킬기, 아릴기, 복소환기 등; R 3 ~R 5 는, 수소원자, 알킬기 등; R 6 ~R 9 는, 수소원자, 알킬기, 아릴기, 복소환기 등; R 10 ~R 14 는, 수소원자, 시아노기, 니트로기, 할로알킬기, 설피닐기, 설포닐기, 또는 아실기 등에서 선택되고, R 10 ~R 14 모두가 동시에 수소원자가 되는 경우는 없다.
Abstract:
식(1)에 나타내는 화합물에 있어서, X는 C, H, N, O, S 또는 할로겐으로 이루어진 n가의 기, n은 2~6의 정수, R 1 및 R 2 는 H, 식(2) 또는 식(3)에 나타내는 기, 또는 지방족, 지환식 또는 방향족 탄화수소기를 나타내고, 1 이상의 N에 결합하는 1 이상의 R 1 및 R 2 중, 적어도 1개는 식(2)에서 나타내는 기이고, 적어도 1개는 식(3)에서 나타내는 기이며, R 3 ~R 6 은 H 또는 지방족 탄화수소기를 나타내고, R 7 은 OH와 반응할 수 있는 관능기를 갖는 화합물의 잔기이다.
Abstract:
식(1)에 나타내는 화합물에 있어서, X는 C, H, N, O, S 또는 할로겐으로 이루어진 n가의 기, n은 1~6의 정수, R 1 및 R 2 는 H, 식(2) 또는 식(3)에 나타내는 기, 또는 지방족, 지환식 또는 방향족 탄화수소기를 나타내고, 1 이상의 N에 결합하는 1 이상의 R 1 및 R 2 중, 적어도 1개는 식(2)에서 나타내는 기이고, 적어도 1개는 식(3)에서 나타내는 기이며, R 3 ~R 6 은 H 또는 지방족 탄화수소기를 나타내고, R 7 은 OH와 반응할 수 있는 관능기를 갖는 화합물의 잔기이다.
Abstract:
[과제] 안료 함유량이 많은, 또는 막 두께가 두꺼워도, 고감도로 잔막율이 높고, 한편 직선성, 패턴 형상, 해상도, 현상 내성, 약품 내성이 뛰어난 감광성 착색 조성물, 및 그것을 이용한 컬러 필터의 제공하는 것. [해결 수단] 본 발명의 감광성 착색 조성물은, 특정의 화합물을 광중합 개시제로서 이용하는 것으로, 안료 함유량이 많은, 또는 각 색 필터 세그먼트 및 블랙 매트릭스의 형성 막 두께가 두꺼워도, 고감도로, 한편 뛰어난 각 색 필터 세그먼트 및 블랙 매트릭스 패턴을 형성할 수 있다. 따라서, 본 발명의 감광성 착색 조성물을 이용하는 것으로, 고품질인 컬러 필터를 얻을 수 있다.
Abstract:
[과제] 안료 함유량이 많은, 또는 막 두께가 두꺼워도, 고감도로 잔막율이 높고, 한편 직선성, 패턴 형상, 해상도, 현상 내성, 약품 내성이 뛰어난 감광성 착색 조성물, 및 그것을 이용한 컬러 필터의 제공하는 것. [해결 수단] 본 발명의 감광성 착색 조성물은, 특정의 화합물을 광중합 개시제로서 이용하는 것으로, 안료 함유량이 많은, 또는 각 색 필터 세그먼트 및 블랙 매트릭스의 형성 막 두께가 두꺼워도, 고감도로, 한편 뛰어난 각 색 필터 세그먼트 및 블랙 매트릭스 패턴을 형성할 수 있다. 따라서, 본 발명의 감광성 착색 조성물을 이용하는 것으로, 고품질인 컬러 필터를 얻을 수 있다.