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公开(公告)号：KR1020050115480A
公开(公告)日：2005-12-08
申请号：KR1020040040445
申请日：2004-06-03
Applicant: 한국과학기술연구원
CPC classification number: H01M4/366 , H01M4/0419 , H01M4/0471 , H01M4/587 , H01M4/624 , H01M10/052 , Y02E60/12
Abstract: 본 발명은 가스매체로 부유시킨 흑연계 또는 코크스계 탄소입자에 실리콘 전구체 또는 금속염이 용해된 용액을 전기영동방식으로 분사시키면서 건조 및 열분해를 시행한다. 가스매체로 부유된 탄소입자 표면에는 실리콘, 실리콘-금속 또는 실리콘-금속산화물 층이 클러스터 형태로 수십 나노미터 두께로 균일하게 코팅된다. 또한, 코팅된 탄소입자에 추가로 수 ~ 수십 나노미터 두께의 전도성카본층을 균일하게 형성시킬 수 있다. 이에 따라 전도성 및 고율 충방전 특성이 우수하고, 탄소의 이론용량 보다 최소 30%를 상회하는 전극용량을 나타내며, 싸이클 수명이 우수한 리튬이차전지용 음극활물질을 제공할 수 있다.
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公开(公告)号：KR101463460B1
公开(公告)日：2014-12-01
申请号：KR1020130065445
申请日：2013-06-07
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: H05B3/84
CPC classification number: H05B3/86 , H05B3/03 , H05B3/18 , H05B3/28 , H05B2203/01 , H05B2203/013 , H05B2203/017
Abstract: 본 발명은 전도성 투명 발열막, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 발열 창호에 대한 것으로, 상기 전도성 투명 발열막은 도핑 금속 산화물을 포함하는 발열층; 그리고 상기 발열층의 적어도 일부와 접촉하는 전극;을 포함하고, 상기 도핑 금속 산화물은 불소 도핑 주석 산화물, 알루미늄 도핑 아연 산화물 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나인 것이다. 상기 전도성 투명 발열막은 저저항 특성을 도출하여 투과도를 유지하면서 발열성능을 향상 시킬 수 있도록 하여 발열 창호 등에 활용할 수 있으며, 특히 별도의 열선이나 금속 패턴을 포함하지 않으면서도 우수한 특성을 가진 전도성 투명 발열막을 제공한다.
Abstract translation: 本发明涉及一种具有导电性的透明加热材料及其制造方法以及包括该透明加热材料的加热窗。 具有导电性的透明加热材料包括：包含掺杂金属氧化物的加热层; 以及接触加热层的至少一部分的电极。 掺杂金属氧化物是选自F掺杂氧化锡，Al掺杂氧化锌及其组合的组中的一种。 具有导电性的透明加热材料导致低电阻特性，保持透射率，并提高加热性能，从而用于加热窗。 特别地，提供了具有优异特性的导电性的透明加热材料，而不包括单独的加热丝或金属图案。
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公开(公告)号：KR100540181B1
公开(公告)日：2006-01-12
申请号：KR1020040040445
申请日：2004-06-03
Applicant: 한국과학기술연구원
Abstract: 본 발명은 가스매체로 부유시킨 흑연계 또는 코크스계 탄소입자에 실리콘 전구체 또는 금속염이 용해된 용액을 전기영동방식으로 분사시키면서 건조 및 열분해를 시행한다. 가스매체로 부유된 탄소입자 표면에는 실리콘, 실리콘-금속 또는 실리콘-금속산화물 층이 클러스터 형태로 수십 나노미터 두께로 균일하게 코팅된다. 또한, 코팅된 탄소입자에 추가로 수 ~ 수십 나노미터 두께의 전도성카본층을 균일하게 형성시킬 수 있다. 이에 따라 전도성 및 고율 충방전 특성이 우수하고, 탄소의 이론용량 보다 최소 30%를 상회하는 전극용량을 나타내며, 싸이클 수명이 우수한 리튬이차전지용 음극활물질을 제공할 수 있다.
가스분산, 전기영동스프레이, 나노코팅, 실리콘, 탄소복합체, 이차전지음극-
公开(公告)号：KR100671977B1
公开(公告)日：2007-01-24
申请号：KR1020050037267
申请日：2005-05-03
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: C23C16/00
Abstract: 본 발명은 플라스틱 등의 고분자 표면에 금속막을 형성하는 방법 및 그 장치에 관한 것으로서, 계면결합력이 우수한 전자 싸이크로트론 공명 화학증착법과 증착률이 뛰어난 물리증착법을 결합하여 싸이클 조업에 의한 복합 증착 방법을 제시한다. 이러한 방법에 의하면 계면결합력은 물론이고 생산 속도도 매우 증가된 도전성 금속 복합박막을 얻을 수 있다. 본 발명에 따르면 적절한 싸이클 시간과 스플릿(화학증착과 물리적증착시간비)을 조절하여 최적의 조건을 도출함으로써 형성된 박막의 접착성과 전도성은 물론이고 제조생산성을 크게 향상시킬 수 있다. 본 발명에 따른 방법은 차세대형 구리박(FCCL) 또는 플라스틱 태양전지, 액정 구동을 위한 필터, 비디오 레코딩 테이프, 전자 소자재료, 패키징, 전자기파차폐 등의 여러 분야에 응용이 가능하다.
