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公开(公告)号：KR1020060135442A
公开(公告)日：2006-12-29
申请号：KR1020050055408
申请日：2005-06-25
Applicant: 학교법인 포항공과대학교 , 포항공과대학교 산학협력단
Abstract: An anti-reflection film and a manufacturing method thereof are provided to improve manufacturing efficiency by manufacturing the anti-reflection film without performing multi-step processes or post-processing. A high molecular material is dissolved in a resolvent having a low boiling point, so that high-molecular solution is obtained. A non-resolvent material with a high boiling point is added to the high-molecular solution and mixed in the high molecular solution, so that mixed solution is obtained. The mixed solution is coated on a substrate. The high-molecular material is an atypical transparent high-molecular agent. The high-molecular material is selected from a group consisting of an acryl-group polymer, a cellulose-group polymer, a styrene-group polymer, a polysulfone-group polymer, a flour-group polymer, and mixtures thereof.
Abstract translation: 提供防反射膜及其制造方法，以通过制造防反射膜而不进行多步骤处理或后处理来提高制造效率。 将高分子材料溶解在具有低沸点的溶剂中，从而获得高分子量溶液。 向高分子溶液中添加高沸点的非溶剂化物质，在高分子溶液中混合，得到混合溶液。 将混合溶液涂布在基材上。 高分子材料是非典型的透明高分子材料。 高分子材料选自丙烯酸类聚合物，纤维素类聚合物，苯乙烯类聚合物，聚砜类聚合物，面粉基聚合物及其混合物。
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公开(公告)号：KR100721430B1
公开(公告)日：2007-05-23
申请号：KR1020050096239
申请日：2005-10-12
Applicant: 학교법인 포항공과대학교 , 포항공과대학교 산학협력단
CPC classification number: B01D67/0034 , B01D69/10 , B01D71/28 , B01D71/40 , B01D71/80 , B01D2323/16 , B01D2323/283 , B01D2325/02
Abstract: 본 발명은 지지체; 및 나노 사이즈를 갖는 복수의 기공과 매트릭스로 이루어진 분리층을 포함하는 나노다공성 멤브레인으로서, 상기 기공의 갯수가 10
10 개/cm
2 이상인 나노다공성 멤브레인(nanoporous membrane) 및 이의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명을 따르는 나노다공성 멤브레인는 매우 우수한 유출 속도(flux) 및 분리성(selectivity)을 갖는다.-
公开(公告)号：KR1020070040668A
公开(公告)日：2007-04-17
申请号：KR1020050096239
申请日：2005-10-12
Applicant: 학교법인 포항공과대학교 , 포항공과대학교 산학협력단
CPC classification number: B01D67/0034 , B01D69/10 , B01D71/28 , B01D71/40 , B01D71/80 , B01D2323/16 , B01D2323/283 , B01D2325/02
Abstract: 본 발명은 지지체; 및 나노 사이즈를 갖는 복수의 기공과 매트릭스로 이루어진 분리층을 포함하는 나노다공성 멤브레인으로서, 상기 기공의 밀도가 10
10 개/cm
2 이상인 나노다공성 멤브레인(nanoporous membrane) 및 이의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명을 따르는 나노다공성 멤브레인는 매우 우수한 유출 속도(flux) 및 분리성(selectivity)을 갖는다.-
公开(公告)号：KR100687727B1
公开(公告)日：2007-03-02
申请号：KR1020050055408
申请日：2005-06-25
Applicant: 학교법인 포항공과대학교 , 포항공과대학교 산학협력단
Abstract: 본 발명은 반사방지 필름의 제조방법 및 그로부터 제조된 반사방지 필름에 관한 것으로서, 더욱 구체적으로는 고분자 물질을 저비등점을 갖는 용매에 용해시켜 고분자 용액을 제조하는 단계; 상기 고분자 용액에 고비등점을 갖는 비용매를 첨가하고 혼합하여 혼합 용액을 제조하는 단계; 및 상기 혼합 용액을 기판 상에 코팅하는 단계를 포함하는 반사방지 필름의 제조방법 및 그로부터 제조된 반사방지 필름에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 다단계 작업이나 후처리 공정이 필요 없이, 단일 공정에 의하여 짧은 시간 내에 경제적으로 우수한 반사방지 효과를 갖는 반사방지필름을 제조할 수 있다.
