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公开(公告)号：KR1019970030058A
公开(公告)日：1997-06-26
申请号：KR1019950039797
申请日：1995-11-04
Applicant: 한국과학기술연구원
Abstract: 본 발명은 물리증착(physical vapour deposition : PVD)법에 의해 제조된 전계방출소자용 발광체 및 그 제조방법에 관한 것으로, 유리기판 상에 물리적증착법으로 ZnO:Zn 발광박막을 형성한 뒤 상기 ZnO:Zn 박막 표면에 도전성박막을 코팅하여 발광체 제조를 완료하므로써, 1) 발광막의 두께와 발광체의 열처리 온도 및 분위기 변화를 통하여 에미터의 동작 특성에 맞는 발광문턱과 여러계조의 휘도 및 발광색을 일정 범위내에서 변화시킬 수 있으며, 2) 공정이 용이하고 공정 단가가 낮은 물리증착법(예컨대, 스퍼터법이나 증착법)을 통하여 초박막 상태로도 결정성이 뛰어난 발광막을 얻을 수 있게 되어 고해상도를 요하는 대면적 전계방출소자에 적용할 수 있다는 잇점을 갖는다.
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公开(公告)号：KR100215543B1
公开(公告)日：1999-08-16
申请号：KR1019960012395
申请日：1996-04-23
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: H01L33/00
Abstract: 본 발명에 의한 마이크로-미러를 갖는 전계발광표시소자(electro-luminescentdisplay device) 및 그 제조방법은, Si 기판 상에 소정 패턴의 식각마스크를 형성하는 공정과; 상기 식각마스크를 이용한 식각공정으로 Si 기판을 식각하여 측면에 Si 마이크로-미러를 갖는 웰을 형성하는 공정과; 상기 기판의 웰 밑면 상에 하부절연층을 형성하는 공정과; 상기 하부절연층 상에 발광층을 형성하는 공정과; 상기 발광층상에 상부절연층을 형성하는 공정 및; 상기 상부절연층 상에 상부전극을 형성하는 공정으로 이루어져, 1)종래 SiO
2 박막 미러에 의해 Si 마이크로-미러의 식각 표면특성을 매우 평탄(smooth)하게 형성할 수 있게 되므로 난반사를 줄일 수 있고, 공정재현성이 뛰어나다는 잇점을 가지며, 2)발광층의 측면으로 방출되는 빛을 마이크로-미러를 통해 전면방출시 효과적으로 이용할 수 있으므로, 전면방출 만을 갖는 종래의 ELD 소자에 비해 휘도 특성을 10배 이상 개선할 수 있을 뿐 아니라 발광효율도 2배 이상 상승시킬 수 있게 된다.-
公开(公告)号：KR100233998B1
公开(公告)日：1999-12-15
申请号：KR1019950039797
申请日：1995-11-04
Applicant: 한국과학기술연구원
CPC classification number: C23C14/0688
Abstract: 본 발명은 물리증착(physical vapour deposition : PVD)법에 의해 제조된 전계방출소자용 발광체 및 그 제조방법에 관한 것으로, 유리기판 상에 물리적증착법으로 ZnO:Zn 발광박막을 형성한 뒤 상기 ZnO:Zn 박막 표면에 도전성박막을 코팅하여 발광체 제조를 완료하므로써, 1) 발광막의 두께와 발광체의 열처리 온도 및 분위기 변화를 통하여 에미터의 동작 특성에 맞는 발광문턱과 여러계조의 휘도 및 발광색을 일정 범위내에서 변화시킬 수 있으며, 2) 공정이 용이하고 공정 단가가 낮은 물리증착법(예컨대, 스퍼터법이나 증착법)을 통하여 초박막 상태로도 결정성이 뛰어난 발광막을 얻을 수 있게 되어 고해상도를 요하는 대면적 전계방출소자에 적용할 수 있다는 이점을 갖는다.
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公开(公告)号：KR1019970072512A
公开(公告)日：1997-11-07
申请号：KR1019960012395
申请日：1996-04-23
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: H01L33/00
Abstract: 본 발명에 의한 마이크로-미러를 갖는 전계발광표시소자(electro-luminescent display device) 및 그 제조 방법은, Si 기판 상에 소정 패턴의 식각 마스크를 형성하는 공정과; 상기 식각마스크를 이용한 식각공정으로 Si기판을 식각하여 측면에 Si 마이크로-미러를 갖는 웰을 형성하는 공정과; 상기 기판의 웰 밑면 상에 하부절연층을 형성하는 공정과; 상기 하부절연층 상에 발광층을 형성하는 공정과 ; 상기 발광층 상에 상부절연층을 형성하는 공정 및; 상기 상부절연층 상에 상부전극을 형성하는 공정으로 이루어져, 1) 종래 SiO
2 박막 미러에 비해 Si마이크로-미러의 식각 표면 특성을 매우 평탄(smooth)하게 형성할 수 있게 되므로 난반사를 줄일 수 있고, 공정 재현성이 뛰어나다는 잇점을 가지며, 2) 발광층의 측면으로 방출되는 빛을 마이크로-미러를 통해 전면방출시 효과적으로 이용할 수 있으므로, 전면방출 만을 갖는 종래의 ELD소자에 비해 휘도 특성을 10배 이상 개선할 수 있을 뿐 아니라 발광 효율도 2배 이상 상승시킬 수 있게 된다.
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