파면 제어기를 활용한 초고속 고정밀 3차원 굴절률 측정 방법 및 장치
    1.
    发明申请
    파면 제어기를 활용한 초고속 고정밀 3차원 굴절률 측정 방법 및 장치 审中-公开
    超高速,高精度,三维折射率测量方法和使用波形形状的设备

    公开(公告)号:WO2017014373A1

    公开(公告)日:2017-01-26

    申请号:PCT/KR2015/013567

    申请日:2015-12-11

    CPC classification number: G01N21/45 G01N21/453 G01N2201/068

    Abstract: 파면 제어기를 활용한 초고속 고정밀 3차원 굴절률 측정 방법 및 장치가 제시된다. 파면 제어기를 활용한 초고속 고정밀 3차원 굴절률 측정 방법은 파면 제어기(wavefront shaper)를 사용하여 입사광의 조사 각도 및 파면 패턴 중 적어도 하나를 변경하여 샘플에 입사시키는 단계; 상기 샘플을 통과한 2차원 광학장을 간섭계를 이용하여 적어도 하나 이상의 상기 입사광에 따라 측정하는 단계; 및 측정된 상기 2차원 광학장의 정보를 통해 3차원 굴절률 영상을 획득하는 단계를 포함할 수 있다.

    Abstract translation: 公开了一种超高速,高精度三维折射率测量方法和使用波前整形器的装置。 使用波前整形器的超高速,高精度三维折射率测量方法可以包括以下步骤:改变入射光束的照射角度和/或波前图案,以使光束入射 通过使用波前整形器到样品; 根据至少一个入射光束,通过使用干涉仪测量通过样品的二维光场; 并通过所测量的二维光场的信息获取三维折射率图像。

    마이크로 렌즈 3차원 광학 굴절률 촬영 장치 및 방법
    2.
    发明授权
    마이크로 렌즈 3차원 광학 굴절률 촬영 장치 및 방법 有权
    微透镜三维光学折射率成像设备和方法

    公开(公告)号:KR101761014B1

    公开(公告)日:2017-07-25

    申请号:KR1020150138426

    申请日:2015-10-01

    Inventor: 박용근 김규현

    Abstract: 마이크로렌즈 3차원광학굴절률촬영장치및 방법이제시된다. 마이크로렌즈 3차원광학굴절률촬영방법에있어서, 광원에서조사된빛이제1 빔스플리터(beam splitter: BS)를통과하며샘플빔(sample beam)과기준빔(reference beam)으로분리되는단계; 상기제1 빔스플리터에서분리된상기샘플빔이샘플렌즈에입사되는단계; 상기샘플렌즈를통과한상기샘플빔과상기제1 빔스플리터를통과한상기기준빔이제2 빔스플리터에의해모아지는단계; 상기제2 빔스플리터에서반사된상기샘플빔과상기기준빔의간섭무늬를검출기를이용하여측정하는단계; 및상기샘플렌즈는회전지지대(rotating mount: RM)에고정되며, 상기회전지지대의각도를회전시켜복수의각도에서의상기샘플렌즈에의한공간변조간섭무늬를상기검출기를이용하여측정하는단계를포함할수 있다.

    Abstract translation: 公开了一种微透镜三维光学折射率拍摄设备和方法。 在微透镜三维光学折射率成像方法中,从光源发射的光通过分束器(BS)被分成样本光束和参考光束。 从第一分束器分离的样本光束入射到样本透镜上; 通过样本透镜的样本样本光束和通过第一分束器的样本参考光束现在由双分束器收集; 使用检测器测量由第二分束器反射的样本光束和参考光束的干涉图案; 并且样品透镜可以被固定到旋转底座(RM),并且旋转旋转底座的角度以使用检测器以多个角度测量样品透镜的空间调制干涉条纹 有。

    마이크로 렌즈 3차원 광학 굴절률 촬영 장치 및 방법
    8.
    发明公开
    마이크로 렌즈 3차원 광학 굴절률 촬영 장치 및 방법 有权
    3用于成像三维立体图的微透镜的光学成像装置及其方法

    公开(公告)号:KR1020170022816A

    公开(公告)日:2017-03-02

    申请号:KR1020150138426

    申请日:2015-10-01

    Inventor: 박용근 김규현

    Abstract: 마이크로렌즈 3차원광학굴절률촬영장치및 방법이제시된다. 마이크로렌즈 3차원광학굴절률촬영방법에있어서, 광원에서조사된빛이제1 빔스플리터(beam splitter: BS)를통과하며샘플빔(sample beam)과기준빔(reference beam)으로분리되는단계; 상기제1 빔스플리터에서분리된상기샘플빔이샘플렌즈에입사되는단계; 상기샘플렌즈를통과한상기샘플빔과상기제1 빔스플리터를통과한상기기준빔이제2 빔스플리터에의해모아지는단계; 상기제2 빔스플리터에서반사된상기샘플빔과상기기준빔의간섭무늬를검출기를이용하여측정하는단계; 및상기샘플렌즈는회전지지대(rotating mount: RM)에고정되며, 상기회전지지대의각도를회전시켜복수의각도에서의상기샘플렌즈에의한공간변조간섭무늬를상기검출기를이용하여측정하는단계를포함할수 있다.

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