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公开(公告)号：KR100524449B1
公开(公告)日：2005-10-26
申请号：KR1020037008719
申请日：2002-09-12
Applicant: 파나소닉 주식회사
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0046 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/108 , Y10S430/111
Abstract: 화학식 1로 나타내는 유니트와 화학식 2로 나타내는 유니트를 포함하는 베이스수지와, 산발생제를 갖는 패턴형성재료.
(화학식 1)
(화학식 2)
(단, R
1 및 R
3 은 동종 또는 이종으로서, 수소원자, 염소원자, 불소원자, 알킬기 또는 불소원자를 포함하는 알킬기이며,
R
2 는 수소원자, 알킬기, 고리형상 지방족기, 방향족기, 헤테로 고리, 에스테르기 또는 에테르기로서, 산에 의해 탈리되지 않는 원자 또는 기이고,
R
4 는 산에 의해 탈리되는 보호기이며,
m은 0∼5의 정수이고,
a 및 b는 O-
公开(公告)号：KR1020030082560A
公开(公告)日：2003-10-22
申请号：KR1020037008720
申请日：2002-09-12
Applicant: 파나소닉 주식회사
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0395 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , Y10S430/106 , Y10S430/108 , Y10S430/111 , Y10S430/115 , Y10S430/146 , Y10S430/167 , Y10S430/168
Abstract: 본 발명의 패턴형성재료는 화학식 1로 나타내는 유니트를 포함하는 베이스수지와 산발생제를 갖고 있다.
(화학식 1)
(단, R
1 은 수소원자, 염소원자, 불소원자, 알킬기 또는 불소원자를 포함하는 알킬기이고,
R
2 는 산에 의해 탈리하는 보호기이다.)-
公开(公告)号：KR1020030082559A
公开(公告)日：2003-10-22
申请号：KR1020037008719
申请日：2002-09-12
Applicant: 파나소닉 주식회사
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0046 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/108 , Y10S430/111
Abstract: 화학식 1로 나타내는 유니트와 화학식 2로 나타내는 유니트를 포함하는 베이스수지와, 산발생제를 갖는 패턴형성재료.
(화학식 1)
(화학식 2)
(단, R
1 및 R
3 은 동종 또는 이종으로서, 수소원자, 염소원자, 불소원자, 알킬기 또는 불소원자를 포함하는 알킬기이며,
R
2 는 수소원자, 알킬기, 고리형상 지방족기, 방향족기, 헤테로 고리, 에스테르기 또는 에테르기로서, 산에 의해 탈리되지 않는 원자 또는 기이고,
R
4 는 산에 의해 탈리되는 보호기이며,
m은 0∼5의 정수이고,
a 및 b는 O-
公开(公告)号：KR100524448B1
公开(公告)日：2005-10-26
申请号：KR1020037008720
申请日：2002-09-12
Applicant: 파나소닉 주식회사
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0395 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , Y10S430/106 , Y10S430/108 , Y10S430/111 , Y10S430/115 , Y10S430/146 , Y10S430/167 , Y10S430/168
Abstract: 본 발명의 패턴형성재료는 화학식 1로 나타내는 유니트를 포함하는 베이스수지와 산발생제를 갖고 있다.
(화학식 1)
(단, R
1 은 수소원자, 염소원자, 불소원자, 알킬기 또는 불소원자를 포함하는 알킬기이고,
R
2 는 산에 의해 탈리하는 보호기이다.)
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