반사방지 필름-
公开(公告)号：KR1020060135443A
公开(公告)日：2006-12-29
申请号：KR1020050055409
申请日：2005-06-25
Applicant: 학교법인 포항공과대학교 , 포항공과대학교 산학협력단
Abstract: A broadband anti-reflection film manufacturing method and an anti-reflection film manufactured by the same are provided to form plural pores inside the anti-reflection film by condensing water drops. A high-molecular material is dissolved in a resolvent having a low boiling point, so that high-molecular solution is obtained. The high-molecular solution is coated on a substrate in a high-humidity atmosphere. The high-molecular material is an atypical transparent high-molecular agent. The high-molecular material is selected from a group consisting of an acryl-group polymer, a cellulose-group polymer, a styrene-group polymer, a polysulfone-group polymer, a fluor-group polymer, and mixtures thereof. The boiling point of the low-boiling point resolvent lies between 40 and 100‹C.
Abstract translation: 提供宽带抗反射膜制造方法和由其制造的抗反射膜，以通过冷凝水滴形成多个孔。 将高分子材料溶解在具有低沸点的溶剂中，从而获得高分子溶液。 高分子溶液在高湿度气氛中涂布在基材上。 高分子材料是非典型的透明高分子材料。 高分子材料选自丙烯酰基聚合物，纤维素基聚合物，苯乙烯基聚合物，聚砜基聚合物，氟基聚合物及其混合物。 低沸点溶解度的沸点在40和100℃之间。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR100687728B1
公开(公告)日：2007-02-27
申请号：KR1020050055409
申请日：2005-06-25
Applicant: 학교법인 포항공과대학교 , 포항공과대학교 산학협력단
Abstract: 본 발명은 광대역 반사방지 필름의 제조방법 및 그로부터 제조된 광대역 반사방지 필름에 관한 것으로서, 더욱 구체적으로는 고분자 물질을 저비등점을 갖는 용매에 용해시켜 고분자 용액을 제조하는 단계; 및 상기 고분자 용액을 고습도 환경 하에서 기판 상에 코팅하는 단계를 포함하는 광대역 반사방지 필름의 제조방법 및 그로부터 제조된 반사방지 필름에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 고가의 장비를 사용하거나 또는 다단계 작업을 수행할 필요 없이, 단일 공정에 의하여 짧은 시간 내에 광대역 반사방지필름을 제조할 수 있다.
광대역 반사방지 필름-
公开(公告)号：KR100558578B1
公开(公告)日：2006-03-13
申请号：KR1020030065948
申请日：2003-09-23
Applicant: 학교법인 포항공과대학교
IPC: C08J5/18
Abstract: 본 발명은 스핀 코팅에 의한 기공성 고분자 필름 제조방법에 관한 것으로, 본 발명에 따라 유기 용제에 녹인 고분자 용액에 소량의 물을 직접 첨가하고 스핀 코팅하는 방식을 이용할 경우, 습도를 높이거나 습기 함유 공기 주입 필요 없이, 건조한 대기 하에서도 두께와 기공의 크기가 균일한 기공성 고분자 필름을 제조할 수 있다.
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公开(公告)号：KR1020050029603A
公开(公告)日：2005-03-28
申请号：KR1020030065948
申请日：2003-09-23
Applicant: 학교법인 포항공과대학교
IPC: C08J5/18
Abstract: Provided are a method for preparing a porous polymer film with uniform thickness and pore size even under dry atmosphere without the increase of humidity or the injection of moisture-containing air, and its porous polymer film. The method comprises the steps of dissolving a polymer material in an organic solvent; adding water to the solution to prepare a water-containing polymer solution; and spin coating the water-containing polymer solution on a substrate. Preferably the polymer material is at least one selected from the group consisting of cellulose-based, styrene-based, acryl-based, epoxy-based, amide-based, ester-based and imide-based polymers; and the organic solvent is at least one selected from the group consisting of ether-based, ketone-based, alcohol-based, aldehyde-based, amine-based, aliphatic compound-based and aromatic compound-based solvents. Preferably the content of the polymer in the organic solvent is 3-30 wt% and the content of water in the water-containing polymer solution is 1-15 wt%. Preferably the spin coating is carried out with 100-30,000 rpm.