싸이클조업, 상온 화학 증착법, 물리증착, 도전성 금속 복합박막-
公开(公告)号：KR100415977B1
公开(公告)日：2004-01-24
申请号：KR1020010006233
申请日：2001-02-08
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: C08J7/00
Abstract: PURPOSE: Provided is a method for producing a conductive high polymeric resin using ECR which can chemically vapor deposit a thin film three-dimensionally and easily control a physical property of the thin film according to the condition of vapor deposition. CONSTITUTION: The method comprises the steps of (i) forming an inert gas into high density plasma ion by ECR, (ii) accelerating the plasma ion and colliding the plasma on surface of the resin so as to infuse the plasma ion into the surface. The inert gas is argon and/or nitrogen gas. Alternatively, the method comprises the steps of (i) forming an inert gas into high density plasma ion by ECR, (ii) colliding a liquefied or gaseous organic metal precursor to form an ion of corresponding organic metal; and (iii) vapor depositing the ion on surface of the resin.
Abstract translation: 目的：提供一种使用ECR制造导电高分子树脂的方法，其能够根据蒸镀条件以三维方式化学气相沉积薄膜并容易地控制薄膜的物理性质。 构成：该方法包括以下步骤：（i）通过ECR将惰性气体形成高密度等离子体离子，（ii）加速等离子体离子并使等离子体在树脂表面上碰撞，以便将等离子体离子注入到表面中。 惰性气体是氩气和/或氮气。 或者，该方法包括以下步骤：（i）通过ECR将惰性气体形成高密度等离子体离子，（ii）使液化或气态有机金属前体碰撞以形成相应有机金属的离子; 和（iii）将气相沉积在树脂表面上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR100399019B1
公开(公告)日：2003-09-19
申请号：KR1020010021711
申请日：2001-04-23
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: C23C16/44
CPC classification number: H01J37/32192 , C23C14/34 , C23C16/511 , H01J37/32678 , H01J37/34
Abstract: A system for chemical vapor deposition at ambient temperature using electron cyclotron resonance (ECR) comprising: an ECR system; a sputtering system for providing the ECR system with metal ion; an organic material supply system for providing organic material of gas or liquid phase; and a DC bias system for inducing the metal ion and the radical ion on a substrate is provided, and a method for fabricating metal composite film comprising: a step of providing a process chamber with the gas as plasma form using the ECR; a step of providing the chamber with the metal ion and the organic material; a step of generating organic material ion and radical ion by reacting the metal ion and the organic material with the plasma; and a step of chemically compounding the organic material ion and the radical ion after inducing them on a surface of a specimen is also provided.
Abstract translation: 一种使用电子回旋共振（ECR）在环境温度下化学气相沉积的系统，包括：ECR系统; 用于为ECR系统提供金属离子的溅射系统; 用于提供气相或液相的有机材料的有机材料供应系统; 以及用于在基板上诱导金属离子和自由基离子的DC偏压系统以及用于制造金属复合膜的方法，包括：使用ECR向处理室提供等离子体形式的气体的步骤; 向腔室提供金属离子和有机材料的步骤; 通过使金属离子和有机材料与等离子体反应产生有机材料离子和自由基离子的步骤; 还提供了在有机材料离子和自由基离子在样品表面上诱导后化学混合的步骤。
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公开(公告)号：KR100613405B1
公开(公告)日：2006-08-17
申请号：KR1020040024733
申请日：2004-04-10
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: G02F1/136
Abstract: 본 발명은 전기장 결합형 플라즈마 화학 증착법에 의한 도전성 금속 복합박막의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 상온에서 고분자 기질 표면에 전자 사이크로트론 공명 플라즈마에 의해 플라즈마 이온을 형성하고, 상기 형성된 플라즈마 이온 하단에서 유기금속화합물 전구체를 공급함과 동시에 저주파 직류 양·음전압을 인가하여 과응축된 금속이온을 형성하고, 상기 형성된 금속이온이 고분자 기질 표면에 화학 결합에 의해 증착되어 금속 복합막을 형성하는 일련의 단일 시스템을 적용하여, 접착성, 광투과율이 향상되어 플라스틱 태양전지, 액정 구동을 위한 필터 등의 여러 분야에 응용이 가능한 도전성 금속 복합박막을 제조하는 방법에 관한 것이다.
