Abstract:
PURPOSE: A sensor with a nanochannel structure and a manufacturing method thereof are provided to manufacture a channel for the sensor by applying an ion bombardment phenomenon caused by physical ion etching, thereby manufacturing the ultra-fine nanochannel structure having various line widths and shapes at low costs through a simple process simultaneously with a line width of a maximum 10nm level. CONSTITUTION: A manufacturing method of a sensor with a nanochannel structure is as follows. A target material layer and a polymer layer are successively formed on a substrate(10). A lithographic process is performed on the polymer layer so that a patterned polymer structure is formed. The target material layer is ion-etched so that a target material-polymer composite structure(25) in which the ion-etched target material is attached on the outer circumference of the polymer structure. A polymer of the target material-polymer composite structure is removed so that the nanochannel structure is manufactured on the substrate.
Abstract:
본 발명은 나노채널 구조체를 구비하는 센서 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 패턴화된 고분자 구조체의 외주면에 물리적 이온 식각공정을 통한 이온 봄바드먼트(ion bombardment) 현상을 적용하여 목적물질을 부착시킨 목적물질-고분자 복합구조체를 형성시킨 다음, 상기 목적물질-고분자 복합구조체의 고분자를 제거하여 나노채널 구조체를 제조하고, 상기 제조된 나노채널 구조체를 적용함으로써 센서의 감응성을 향상시킨 나노채널 구조체를 구비하는 센서 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 물리적 이온 식각을 통한 이온 봄바드먼트 현상을 적용하여 센서용 채널을 제조함으로써 간단한 공정과 저렴한 비용으로 다양한 선폭과 형태를 가지는 동시에 최대 10nm 수준의 선폭을 가지는 극미세 나노채널 구조체를 제조할 수 있어 뛰어난 감응성을 요하는 센서에 유용하게 사용할 수 있다.