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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020170005563A
公开(公告)日：2017-01-16
申请号：KR1020150095735
申请日：2015-07-06
Applicant: 한국과학기술원
Abstract: 본발명은, 온화한조건에서단일공정을통해, 우수한내구성및 전기적특성을나타내며높은종횡비를갖는금속나노섬유를안정적으로제조할수 있는금속나노섬유제조방법및 이로부터제조된금속나노섬유에관한것이다.
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公开(公告)号：KR101756401B1
公开(公告)日：2017-07-11
申请号：KR1020160160310
申请日：2016-11-29
CPC classification number: H01M6/164 , H01M4/382 , H01M4/5835 , H01M6/166 , Y02E60/122
Abstract: 일실시예에따른리튬일차전지는음극, 양극, 전해액및 분리막을포함하며, 상기음극은리튬을포함하고, 상기양극은불화흑연및 이산화망간의복합체를포함하며, 상기전해액은리튬염및 카보네이트계혼합물용매를포함한다.
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公开(公告)号：KR101412782B1
公开(公告)日：2014-06-30
申请号：KR1020120039938
申请日：2012-04-17
Applicant: 한국과학기술원
Abstract: 본 발명은, 분말형태가 아닌 나노선 형태를 가지는 폴리피롤 나노선 및 이의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명의 일 측면에 따르면, 서로 연결되어 망사형 구조를 형성하고 있는 폴리피롤 나노선이 제공되며, 폴리피롤 나노선은 각 폴리피롤 나노선 내부 및 표면 상에 결합되어 있는 산화주석 입자를 더 포함할 수 있다. 본 발명에 따르면, 나노선들이 망사형 구조로 상호 연결되어 표면적이 극대화된 구조를 가지고, 기존의 분말형태의 복합체에 비하여 구조적 강도가 우수한 폴리피롤 나노선이 제공될 수 있다.
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公开(公告)号：KR1020130117137A
公开(公告)日：2013-10-25
申请号：KR1020120039938
申请日：2012-04-17
Applicant: 한국과학기술원
Abstract: PURPOSE: A polypyrrole nanowire is provided to offer excellent surface and structure intensity by forming a mash type structure. CONSTITUTION: A polypyrrole nanowire is connected to each other to form a mash type structure. The polypyrrole nanowire contains a tin oxide particle. The tin oxide particle is combined to the inside and the surface of the polypyrrole nanowire forming the mash type structure. The polypyrrole nanowire has the cross-sectional diameter of 60-200 nm, and the average diameter of the tin oxide particle is 2-30 nm. A production method of the polypyrrole nanowire comprises a step of applying negative pressure to an aqueous solution including nitric acid, sodium nitrate, and pyrrole. The aqueous solution contains 0.2-1.6 M of nitric acid, 0.1-1 M of sodium nitrate, and 0.1005 M of pyrrole. The negative pressure is applied in -0.6-(-1.0) VSCE for 5-20 minutes. The temperature of the aqueous solution is maintained at 15-30°C. The aqueous solution additionally contains 0.01-0.1 M of stannic salt. [Reference numerals] (AA) Reduction electrode : Cu foil; (BB) Oxidation electrode : Pt; (CC) Applied voltage: -0.6V_SCE ~ -1.0V_SCE; (DD) Electrodeposition time: 5 min-15 min; (EE) Solution temperature: 15°C-30°C
Abstract translation: 目的：提供聚吡咯纳米线，通过形成糊状结构提供优异的表面和结构强度。 构成：聚吡咯纳米线彼此连接形成糊状结构。 聚吡咯纳米线含有氧化锡颗粒。 将氧化锡颗粒与形成糊状结构的聚吡咯纳米线的内部和表面结合。 聚吡咯纳米线的截面直径为60-200nm，氧化锡颗粒的平均直径为2-30nm。 聚吡咯纳米线的制造方法包括对包含硝酸，硝酸钠和吡咯的水溶液进行负压的工序。 水溶液含有0.2-1.6M硝酸，0.1-1M硝酸钠和0.1005M吡咯。 在-0.6 - （ - 1.0）VSCE中施加负压5-20分钟。 水溶液的温度保持在15-30℃。 该水溶液另外含有0.01-0.1M的锡盐。 （附图标记）（AA）还原电极：Cu箔; （BB）氧化电极：Pt; （CC）施加电压：-0.6V_SCE〜-1.0V_SCE; （DD）电沉积时间：5分钟-15分钟; （EE）溶液温度：15℃-30℃
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