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公开(公告)号：WO2013100229A1
公开(公告)日：2013-07-04
申请号：PCT/KR2011/010292
申请日：2011-12-29
IPC: G05D1/02
CPC classification number: G05D1/0206
Abstract: 본 발명은 수질 측정과 같은 수자원 관리를 무인 상태로 수행할 수 있는 무인 보트 운용 시스템 및 그것을 이용한 무인 보트 운용 방법을 개시한다. 개시된 무인 보트 운용 시스템은 항행과 관측 및 통신제어유닛을 각각 구비하여 무인 상태로 자동 운항 및 수자원 정보 획득이 가능한 무인 보트와, 통신망을 통해 그 무인 보트와 통신하며 무인 운항과 수자원 정보 획득을 제어를 수행하는 관제국을 구비한다. 이러한 구성의 무인 보트 운용 시스템 및 운용 방법은 조종자의 육안 관측 범위를 벗어나는 넓은 지역에 대해서도 수자원 정보를 무인 자동 상태에서 정확하고 원활하게 얻어낼 수 있게 해주며, 이를 이용할 경우 수자원 관리의 효율성을 극대화할 수 있고 결과적으로 수자원 개선에 크게 기여할 수 있게 된다.
Abstract translation: 本发明涉及一种用于操作无人船的系统，其中系统能够进行水资源管理，其一个任务是无人状态的水质测量，以及使用所述系统操作无人船的方法。 无人驾驶船舶的系统包括：无人船，包括导航单元，观察单元和通信控制单元，能够自动航行并获取无人驾驶状态的水资源信息; 以及控制站，用于通过通信网络与无人船通信时，控制自动航行和获得水资源信息。 用于操作无人船的所述系统和操作无人船的方法使水资源信息能够在无人驾驶状态下准确容易地获得，即使在驾驶员的肉眼可观察到的范围之外的广泛区域。 通过该系统和方法，可以最大限度地提高水资源管理效率，从而大大提高水资源利用效率。
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公开(公告)号：WO2014003221A1
公开(公告)日：2014-01-03
申请号：PCT/KR2012/005144
申请日：2012-06-28
CPC classification number: G01J1/44
Abstract: 광자 검출 장치는 입력된 주기 신호와 입사된 광자에 의한 신호에 따라 전기 신호를 출력하는 광자 검출 소자; 상기 광자 검출 소자로부터 출력된 전기 신호를 적분하는 적분기; 및 상기 적분기로부터 출력된 적분 신호의 크기를 구분하는 신호를 출력하는 비교기를 포함하여, 약한 애벌런치 신호가 발생하여도, 광자를 검출할 수 있다.
Abstract translation: 光子检测装置包括：光子检测元件，其根据输入周期信号和由入射光子产生的信号输出电信号; 积分器，其对来自光子检测元件的电信号进行积分; 以及比较器，其输出将积分器输出的积分信号的幅度彼此区分开的信号。 即使产生弱雪崩信号，该装置也可以检测光子。
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公开(公告)号：WO2013100228A1
公开(公告)日：2013-07-04
申请号：PCT/KR2011/010291
申请日：2011-12-29
CPC classification number: B63B35/00 , B63H5/08 , G01N33/1886 , G01S15/08 , G01S15/93 , G05D1/0206 , H04Q9/02 , H04Q2209/40 , H04Q2209/50 , H04Q2209/84 , Y02A90/36
Abstract: 본 발명은 수질 측정과 같은 수자원 관리를 무인 상태로 수행할 수 있는 무인 보트를 개시한다. 개시된 무인 보트는 보트 선체와 그 선체를 추진시키는 추진유닛, 선체의 이동 방향을 설정하기 위한 정보를 제공하는 항행유닛, 선체의 이동 경로 중 원하는 지점에 대해 수자원 정보를 검출하는 관측유닛 및, 각 유닛들을 제어하며 관측된 정보를 관제국과 송수신하는 통신제어유닛을 구비한다. 이러한 구성의 무인 보트는 관제국과의 통신을 통해 운항되면서 조종자의 육안 관측 범위를 벗어나는 넓은 지역에 대해서도 수자원 정보를 무인 자동 상태에서 정확하고 원활하게 얻어낼 수 있게 해주므로, 이를 이용할 경우 수자원 관리의 효율성을 극대화할 수 있고 결과적으로 수자원 개선에 크게 기여할 수 있게 된다.
Abstract translation: 本发明公开了一种能够进行水质测量等无人水资源管理任务的无人船。 所披露的无人船包括：船体和用于推进船体的推进单元; 导航单元，其提供用于设置船体要移动的方向的信息; 观测单元，用于沿着船体行进路线的期望点检测水资源信息; 以及通信控制单元，其控制每个单元并且向控制站发送和接收检测到的信息。 如上所述构造的无人船通过与控制站的通信来操作，并且可以在无人和自动状态下容易地获得超出操作者的视觉可检测范围的广泛区域的精确水资源信息，使得当使用时，效率 可以最大限度地提高水资源管理水平，从而大大有助于水资源的改善。
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4.发明申请이미지센서를 이용한 난수 생성 시스템, 난수 생성 방법, 데이터베이스 구축방법, 및 그 방법이 컴퓨터 프로그램으로 기록되어 있는 컴퓨터 판독가능한 기록 매체 审中-公开一种使用图像传感器的随机数生成系统，随机数生成方法，数据库构建方法和计算机可读记录介质，其中该方法由计算机程序记录
公开(公告)号：WO2018062812A1
公开(公告)日：2018-04-05
申请号：PCT/KR2017/010629
申请日：2017-09-26
Applicant: 한국과학기술연구원
Abstract: 본 발명은 외부의 광이 차단된 각 단위픽셀 영역들로부터 발생되는 각각의 다크 노이즈들을 디지털 데이터로 출력하는 이미지 센서모듈과 각 단위픽셀별로 복수개의 기준값들이 저장된 데이터베이스를 이용하여, 상기 이미지센서 모듈로부터 출력된 각각의 디지털 데이터들을 분류하여 난수를 할당하며 이들을 취합하여 제1 난수를 생성하는 제어부를 포함하는 난수 생성 시스템을 제공한다.
