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公开(公告)号：KR101027012B1
公开(公告)日：2011-04-11
申请号：KR1020080101580
申请日：2008-10-16
Applicant: 한국과학기술연구원
CPC classification number: C08J7/123 , Y10T428/269 , Y10T428/31504
Abstract: 본 발명은 기울어진 마이크로 기둥 배열이 형성된 고분자 및 이를 위한 제작 방법에 관한 것으로, 이온빔 처리의 입사각을 조절하여 기울어진 마이크로 기둥 배열을 제작함으로써, 드라이 셀프 클리닝(dry self-cleaning)을 가진 접합재료, 벽을 기어오를 수 있는 마이크로 로봇 제작, 반도체 라인에서의 웨이퍼 정렬기(wafer aligner) 등의 제작 등에 응용 가능하다. 또한, 본 발명은 에너지 소모량을 적게 사용할 수 있는 PECVD 방식을 이용한 이온빔 처리를 통하여, 기울어진 마이크로 기둥 배열을 갖는 고분자 표면을 형성할 수 있고, 이온빔 처리의 입사각, 조사 시간, 가속 전압의 크기 중 적어도 하나를 조절하여 마이크로 기둥의 기울어진 각도를 원하는 각으로 조절 가능하다.
마이크로 기둥, PDMS, 이온빔, 고분자, 기울어진 기둥 배열-
公开(公告)号：KR1020110097150A
公开(公告)日：2011-08-31
申请号：KR1020100016826
申请日：2010-02-24
Applicant: 한국과학기술연구원
Abstract: 본 발명은 마이크로 기공 및 나노 기공이 있는 고분자 소재와 상기 고분자 소재의 표면에 형성된 소수성 박막을 포함하는 소수성 표면 소재 및 그 제조방법에 관한 것으로서, (a) 마이크로 기공을 갖는 고분자 소재에 플라즈마 식각을 통하여 나노 기공을 형성시켜, 상기 고분자 소재 상에 마이크로 기공 및 나노 기공의 복합 기공 구조를 형성하는 단계 및 (b) 단계 (a)에서 얻은 상기 고분자 소재의 표면에 소수성 박막을 형성하는 단계를 포함하는 소수성 표면 소재의 제조방법을 제공한다.
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公开(公告)号：KR1020100042436A
公开(公告)日：2010-04-26
申请号：KR1020080101580
申请日：2008-10-16
Applicant: 한국과학기술연구원
CPC classification number: C08J7/123 , Y10T428/269 , Y10T428/31504
Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing a polymer in which a tilted micro pillar array is formed is provided to control the tilted angle of micro pillar by controlling at least one of incedence angle, irradiation time, and the size of acceleration voltage. CONSTITUTION: A tilted micro pillar array formed polymer comprises a polymer material in which micro pillar array is formed; and a pillar array manufactured using any one of incedence angle control of ion beam treatment to whole upside region of the micro pillar array, thin film coating, and sputtering of metal/nonmetal materials.
Abstract translation: 目的：提供一种制造其中形成倾斜微柱阵列的聚合物的方法，通过控制倾角，照射时间和加速电压的大小中的至少一个来控制微柱的倾斜角。 构成：倾斜的微柱阵列形成的聚合物包括形成微柱阵列的聚合物材料; 以及使用离子束处理的倾斜角度控制对微柱阵列的整个上侧区域，薄膜涂覆和金属/非金属材料的溅射制造的柱阵列。
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公开(公告)号：KR101149435B1
公开(公告)日：2012-05-24
申请号：KR1020100016826
申请日：2010-02-24
Applicant: 한국과학기술연구원
Abstract: 본 발명은 마이크로 기공 및 나노 기공이 있는 고분자 소재와 상기 고분자 소재의 표면에 형성된 소수성 박막을 포함하는 소수성 표면 소재 및 그 제조방법에 관한 것으로서, (a) 마이크로 기공을 갖는 고분자 소재에 플라즈마 식각을 통하여 나노 기공을 형성시켜, 상기 고분자 소재 상에 마이크로 기공 및 나노 기공의 복합 기공 구조를 형성하는 단계 및 (b) 단계 (a)에서 얻은 상기 고분자 소재의 표면에 소수성 박막을 형성하는 단계를 포함하는 소수성 표면 소재의 제조방법을 제공한다.
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