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公开(公告)号:KR102224035B1
公开(公告)日:2021-03-08
申请号:KR1020190031572A
申请日:2019-03-20
Applicant: 한국과학기술원
IPC: C23C16/452 , C23C16/50 , C23C16/54
CPC classification number: C23C16/452 , C23C16/50 , C23C16/545
Abstract: 본 발명은 개시제와 플라스마를 같이 이용하여 고분자 박막을 증착하는 시스템 및 방법에 관한 것으로, 플라스마 강화 화학 기상 증착(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition; PECVD)부에서 전극에 의해 세기가 조절된 플라스마와 개시제를 사용하는 화학 기상 증착(initiated Chemical Vapor Deposition; iCVD)부로 주입되는 개시제를 이용하여 기판 상에 iPECVD 고분자 박막(Polymer thin film)을 증착하는 메인 챔버를 포함한다.
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公开(公告)号:KR101650724B1
公开(公告)日:2016-08-25
申请号:KR1020150100046
申请日:2015-07-14
Applicant: 한국과학기술원
Abstract: 본발명은 2차원물질층; 상기 2차원물질층상에형성된소수성물질층; 및상기소수성물질층상에형성된중간물질층을포함하여구성되며, 상기 2차원물질층, 소수성물질층및 중간물질층이교대로반복되어다층구조를형성하는것을특징으로하는봉지막에관한것이다.
Abstract translation: 本发明涉及一种封装层。 封装层包括2D材料层; 形成在2D材料层上的疏水性材料层; 以及形成在疏水材料层上的中间材料层。 2D材料层,疏水材料层和中间材料层被重复堆叠以形成多层结构。 因此,可以提高封装层的氧气和湿气阻塞性能。
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公开(公告)号:KR102224035B1
公开(公告)日:2021-03-08
申请号:KR1020190031572
申请日:2019-03-20
Applicant: 한국과학기술원
IPC: C23C16/452 , C23C16/50 , C23C16/54
Abstract: 본발명은개시제와플라스마를같이이용하여고분자박막을증착하는시스템및 방법에관한것으로, 플라스마강화화학기상증착(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition; PECVD)부에서전극에의해세기가조절된플라스마와개시제를사용하는화학기상증착(initiated Chemical Vapor Deposition; iCVD)부로주입되는개시제를이용하여기판상에 iPECVD 고분자박막(Polymer thin film)을증착하는메인챔버를포함한다.
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