Abstract:
본 발명은 3차원 나노구조체 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 패턴화된 고분자 구조체의 외주면에 물리적 이온 식각공정을 통한 이온 봄바드먼트(ion bombardment) 현상을 적용하여 목적물질을 부착시킨 목적물질-고분자 복합구조체를 형성시킨 다음, 상기 목적물질-고분자 복합구조체의 고분자를 제거하여 나노구조체를 제조함으로써, 대면적으로 고 종횡비와 균일성을 가지는 다양한 형상의 3차원 나노 구조체 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 3차원 나노구조체의 제조방법은 물리적 이온 식각을 통한 이온 봄바드먼트 현상을 적용하여 제조됨으로써 간단한 공정과 저렴한 비용으로 높은 종횡비와 균일성을 가지는 3차원 나노구조체를 제조할 수 있고, 고분자 구조체의 패턴 및 형상을 조절함으로써 다양한 형상의 구조체 제조가 용이한 동시에 대면적으로 두께가 10nm 이하인 균일한 미세 나노구조를 형성할 수 있어 나노전자소자, 광학소자, 바이오소자, 에너지소자 등과 같은 미래의 나노소자의 높은 성능을 구현할 수 있는 효과가 있다.
Abstract:
PURPOSE: A three dimensional nano-structure and a method for manufacturing the same are provided to improve the aspect ratio and the uniformity of the three dimensional nano-structure based on an ion bombardment phenomenon. CONSTITUTION: An object material layer(120) and a polymer layer(130) are successively formed on a substrate(110). A pattered polymer structure(135) is formed in the polymer layer through a lithography process. The object material layer is ion-etched to form an object material-polymer complex structure. Ion etched objected materials(125) are attached on the outer circumference of the polymer structure in the object material-polymer complex structure. The object material-polymer complex structure is eliminated.
Abstract:
본발명은선택적투과도를가지며, 타겟물질과의결합속도를높일수 있는표면증강라만산란표지용하이드로젤의제조방법및 이에의한하이드로젤미세입자에관한것이다. 본발명의표면증강라만산란표지용하이드로젤은타겟물질만선택적으로투과시켜시료의전처리과정을없앨수 있고, 내부의금속입자가오염되는것도방지할수 있다. 본발명의표면증강라만산란표지용하이드로젤은기판형태가아닌마이크로젤형태(입자형태)이기때문에주사(injection) 및혼합이가능하므로타겟물질과의결합속도를높일수 있다. 또한, 본발명의하이드로젤은내부에금속나노입자를담지하는간단한구조이므로제조가용이하고대량생산이용이하다. 본발명의하이드로젤미세입자는크기가수십내지수백마이크로미터로작아시료에직접적인분산이가능하며, 분리및 농축이용이하다. 또한, 하이드로젤에자성입자를도입하여자기장에의한분리도가능하다.
Abstract:
본 발명은 3차원 나노구조체 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 패턴화된 고분자 구조체의 외주면에 물리적 이온 식각공정을 통한 이온 봄바드먼트(ion bombardment) 현상을 적용하여 목적물질을 부착시킨 목적물질-고분자 복합구조체를 형성시킨 다음, 상기 목적물질-고분자 복합구조체의 고분자를 제거하여 나노구조체를 제조함으로써, 대면적으로 고 종횡비와 균일성을 가지는 다양한 형상의 3차원 나노 구조체 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 3차원 나노구조체의 제조방법은 물리적 이온 식각을 통한 이온 봄바드먼트 현상을 적용하여 제조됨으로써 간단한 공정과 저렴한 비용으로 높은 종횡비와 균일성을 가지는 3차원 나노구조체를 제조할 수 있고, 고분자 구조체의 패턴 및 형상을 조절함으로써 다양한 형상의 구조체 제조가 용이한 동시에 대면적으로 두께가 10nm 이하인 균일한 미세 나노구조를 형성할 수 있어 나노전자소자, 광학소자, 바이오소자, 에너지소자 등과 같은 미래의 나노소자의 높은 성능을 구현할 수 있는 효과가 있다.