초소수성 표면 형성을 통한 물에 젖지 않는 전자소자의 제작 방법
    1.
    发明公开
    초소수성 표면 형성을 통한 물에 젖지 않는 전자소자의 제작 방법 有权
    通过形成超级表面的方法制造电子设备

    公开(公告)号:KR1020130047025A

    公开(公告)日:2013-05-08

    申请号:KR1020110111781

    申请日:2011-10-31

    Inventor: 용기중 이승협

    CPC classification number: H01L23/3171 B82Y10/00 H01L29/78603

    Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing an unwet electrode component by forming a superhydrophobic surface is provided to improve a waterproof property by processing a nanostructure surface with stearic acid. CONSTITUTION: A nanostructure is formed on the surface of an electric component. The nanostructure is processed with fatty acid or SAM(Self-Assembled Monolayer) materials. The nanostructure is made of zinc oxide and is selected among a nanowire, a nanotube, or a nanorod. The fatty acid is stearic acid.

    Abstract translation: 目的:提供通过形成超疏水表面来制造无电极电极部件的方法,以通过用硬脂酸处理纳米结构表面来改善防水性能。 构成:在电气部件的表面上形成纳米结构。 用脂肪酸或SAM(自组装单层)材料处理纳米结构。 纳米结构由氧化锌制成并选自纳米线,纳米管或纳米棒。 脂肪酸是硬脂酸。

    초소수성 표면 형성을 통한 물에 젖지 않는 전자소자의 제작 방법
    2.
    发明授权
    초소수성 표면 형성을 통한 물에 젖지 않는 전자소자의 제작 방법 有权
    通过形成超级表面的方法制造电子设备

    公开(公告)号:KR101309142B1

    公开(公告)日:2013-09-17

    申请号:KR1020110111781

    申请日:2011-10-31

    Inventor: 용기중 이승협

    Abstract: 본 발명은 초소수성 표면의 형성을 통해 물에 젖지 않는 전자소자를 제작함으로써 수분에 취약한 다양한 전자소자의 문제점을 해결하는 방법을 제공한다. 본 발명에 따르면 전자소자 표면에 산화아연 나노구조를 성장시키고 나노 구조표면에 스테아르산을 처리함으로써 전자소자에 초소수성 표면을 형성할 수 있다. 형성된 초소수성 표면으로 인해 전자소자가 물에 젖지 않는 특성을 갖게 되고, 이에 의해 물방울이 표면에 있어도 전자소자가 오작동하지 않는 방수 특성을 나타낼 수 있게 된다.

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