公开(公告)号：KR1020090087353A

公开(公告)日：2009-08-17

申请号：KR1020080012745

申请日：2008-02-12

Applicant: 포항공과대학교 산학협력단

Inventor： 김수진 ,  방성환 ,  김형준

IPC: B82B3/00 ,  B82B1/00 ,  B82Y40/00

CPC classification number: B82B3/0038 ,  B82Y40/00 ,  C08J5/005

Abstract: A manufacturing method of a nano structure using self-assembled block copolymer is provided to easily form a nano structure on a metal surface. A manufacturing method of a nano structure using self-assembled block copolymer comprises the following steps: a step for forming a metal thin film on a substrate(a); a step for treating a surface of the metal thin film using oxygen plasma(b); a step for neutralizing the surface of the metal thin film(c); a step for coating a block copolymer on the surface(d); and a step for forming a self-assembled nano structure by annealing and exposing the block copolymer(e).

Abstract translation: 提供使用自组装嵌段共聚物的纳米结构的制造方法，以容易地在金属表面上形成纳米结构。 使用自组装嵌段共聚物的纳米结构体的制造方法包括以下步骤：在基板（a）上形成金属薄膜的工序。 使用氧等离子体（b）处理金属薄膜的表面的步骤; 中和金属薄膜（c）的表面的步骤; 在表面（d）上涂布嵌段共聚物的步骤; 以及通过退火和暴露嵌段共聚物（e）形成自组装纳米结构的步骤。