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公开(公告)号：WO2022182022A1
公开(公告)日：2022-09-01
申请号：PCT/KR2022/002029
申请日：2022-02-10
Abstract: 본 발명은 금속 산화물 나노로드를 포함하는 플라스틱 수지 복합체 및 이의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 금속 산화물 나노로드를 포함하는 플라스틱 수지 복합체는 섬유, 상기 섬유 표면에 형성된 금속 산화물 나노로드를 포함하는 섬유 복합체 및 상기 섬유 복합체와 인터로킹(interlocking)으로 결합되는 플라스틱 수지를 포함하여, 경량이면서도 기계적 강도가 우수하다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：WO2022182000A1
公开(公告)日：2022-09-01
申请号：PCT/KR2022/001126
申请日：2022-01-21
Abstract: 본 발명은 실란을 포함하는 플라스틱 수지 복합체 및 이의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 실란을 포함하는 플라스틱 수지 복합체는 섬유, 상기 섬유 표면에 형성된 실란을 포함하는 섬유 복합체 및 상기 섬유 복합체와 결합되는 플라스틱 수지;를 포함하여, 경량이면서도 기계적 강도가 우수하다.
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公开(公告)号：KR1020180077509A
公开(公告)日：2018-07-09
申请号：KR1020160181930
申请日：2016-12-29
Applicant: 한국과학기술원
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/705 , G03F7/70508 , G03F7/70533 , H01L21/027
Abstract: 본발명의실시예에따른시뮬레이션장치는포토리소그래피클러스터장치시뮬레이션을위한출구재귀모델(EXIT RECURTION MODEL)을결정하는장치모델결정부; 상기결정된출구재귀모델에대응되는파라미터를산출하는파라미터산출부; 및상기산출된파라미터를이용하여, 시뮬레이션된포토리소그래피클러스터장치를구동하는공정시뮬레이션부를포함하여, 웨이퍼제조공정(FAB) 레벨의포토리소그래피클러스터장치시뮬레이션을제공한다.
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公开(公告)号：KR101885619B1
公开(公告)日：2018-08-06
申请号：KR1020160181930
申请日：2016-12-29
Applicant: 한국과학기술원
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 본발명의실시예에따른시뮬레이션장치는포토리소그래피클러스터장치시뮬레이션을위한출구재귀모델(EXIT RECURTION MODEL)을결정하는장치모델결정부; 상기결정된출구재귀모델에대응되는파라미터를산출하는파라미터산출부; 및상기산출된파라미터를이용하여, 시뮬레이션된포토리소그래피클러스터장치를구동하는공정시뮬레이션부를포함하여, 웨이퍼제조공정(FAB) 레벨의포토리소그래피클러스터장치시뮬레이션을제공한다.
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公开(公告)号：KR101866857B1
公开(公告)日：2018-06-14
申请号：KR1020160181434
申请日：2016-12-28
Applicant: 한국과학기술원
IPC: G03F7/20 , H01L21/66 , H01L21/027 , G03F7/00
CPC classification number: G03F7/705 , G03F7/0002 , H01L21/0274 , H01L22/30
Abstract: 본발명의실시예에따른시뮬레이션장치는, 포토리소그래피클러스터장치시뮬레이션을위한장치모델을결정하는장치모델결정부; 상기결정된모델에대응되는파라미터를산출하는파라미터산출부; 및상기산출된파라미터를이용하여, 시뮬레이션된포토리소그래피클러스터장치를구동하는공정시뮬레이션부를포함하여, 웨이퍼제조공정(FAB) 레벨의포토리소그래피클러스터장치시뮬레이션을제공한다.
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