전기장 결합형 플라즈마 화학 증착법, 유기금속화합물 전구체, 도전성 금속 복합박막-
公开(公告)号：KR1020020066051A
公开(公告)日：2002-08-14
申请号：KR1020010006233
申请日：2001-02-08
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: C08J7/00
Abstract: PURPOSE: Provided is a method for producing a conductive high polymeric resin using ECR which can chemically vapor deposit a thin film three-dimensionally and easily control a physical property of the thin film according to the condition of vapor deposition. CONSTITUTION: The method comprises the steps of (i) forming an inert gas into high density plasma ion by ECR, (ii) accelerating the plasma ion and colliding the plasma on surface of the resin so as to infuse the plasma ion into the surface. The inert gas is argon and/or nitrogen gas. Alternatively, the method comprises the steps of (i) forming an inert gas into high density plasma ion by ECR, (ii) colliding a liquefied or gaseous organic metal precursor to form an ion of corresponding organic metal; and (iii) vapor depositing the ion on surface of the resin.
Abstract translation: 目的：提供一种使用ECR制造导电性高分子树脂的方法，其可以三维化学气相沉积薄膜，并且容易地根据气相沉积条件控制薄膜的物理性能。 方法：该方法包括以下步骤：（i）通过ECR将惰性气体形成高密度等离子体离子，（ii）加速等离子体离子并使等离子体与树脂表面碰撞，以将等离子体离子注入表面。 惰性气体是氩气和/或氮气。 或者，该方法包括以下步骤：（i）通过ECR将惰性气体形成高密度等离子体离子，（ii）使液化或气态有机金属前体相互碰撞形成相应的有机金属离子; 和（iii）在树脂的表面上气相沉积离子。
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公开(公告)号：KR1020060115005A
公开(公告)日：2006-11-08
申请号：KR1020050037267
申请日：2005-05-03
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: C23C16/00
Abstract: A noble thin film preparation method capable of satisfying adhesive strength and deposition rate at the same time, process conditions capable of optimally controlling surface resistance, corrosion resistance, electromagnetic wave shielding effect, etc. of a metal film formed on the surface of polymer, and a method for preparing a thin film excellent in mass production capability and applicability into various fields are provided. A method of forming a metal film on the polymer surface by cycle operation comprises: an ordinary temperature chemical vapor deposition step of forming high density plasma ions using electron cyclotron resonance, simultaneously supplying a metal precursor and applying a positive or negative DC voltage with low frequency to a lower portion of the plasma ions to form supercondensed metal ions, and depositing the supercondensed metal ions on the surface of a polymer matrix by chemical bonding; and a physical vapor deposition step of performing physical vapor deposition of a metal target on the surface of the polymer matrix by physical activation, wherein the physical vapor deposition step is periodically performed at different time intervals while the chemical vapor deposition is performed.
Abstract translation: 一种能够同时满足粘合强度和沉积速率，能够最佳地控制形成在聚合物表面上的金属膜的表面电阻，耐腐蚀性，电磁波屏蔽效果等的高价薄膜制备方法，以及 提供了一种制备出大量生产能力和适用于各种领域的薄膜的方法。 通过循环操作在聚合物表面上形成金属膜的方法包括：使用电子回旋共振形成高密度等离子体离子的常温化学气相沉积步骤，同时供应金属前体并施加低频的正或负直流电压 到等离子体离子的下部以形成超稠化金属离子，并且通过化学键合将超缩合金属离子沉积在聚合物基质的表面上; 以及通过物理活化在金属靶材表面进行物理气相沉积的物理气相沉积步骤，其中在执行化学气相沉积时，物理气相沉积步骤以不同的时间间隔周期性地进行。
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公开(公告)号：KR1020050099582A
公开(公告)日：2005-10-13
申请号：KR1020040024733
申请日：2004-04-10
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: G02F1/136
Abstract: 본 발명은 전기장 결합형 플라즈마 화학 증착법에 의한 도전성 금속 복합박막의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 상온에서 고분자 기질 표면에 전자 사이크로트론 공명 플라즈마에 의해 플라즈마 이온을 형성하고, 상기 형성된 플라즈마 이온 하단에서 유기금속화합물 전구체를 공급함과 동시에 저주파 직류 양·음전압을 인가하여 과응축된 금속이온을 형성하고, 상기 형성된 금속이온이 고분자 기질 표면에 화학 결합에 의해 증착되어 금속 복합막을 형성하는 일련의 단일 시스템을 적용하여, 접착성, 광투과율이 향상되어 플라스틱 태양전지, 액정 구동을 위한 필터 등의 여러 분야에 응용이 가능한 도전성 금속 복합박막을 제조하는 방법에 관한 것이다.
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