Abstract translation:
以从外部光的每个单位像素区域中产生的本发明，每个图像输出的暗噪声成数字数据的传感器模块与多个参考值被存储在每个单位像素中的数据库被阻塞 以及控制单元，用于对从图像传感器模块输出的每个数字数据进行分类，并为每个数字数据分配随机数，并收集数字数据以产生第一随机数。
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公开(公告)号：KR1020040050503A
公开(公告)日：2004-06-16
申请号：KR1020020078354
申请日：2002-12-10
IPC: G02B6/36
Abstract: PURPOSE: A method for fabricating an optical fiber fixing alignment device using a photoresist is provided to align and combine an optical element and an optical fiber accurately and easily using a MEMS technology. CONSTITUTION: According to the method for fabricating a fixing alignment device capable of fixing a micro optical element like an optical fiber(12) to a micro optical element(11a,11b,11c), a photoresist is coated on a back of the micro optical element. A required part is exposed by a photolithography process using a photo mask, and then the unnecessary photoresist is removed through development, and thus the fixing alignment device having a micro gap is fabricated.
Abstract translation: 目的：提供一种使用光致抗蚀剂制造光纤固定对准装置的方法，以使用MEMS技术精确且容易地对准和组合光学元件和光纤。 构成：根据用于制造能够将诸如光纤（12）的微型光学元件固定到微型光学元件（11a，11b，11c）的固定对准装置的方法，光致抗蚀剂涂覆在微型光学器件的背面 元件。 通过使用光掩模的光刻工艺曝光所需的部分，然后通过显影除去不需要的光致抗蚀剂，由此制造具有微小间隙的固定对准装置。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020040050502A
公开(公告)日：2004-06-16
申请号：KR1020020078353
申请日：2002-12-10
IPC: G02B6/40
Abstract: PURPOSE: A method for fabricating a V-groove structure using a photoresist is provided to replace a prior silicon V-groove with a slant micro V-groove structure using the photoresist on a wafer. CONSTITUTION: According to the method for fabricating a V-groove(12) structure using a photoresist(16), a photo mask is placed on a substrate(13) coated with a photoresist and then it is exposed to light(14) slantly. It is exposed twice by changing an incident angle of the light and thus a slant side has a different angle. The substrate coated with a photoresist is exposed using a gray level mask(17) by controlling the penetration of the exposure light differently, and thus the V-groove structure is fabricated by making the exposure light be incident vertically and by controlling an intensity of the light.
Abstract translation: 目的：提供一种使用光致抗蚀剂制造V型槽结构的方法，以在晶片上使用光致抗蚀剂替代具有倾斜微V形槽结构的现有硅V槽。 构成：根据使用光致抗蚀剂（16）制造V槽（12）结构的方法，将光掩模放置在涂有光致抗蚀剂的基板（13）上，然后将其暴露于光（14）。 通过改变光的入射角来曝光两次，因此倾斜侧具有不同的角度。 使用灰度级掩模（17）通过控制曝光光的穿透而不同地曝光涂覆有光致抗蚀剂的基板，因此通过使曝光光垂直入射并通过控制曝光光的强度来制造V形槽结构 光。
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公开(公告)号：KR100458285B1
公开(公告)日：2004-11-26
申请号：KR1020020078353
申请日：2002-12-10
IPC: G02B6/40
Abstract: PURPOSE: A method for fabricating a V-groove structure using a photoresist is provided to replace a prior silicon V-groove with a slant micro V-groove structure using the photoresist on a wafer. CONSTITUTION: According to the method for fabricating a V-groove(12) structure using a photoresist(16), a photo mask is placed on a substrate(13) coated with a photoresist and then it is exposed to light(14) slantly. It is exposed twice by changing an incident angle of the light and thus a slant side has a different angle. The substrate coated with a photoresist is exposed using a gray level mask(17) by controlling the penetration of the exposure light differently, and thus the V-groove structure is fabricated by making the exposure light be incident vertically and by controlling an intensity of the light.
Abstract translation: 目的：提供使用光致抗蚀剂制造V形槽结构的方法，以使用晶圆上的光致抗蚀剂代替具有倾斜微V形槽结构的现有硅V形槽。 组成：根据使用光致抗蚀剂（16）制造V型槽（12）结构的方法，将光掩模置于涂有光致抗蚀剂的基片（13）上，然后将其倾斜曝光（14）。 它通过改变光的入射角而暴露两次，因此斜面具有不同的角度。 使用灰度级掩模（17）通过不同地控制曝光光线的穿透来曝光涂覆有光致抗蚀剂的基板，并且因此通过使曝光光垂直入射并且通过控制曝光光线的强度来制造V形凹槽结构 光。
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