Abstract translation: 提供即使在干燥气氛下也不会增加湿度或注入含水空气的多孔聚合物膜及其多孔聚合物膜，制备具有均匀厚度和孔径的多孔聚合物膜的方法。 该方法包括将聚合物材料溶解在有机溶剂中的步骤; 向溶液中加入水以制备含水聚合物溶液; 并将含水聚合物溶液旋涂在基材上。 优选地，聚合物材料是选自纤维素基，苯乙烯基，丙烯酸基，环氧基，酰胺基，酯基和酰亚胺基聚合物中的至少一种; 有机溶剂为选自醚系，酮系，醇系，醛系，胺系，脂肪族化合物系，芳香族化合物系溶剂中的至少1种。 聚合物在有机溶剂中的含量优选为3-30重量％，含水聚合物溶液中的水含量为1-15重量％。 优选旋涂以100-30,000rpm进行。
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公开(公告)号：KR100834729B1
公开(公告)日：2008-06-09
申请号：KR1020060119605
申请日：2006-11-30
Applicant: 포항공과대학교 산학협력단
IPC: C08J5/22 , C08J9/22 , C08F212/08 , B82B3/00
CPC classification number: G02B1/04 , B05D3/0453 , B05D5/02 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C03C17/32 , C03C2218/328 , C08J7/04 , C08J7/12 , C08J7/123 , C08J2429/04 , C08J2433/12 , C09D5/006 , G02B1/111 , G03F7/0002 , C08L39/08 , C08L33/10 , C08L53/02 , C08L53/00 , C08L25/14 , C08L25/08
Abstract: Disclosed herein is a method of producing an antireflection thin film using a block copolymer and an antireflection thin film prepared by the method. Specifically, the present invention relates to a method of producing a nanoporous antireflection film by spin-coating using a block copolymer solution and subsequent processing and a preparation by the method. The antireflection film of the present invention is prepared by coating a substrate with a block copolymer and selectively removing at least one block in the coated block copolymer to produce a nanoporous thin film with a pore size of 5 to 100 nm. When the thin film is applied to a substrate, an antireflection substrate which has a very low reflectance within a broad range of wavelength can be prepared.
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公开(公告)号：KR1020080049244A
公开(公告)日：2008-06-04
申请号：KR1020060119605
申请日：2006-11-30
Applicant: 포항공과대학교 산학협력단
IPC: C08J5/22 , C08J9/22 , C08F212/08 , B82B3/00
CPC classification number: G02B1/04 , B05D3/0453 , B05D5/02 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C03C17/32 , C03C2218/328 , C08J7/04 , C08J7/12 , C08J7/123 , C08J2429/04 , C08J2433/12 , C09D5/006 , G02B1/111 , G03F7/0002 , C08L39/08 , C08L33/10 , C08L53/02 , C08L53/00 , C08L25/14 , C08L25/08
Abstract: A method for preparing a porous thin film, and an antireflective thin film prepared by the method are provided to reduce the reflectivity in a wide wavelength range. A method for preparing a porous thin film comprises the steps of coating a block copolymer, and selectively removing at least one block to prepare an irregular network structured porous thin film having a size of 5-100 nm. Also the method for preparing a porous thin film comprises the steps of coating a block copolymer on a substrate, and selectively removing at least one block of the coated block copolymer. Preferably the block copolymer is selected from a linear block copolymer and a graft block copolymer; and the block copolymer is coated by spin coating, bar coating or roll coating.
Abstract translation: 提供一种制备多孔薄膜的方法和通过该方法制备的抗反射薄膜，以减小宽波长范围内的反射率。 制备多孔薄膜的方法包括以下步骤：涂覆嵌段共聚物，并选择性地除去至少一个嵌段以制备尺寸为5-100nm的不规则网状结构的多孔薄膜。 制备多孔薄膜的方法还包括以下步骤：在基材上涂布嵌段共聚物，并选择性地除去至少一块涂布的嵌段共聚物。 嵌段共聚物优选选自直链嵌段共聚物和接枝嵌段共聚物; 并且通过旋涂，棒涂或辊涂来涂覆嵌段共聚物。
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