Abstract:
본 발명은 표준 3중 웰 CMOS 공정에서 구현된 수직형 바이폴라 정션 트랜지스터를 이용하는 전압 제어 발진기, 차동 회로, 및 전류 미러 회로에 관한 것이다. 본 발명의 일실시예에 따르면, 전압 제어 발진기는 부성 저항 성분을 생성하기 위한 부성 저항 셀, 제어 전압에 의하여 임피던스를 가변시킴으로써 출력 신호의 주파수를 가변시키는 LC 탱크, 및 일정한 전류를 공급하기 위한 전류 소오스를 포함하되, 전류 소오스는 깊은 n웰을 가지는 표준 3중 웰 CMOS 공정에서 구현되고, 에미터는 CMOS 공정의 n+ 소스-드레인 확산영역에 의하여 형성되고, 베이스는 CMOS 공정의 p웰, p+ 소스-드레인 확산영역에 의하여 형성되며, 콜렉터는 CMOS 공정의 깊은 n웰, n웰 및 n+ 소스-드레인 확산영역에 의하여 형성되는 수직형 바이폴라 정션 트랜지스터로 구현된다. 또한, 본 발명의 다른 실시예에 따르면, 전압 제어 발진기의 부성 저항 셀, 각종 차동 회로의 전류 소오스, 또는 전류 미러 회로의 능동 소자를 수직형 바이폴라 정션 트랜지스터로 구현함으로써, 전체 회로의 위상 잡음 특성과 1/f 잡음 특성 및 소자간 정합 특성을 개선시키며 동작 전압의 여유(voltage head room)를 높일 수 있다.
Abstract:
PURPOSE: A circuit using a vertical bipolar junction transistor as a current source in a standard triple well CMOS process is provided to improve a phase noise characteristic by forming a bias current source of a voltage controlled oscillator with the vertical bipolar junction transistor. CONSTITUTION: A plurality of negative resistance cells(301,305) are used for generating negative resistance elements of a voltage controlled oscillator. An LC tank is connected among the negative resistance cells and a first power supply in order to change a frequency of an output signal by changing an impedance according to a control voltage. A current source is connected among the negative resistance cells and a second power supply in order to supply a constant current. The current source is formed in a standard triple well CMOS process having a deep n well. An emitter is formed by an n+ source-drain diffusion region a CMOS process. A base is formed by a p well and a p+ source-drain diffusion region. A collector is formed by a deep n well, an n well, and an n+ source-drain diffusion region.