-
公开(公告)号：KR102233994B1
公开(公告)日：2021-03-31
申请号：KR1020180109395A
申请日：2018-09-13
Applicant: 한국과학기술원
IPC: H01L21/3205 , H01L21/02 , H01L21/8234
CPC classification number: H01L21/32056 , H01L21/02 , H01L21/02118 , H01L21/02172 , H01L21/02205 , H01L21/3205 , H01L21/8234 , H01L21/823462
Abstract: 본 발명은 금속 산화물이 매트릭스 고분자에 원자 단위로 분산되어 있으면서 서로 화학적으로 결합되어 있는 유무기 절연막에 관한 것으로, 상기 절연막은 높은 절연상수와 낮은 누설전류, 얇은 두께 및 우수한 절연 특성을 가지며, 트랜지스터에 게이트 절연막으로 적용하여 유연 전자 소자 및 회로의 성능을 극대화할 수 있다.
-
公开(公告)号：KR102233355B1
公开(公告)日：2021-03-30
申请号：KR1020140137516A
申请日：2014-10-13
Applicant: 한국과학기술원
Abstract: 본 발명은 고분자가 개시제를 이용한 화학 기상 증착(iCVD) 방법으로 증착된 기판에 증류수에 분산된 다양한 금속산화물 입자 분산액을 적하하여 어닐링하여 접착하는 방법으로, 평면 기판 뿐 아니라 플렉서블(flexible)한 플라스틱 기판 등 여러 기판에 다양한 입자를 접착하는데 사용할 수 있는 방법을 제시한다.
-
公开(公告)号：WO2020055099A1
公开(公告)日：2020-03-19
申请号：PCT/KR2019/011725
申请日：2019-09-10
Applicant: 한국과학기술원
IPC: H01L21/3205 , H01L21/02 , H01L21/8234
Abstract: 본 발명은 금속 산화물이 매트릭스 고분자에 원자 단위로 분산되어 있으면서 서로 화학적으로 결합되어 있는 유무기 절연막에 관한 것으로, 상기 절연막은 높은 절연상수와 낮은 누설전류, 얇은 두께 및 우수한 절연 특성을 가지며, 트랜지스터에 게이트 절연막으로 적용하여 유연 전자 소자 및 회로의 성능을 극대화할 수 있다.
-
公开(公告)号：WO2018221812A1
公开(公告)日：2018-12-06
申请号：PCT/KR2017/014944
申请日：2017-12-18
Applicant: 한국과학기술원
Abstract: 유 -무기하이브리드 필름 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 유기단량체가 증합된 유기 고분자 화합물이 유기금속 전구체와 화학 결합으로 가교된 유 -무기복합체를 포함하는, 유 -무기하이브리드필름，이의제조방법 및 이를포함하는 절연막, 및 봉지막을제공할수 있다.
-
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020170139822A
公开(公告)日：2017-12-20
申请号：KR1020160072244
申请日：2016-06-10
Applicant: 한국과학기술원 , 램 리서치 코퍼레이션
IPC: H01L21/02 , H01L21/28 , H01L21/324 , H01L21/205
CPC classification number: H01L21/76879 , H01L21/76883
Abstract: 본발명은개시제를이용한화학기상증착(initiated chemical vapor deposition, iCVD) 방법을이용하여다공성절연물질표면의열린기공을실링하는새로운방법에관한것이다. 본발명에따른실링방법은매우얇은두께의고분자박막을플라즈마처리를하지않고, 용매없이기상증착방식을통해형성할 수있으므로플라즈마와화학용액에취약한절연물질의특성저하를최소화할 수있다.
