Abstract:
플립플롭 변환방법은 복수의 오리지널 플립플롭들 각각을 제1 내지 제4 비대칭 플립플롭들 중 확률적 누설에 기초하여 가장 적은 누설 특성을 나타내는 비대칭 플립플롭으로 대체하는 단계, 대체된 비대칭 플립플롭들을 포함하는 순차회로에서 타이밍 조건을 위반하는 비대칭 플립플롭을 찾기 위하여 경로(path) 그래프를 생성하는 단계, 생성된 경로 그래프에 대하여 타이밍 분석을 수행하는 단계, 분석된 타이밍에 기초하여 타이밍 조건을 위반하는 지연 경로의 여부를 판단하는 단계, 지연 경로가 있는 경우 상기 지연 경로상에서 상기 타이밍 조건을 위반하도록 유발하는 후보 비대칭 플립플롭을 발견하는 단계 및 후보 비대칭 플립플롭의 타이밍 특성을 계산하여 후보 비대칭 플립플롭을 오리지널 플립플롭과 제1 내지 제4 비대칭 플립플롭들과 제1 내지 제2 플립플롭들 중 더 나은 타이밍 특성을 나타내는 플립플롭으로 대체하는 단계를 포함한다.
Abstract:
칩의 성능 향상을 위하여 선택적으로 패터닝된 마스크 셋과 마스킹 마스크를 이용한 스트럭처드 ASIC의 레이어 리소그래피 방법이 개시된다. 스트럭처드 ASIC의 레이어를 웨이퍼에 리소그래피 하는데 사용하는 서로 다른 M(M은 2 이상의 자연수) 개의 마스크 셋을 제작한다. 미리 디자인된 스트럭처드 ASIC에 따라 마스크 셋들의 일부분을 웨이퍼에 리소그래피 하는데 사용하는 서로 다른 N(N은 M보다 작거나 같은 2 이상의 자연수) 개의 마스킹 마스크를 제작한다. N 개의 마스킹 마스크 중 제1 내지 제N 마스킹 마스크와 제1 내지 제N 마스킹 마스크에 대응하는, M 개의 마스크 셋에서 제1 내지 제N 마스크 셋을 제1 내지 제N 마스크 쌍으로 하고, 제1 마스크 쌍을 사용하여 제1 마스크 셋의 일부분을 웨이퍼에 선택적으로 리소그래피 한다. 제2 내지 제N 마스크 쌍을 사용하여 제2 내지 제N 마스크 셋의 일부분을 웨이퍼에 선택적으로 리소그래피 한다.
Abstract:
PURPOSE: A power gating circuit and an integrated circuit including the same are provided to reduce the length of wire with respect to a mode controlling signal by utilizing a virtual power voltage as the mode controlling signal. CONSTITUTION: A logic circuit(110) performs a pre-set logic operation. The logic circuit is connected between a first power rail(VDD) and a virtual power rail(VPR). A switching unit(120) selectively connects the virtual power rail with a second power rail(VSS). A retention flip-flop(130) receives the power of the virtual power rail as a controlling signal. The retention flip-flop selectively performs a flip-flop operation or a data retention operation.
Abstract:
The present invention relates to a modeling method which estimates delay time and output time of a gate when a body bias voltage is applied. A method of modeling the delay time or the output time of the gate according to the present invention includes a step of selecting a first gate among a plurality of gates; a step of determining the structure of the selected first gate; a step of generating the delay time ratio or the output time ratio of the selected first gate according to the determination result; and a step of calculating the delay time or the output time of a second gate when the body bias voltage is applied based on the delay time or the output time of the second gate among the generated delay time ratio or the output time ratio and the gates. [Reference numerals] (110) First delay time table; (120) Delay time ratio table; (130) Second delay time table
Abstract:
A method for transforming flip-flop is provided to satisfy timing condition by reducing a leakage current of a cycle circuit. A method for transforming flip-flop comprises the following steps: a step for replacing a plurality of original flip-flops with an asymmetry flip-flop showing the least leakage characteristic based on a stochastic leakage from among a first through a fourth asymmetry flip-flops; a step for producing a path graph to find the asymmetry flip-flop violated to a timing condition in a sequential circuit including replaced asymmetry flip-flops; a step for performing a timing analysis about a generated path graph(S620); a step for judging a path delay violating the timing condition based on a analyzed timing; a step for discovering a candidate asymmetry flip-flop inducing violation of the timing condition on the path delay; and a step for replacing the candidate asymmetry flip-flop with a flip-flop having a better timing characteristics.
Abstract:
PURPOSE: A layer lithography method for a structured ASIC(Application Specific Integrated Circuit), a designing method, a selectively patterned mask set, and a masking mask are provided to reduce manufacturing costs by selecting and arranging a plurality of tiles according to the design property by using the selectively patterned mask and masking mask. CONSTITUTION: M mask sets are made for lithographing a layer of a structured ASIC(S10). N masking masks are made for lithographing the part of mask sets on a wafer according to the previously designed structured ASIC(S20). The part of the first mask set is selectively lithographed on a wafer by using the first mask pair(S40). The part of the second to N-th mask sets is selectively lithographed on the wafer by using the second to N-th mask pairs(S50).
Abstract:
누설 전류를 감소시킬 수 있는 비대칭 플립플롭이 개시된다. 비대칭 플립플롭은 마스터 단 및 슬레이브 단을 포함한다. 마스터 단은 클럭 신호가 하이 레벨일 때, 입력 데이터를 래치한다. 슬레이브 단은 클럭 신호가 로우 레벨일 때, 마스터 단에 래치되어 있던 입력 데이터를 전달 받아 출력으로 제공한다. 마스터 단은, 입력 데이터 값에 따라 게이트 길이가 바이어스(gate-length bias)된 트랜지스터들을 선택적으로 구비하는 1군의 인버터들을 포함하고, 슬레이브 단은 상기 출력 값에 따라 게이트 길이가 바이어스된 트랜지스터들을 선택적으로 구비하는 제2 군의 인버터들을 포함한다.
Abstract:
An asymmetric flip-flop for reducing a leakage current is provided to reduce a leakage current by selectively increasing a gate length of transistor as a leakage source based on an input signal, an output signal and a pulse signal. An asymmetric flip-flop for reducing a leakage current includes a master terminal(210), and a slave terminal(260). The master terminal latches input data when a clock signal is a first level. The slave terminal receives and outputs the input data latched to the master terminal when the clock signal is a second level. The master terminal includes a first group of inverters(220,230,240,250). The inverters selectively have transistors with a gate-length bias in response to the input data value. The slave terminal has a second group of inverters(270,280,290). The inverters selectively have transistors with a gate-length bias in response to the output value.