公开(公告)号：KR1020140052242A

公开(公告)日：2014-05-07

申请号：KR1020120118056

申请日：2012-10-23

Applicant: 포항공과대학교 산학협력단

Inventor： 김진곤 ,  한성현 ,  김성남 ,  배두식 ,  곽종헌

IPC: C08L53/00 ,  C08J3/00 ,  B82B3/00 ,  H01L21/027

CPC classification number: C08L53/005 ,  B82B3/0014 ,  B82B3/0019 ,  C08J3/005 ,  H01L21/0273

Abstract: The present invention relates to an asymmetric line nanopattern and a manufacturing method thereof. In particular, the asymmetric line nanopattern can be applied to next generation lithography by using an asymmetric lamellar microdomain formed by a block copolymer blend. To form the nanopattern, the present invention provides the method which forms an asymmetric lamellar pattern using a mixture of two or more copolymers. At least one block of a block copolymer forms a secondary bonding with at least another block of another block copolymer.

Abstract translation: 本发明涉及非对称线状纳米图案及其制造方法。 特别地，通过使用由嵌段共聚物共混物形成的不对称层状微区，可以将不对称线状纳米图案应用于下一代平版印刷。 为了形成纳米图案，本发明提供了使用两种或更多种共聚物的混合物形成不对称层状图案的方法。 嵌段共聚物的至少一个嵌段与至少另一个嵌段共聚物的嵌段形成二次键合。

公开(公告)号：KR101477350B1

公开(公告)日：2014-12-30

申请号：KR1020120118056

申请日：2012-10-23

Applicant: 포항공과대학교 산학협력단

Inventor： 김진곤 ,  한성현 ,  김성남 ,  배두식 ,  곽종헌

IPC: C08L53/00 ,  C08J3/00 ,  B82B3/00 ,  H01L21/027

Abstract: 본발명은비대칭라인나노패턴및 그제조방법에관한것으로서, 보다상세하게는블록공중합체블렌드를이용하여비대칭라멜라 (lamellar) 마이크로도메인 (microdomain)을형성시키고, 이를이용하여차세대리소그라피로의응용이가능한비대칭라인나노패턴및 그제조방법에관한것이다. 이러한나노패턴을형성하기위해서, 본발명은하나의블록공중합체의적어도하나의블록이다른블록공중합체의적어도하나의블록과 2차결합을이루는 2 이상의블록공중합체혼합물을이용하여비대칭성라멜라패턴을형성하는방법을제시한다.