Abstract translation: 本发明涉及一种新方法，用于使用使用引发剂，用于密封所述多孔质绝缘材料的表面的开放孔（引发的化学气相沉积，ICVD）方法的化学气相沉积。 根据本发明的密封方法不限于等离子体处理非常小的厚度的聚合物薄膜，可以通过气相沉积方法在不存在溶剂时，它可能最小化的质量差的绝缘性能的等离子体和化学溶液中减少形成。
-
-
公开(公告)号：KR101646148B1
公开(公告)日：2016-08-09
申请号：KR1020140072837
申请日：2014-06-16
Applicant: 한국과학기술원
IPC: C11B1/10
CPC classification number: Y02E50/13
Abstract: 본발명은양이온성고분자와전단응력을이용한미세조류로부터지질의추출방법및 장치에관한것으로, 보다상세하게는미세조류의건조과정없이, 음전하를띠고있는미세조류의세포벽을파괴할수 있도록, 말단에양전하기와지방족사슬을포함하는고분자와교반또는통기에의해발생되는전단응력(Shear stress)을이용한미세조류로부터지질의추출방법및 장치에관한것이다. 본발명에따른미세조류로부터지질의추출방법및 장치이용은미세조류의건조및 에너지투입없이, 미세조류로부터지질을추출할수 있으므로, 바이오디젤의에너지및 생산단가절감에효과가있다. 또한, 처리과정에서소모되는화학물질없이양이온고분자코팅과미세조류세포벽사이의상호작용및 전단응력만으로처리가이루어지므로친환경적인바이오디젤하부공정을실현할수 있다. 또한, 양이온고분자만반응시켰을때 보다전단응력까지포함된미세조류연속반응기를사용한경우, 전단응력과전하간의상호작용시너지효과에의해미세조류로부터지질의추출시간을단축할수 있고, 높은추출수율을얻을수 있다.
-
公开(公告)号：KR1020180107585A
公开(公告)日：2018-10-02
申请号：KR1020170036080
申请日：2017-03-22
Applicant: 한국과학기술원 , 램 리서치 코퍼레이션
IPC: H01L21/02 , H01L21/205 , H01L21/324
CPC classification number: H01L21/02277 , B05D1/60 , B05D3/0254 , H01L21/02118 , H01L21/02203 , H01L21/7682 , H01L23/5226 , H01L23/5329 , H01L2221/1047
Abstract: 본발명은다공성물질의표면에존재하는기공을화학기상증착(initiated chemical vapor deposition, iCVD) 법으로고분자박막을형성하여실링하는방법및 그로부터유발되는절연상수의증가를최소화하는기법을제공하는것이다.
-
公开(公告)号：KR101694473B1
公开(公告)日：2017-01-10
申请号：KR1020150026771
申请日：2015-02-25
IPC: H01M2/16 , H01M2/14 , H01M10/0525 , H01M2/10
CPC classification number: Y02E60/122 , Y02P70/54 , Y02T10/7011
Abstract: 본발명은이차전지용분리막의제조방법및 그로부터제조된분리막에대한것이다. 더욱상세하게는개시화학기상증착법(initiated chemical vapor deposition, iCVD)을이용하여기계적강도가향상된분리막을제조하는방법및 그분리막에대한것이다. 본원발명에따른분리막제조방법은개시화학기상증착법(initiated chemical vapor deposition; iCVD)를이용하므로이차전지의분리막용다공성기재에고열공정에의한손상을주지않으면서도인장강도등 기계적강도가우수한이차전지용분리막을제조할수 있다. 또한, 본발명에의한제조방법은분리막의피브릴을미세하게코팅하는것이므로포어구조에영향을주지않아분리막의성능을저하시키지않는다. 본원발명에따른방법에의해서제조된분리막은다공성구조를유지하면서도기계적강도가우수한효과가있다.
Abstract translation: 本发明涉及一种制造用于制造二次电池用隔膜的隔膜的方法和隔膜，更具体地说，涉及一种二次电池用隔膜的制造方法以及使用起始的 化学气相沉积（iCVD）。 根据本发明，隔板的制造方法采用起始的化学气相沉积法（iCVD），因此可以制造具有优异的拉伸强度和机械强度的二次电池用隔膜，同时防止热处理对多孔基材的损伤 二次电池的隔膜。 另外，根据本发明，制造方法是对隔膜的原纤维进行精细的涂布，孔结构没有变化，所以隔膜的性能不受负面影响。 使用本发明的方法制造的隔膜在保持多孔结构的同时具有优异的机械强度。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
21
records
(took 0.02 seconds)
