저온에서 광전류 및 광전압을 측정하고 이미징하는 장치
    2.
    发明授权
    저온에서 광전류 및 광전압을 측정하고 이미징하는 장치 有权
    显微镜在低温下扫描光电流和光电压。

    公开(公告)号:KR101493837B1

    公开(公告)日:2015-02-17

    申请号:KR1020130144711

    申请日:2013-11-26

    Abstract: 본 발명은 저온에서 광전류 및 광전압을 측정하고 이미징하는 장치 및 방법에 관한 것으로 크라이오스탯을 사용하여 저온의 샘플에 레이저를 입사하여 발생하는 광전류와 샘플에서 반사된 레이저를 포토다이오드 등을 통해 이미지 전압신호를 샘플 표면에 입사하는 빛의 위치를 이동하여 스캐닝하면서 연속적으로 검출하고, 상기 광전류 및 이미지 전압신호를 데이터화하여 광전류 이미지 및 반사 이미지를 도출하는 것을 특징으로 하는 저온에서 광전류 및 광전압을 측정하고 이미징하는 장치 및 방법에 관한 것이다.

    Abstract translation: 本发明涉及在低温下的光电流和光电压的显微镜和扫描。 作为激光产生的光电流使用低温恒温器在低温下被射入样品,并且通过光电二极管等从来自样品的反射激光产生的图像电压信号被连续地检测为入射光在样品表面上的位置 被传送和扫描。 将光电流和图像电压信号转换为数据,从而产生光电流图像和反射图像。

    층간 배향 기반 광 흡수 및 발광 특성을 가진 반도체 스택
    3.
    发明公开
    층간 배향 기반 광 흡수 및 발광 특성을 가진 반도체 스택 审中-实审
    具有层间取向光吸收和发射特性的半导体叠层

    公开(公告)号:KR1020170000318A

    公开(公告)日:2017-01-02

    申请号:KR1020160002593

    申请日:2016-01-08

    CPC classification number: Y02E10/52 Y02P70/521

    Abstract: 본발명은층간배향기반광 흡수및 발광특성을가진반도체스택의분석방법을공개한다. 이방법은 (a) 화학기상증착법을이용하여결정방향이일치하는전이금속-칼코겐화합물의제1 스택이제조되는단계; (b) 물리적전사를이용하여회전각조절에의해결정방향이불일치하는전이금속-칼코겐화합물의제2 스택이제조되는단계; (c) 상기제1 및제2 스택각각의원자층간 광의흡수및 발광양상이측정되는단계; 및 (d) 상기측정된광의흡수및 발광양상을동역학분석하여천이밴드갭이판별되는단계;를포함하는것을특징으로한다. 본발명에의할경우, 2차원반도체적층구조의상대적인결정방향을선택적으로일치또는불일치시키는조절이가능하여새로운전자구조를인공적으로형성할수 있고, 종래에보고되지않은새로운인공저 차원반도체구조를실현할 수있게된다. 또한, 2차원원자층물질간의상호작용이원자층간 회전각도에따라새로이결정되어다양한광 물리현상연구가가능해지고, 이를통한물질특성제어를통하여 2차원물질발광체, 레이저, 광검출기등으로실제산업상에폭넓게응용이가능하게된다.

    광발광 측정 및 이미징 장치
    5.
    发明授权
    광발광 측정 및 이미징 장치 有权
    显微镜扫描光致发光。

    公开(公告)号:KR101493838B1

    公开(公告)日:2015-02-17

    申请号:KR1020130144719

    申请日:2013-11-26

    Abstract: 본 발명은 상온과 저온에서 시료에 레이저의 입사위치를 연속적으로 변화시켜가면서 광발광 및 반사광을 검출하여 광발광 이미지와 반사 이미지를 얻을 수 있는 것을 특징으로 하는 광발광을 측정하고 이미징하는 장치 및 방법에 관한 것이다.

    Abstract translation: 在本发明中,提供了一种用于测量和成像光致发光的装置和方法,其允许在室温至低温下将样品上的激光入射点连续地改变,从而检测光致发光和反射光,从而获得 光致发光和反射光。 在本发明中,该装置使用超连续谱激光器和单色仪,因此允许选择400和2000nm波长之间的一定波长,从而根据需要改变波长并导致光谱信息的获取。

    광전류 및 광전압을 측정하고 이미징하는 장치
    7.
    发明授权
    광전류 및 광전압을 측정하고 이미징하는 장치 有权
    显微镜扫描光电流和光电压

    公开(公告)号:KR101493836B1

    公开(公告)日:2015-02-17

    申请号:KR1020130144697

    申请日:2013-11-26

    Abstract: 본 발명은 광전류 및 광전압을 측정하고 이미징하는 장치에 관한 것으로 파장의 변화가 가능한 레이저가 샘플에 도달하면서 발생하게 되는 광전류와 샘플에서 반사된 레이저로부터 이미지 전압신호를 출력하게 되고, 상기 광전류와 이미지 전압신호는 로크인 앰프와 같은 검출부를 사용하여 노이즈를 제거하게 되는데, 이때 샘플이 배치된 스테이지는 100nm 간격으로 XY방향의 이동이 가능하여 스테이지를 이동하면서 샘플의 광전류 및 이미지 전압신호 출력을 연속적으로 측정하게 되고 이를 컴퓨터상에 데이터화하여 광전류 이미지 및 반사 이미지를 얻을 수 있게 되는 광전류 및 광전압을 측정하고 이미징하는 장치에 관한 것이다.

    Abstract translation: 本发明涉及一种测量和成像光电流和光电压的装置,其输出当能够改变其波长的激光器到达样品时产生的光电流; 从样品反射的激光器的图像电压信号和在光电流中去除的噪声; 以及使用诸如锁定放大器的检测单元的图像电压信号。 这里,由于放置的样品能够以100nm的间隔沿X-Y方向移动的阶段,装置可以连续地测量样品的图像电压信号的输出, 从而可以将测量的信息制成计算机中的数据,以获得光电流和反射图像。

Patent Agency Ranking